[發明專利]線圈組件及其制造方法

有效

• 申請號: 201810076810.3
• 申請日: 2018-01-26
• 公開（公告）號: CN108987039B
• 公開（公告）日: 2021-10-29
• 發明（設計）人: 柳正杰;文炳喆;金范錫;奉康昱;張振赫
• 申請（專利權）人: 三星電機株式會社
• 主分類號: H01F17/04
• 分類號: H01F17/04;H01F27/28;H01F27/30;H01F27/32;H01F41/04
• 代理公司: 北京銘碩知識產權代理有限公司 11286
• 代理人: 汪喆;韓芳

公開了一種線圈組件及其制造方法。所述線圈組件包括：支撐構件；以及線圈圖案，設置在所述支撐構件的至少一個表面上。所述線圈圖案包括第一線圈層和設置在所述第一線圈層上的第二線圈層。所述第二線圈層包括具有與所述第一線圈層的寬度相同的寬度的下區域以及具有比所述第一線圈層的寬度大的寬度的上區域。

本申請要求于2017年6月5日在韓國知識產權局提交的第10-2017-0069757號韓國專利申請的優先權的權益，所述韓國專利申請的公開內容通過引用全部包含于此。

技術領域

本公開涉及一種線圈組件以及一種制造該線圈組件的方法。

背景技術

根據在諸如智能手機和平板個人計算機(PC)等的便攜式裝置的性能方面的改進，顯示屏已經增大了尺寸，從而需要更快的應用處理器(AP)。同時，由于雙核處理器或四核處理器的使用，增大了功耗。因此，主要用在直流(DC)到DC轉換器和噪聲濾波器等中的薄膜型電感器需要具有高電感值和低DC電阻。

另外，根據信息技術(IT)的發展，各種電子裝置的小型化和薄型化已經加速。因此，用在這些電子裝置中的薄膜型電感器的小型化和薄型化也已經被持續需要。

根據這樣的趨勢，已經持續進行各種嘗試以提供具有均勻且具備高的高寬比的線圈圖案的薄膜型電感器。

發明內容

本公開的一方面提供了一種具有高的高寬比和穩定的結構的線圈組件以及一種制造該線圈組件的方法。

根據本公開的一方面，一種線圈組件包括：支撐構件；以及線圈圖案，設置在所述支撐構件的至少一個表面上。所述線圈圖案包括第一線圈層和設置在所述第一線圈層上的第二線圈層。所述第二線圈層包括具有與所述第一線圈層的寬度相同的寬度的下區域以及具有比所述第一線圈層的寬度大的寬度的上區域。

根據本公開的另一方面，一種制造線圈組件的方法包括：準備支撐構件；在所述支撐構件的至少一個表面上形成金屬層；以及在所述金屬層上形成第一抗蝕劑。所述第一抗蝕劑具有開口圖案，開口圖案具有線圈形狀。所述方法還包括在所述第一抗蝕劑上形成第二抗蝕劑。第二抗蝕劑具有第二開口圖案，所述第二開口圖案具有比所述第一開口圖案的寬度大的寬度并且具有線圈形狀。所述方法還包括在所述第一開口圖案和所述第二開口圖案中設置導電金屬以及通過去除所述第一抗蝕劑和所述第二抗蝕劑以及所述金屬層的設置在所述第一抗蝕劑下面的區域來形成線圈圖案。

附圖說明

通過下面結合附圖進行的詳細描述，將更清楚地理解本公開的以上和其他方面、特征和優點，在附圖中：

圖1是示出根據本公開的實施例的線圈組件的示意性透視圖；

圖2是示出根據本公開的實施例的線圈組件的示意性透視圖，使得線圈組件的線圈圖案是可見的；

圖3是沿圖2的線I-I'截取的示意性截面圖；

圖4是示出根據本公開的另一實施例的線圈組件的示意性截面圖；

圖5A和圖5B是示出圖4的線圈組件的多個變型示例的示圖；

圖6A至圖6H是示出使用根據本公開的實施例的制造線圈組件的方法在制造圖1的線圈組件的各階段時的線圈組件的示圖；

圖7A至圖7I是示出使用根據本公開的另一實施例的制造線圈組件的方法在制造圖1的線圈組件的各階段時的線圈組件的示圖。

具體實施方式

以下，將參照附圖來描述本公開的實施例。在附圖中，為了清楚起見，可夸大或縮小組件的形狀和尺寸等。

然而，本公開可以以許多不同的形式來例示并且不應解釋為局限于在這里闡述的特定實施例。更確切的說，提供這些實施例使得本公開將是徹底的且完整的，并且將向本領域技術人員充分地傳達公開的范圍。