[發(fā)明專利]基板處理裝置、模擬分配方法和計(jì)算機(jī)可讀取記錄介質(zhì)

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810076767.0
• 申請(qǐng)日: 2018-01-26
• 公開（公告）號(hào): CN108355869B
• 公開（公告）日: 2021-06-29
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 久保田稔;山中晉一郎
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社
• 主分類號(hào): B05B13/02
• 分類號(hào): B05B13/02;B05B12/00;B05B12/32;G03F7/20
• 代理公司: 北京尚誠(chéng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11322
• 代理人: 龍淳

1.一種基板處理裝置，其特征在于，具備：

保持基板并且使其旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)保持部；

構(gòu)成為從上側(cè)噴嘴對(duì)所述基板的表面供給液體的第一供給部；

包圍由所述旋轉(zhuǎn)保持部保持的所述基板的周圍并且接收從所述第一供給部供給的液體的杯體；和

控制部，

其中，所述杯體具有外周壁，該外周壁防止從由所述旋轉(zhuǎn)保持部保持并且旋轉(zhuǎn)的所述基板甩出的液體的飛散，

所述控制部控制所述第一供給部，執(zhí)行從所述上側(cè)噴嘴將處理液模擬分配到所述外周壁和所述旋轉(zhuǎn)保持部之間的內(nèi)側(cè)區(qū)域的模擬分配處理，

在所述內(nèi)側(cè)區(qū)域設(shè)置了傾斜面，該傾斜面的最高處與所述旋轉(zhuǎn)保持部的卡盤的基板支承面相比位于下方，在執(zhí)行所述模擬分配處理時(shí)，使所述上側(cè)噴嘴移動(dòng)到所述傾斜面的上方，從所述上側(cè)噴嘴對(duì)所述傾斜面排出處理液。

2.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于：

所述控制部控制所述第一供給部，執(zhí)行在所述上側(cè)噴嘴的排出口與所述杯體的上端相比位于下方或與所述旋轉(zhuǎn)保持部的卡盤的基板支承面相比位于下方的狀態(tài)下，從所述上側(cè)噴嘴將液體模擬分配的處理。

3.如權(quán)利要求1或2所述的裝置，其特征在于：

在所述杯體的外周面，設(shè)置有在上方所述上側(cè)噴嘴能夠待機(jī)的液體接收部。

4.如權(quán)利要求1或2所述的裝置，其特征在于：

還具備構(gòu)成為對(duì)所述杯體內(nèi)進(jìn)行排氣的排氣部，

所述第一供給部具有：

對(duì)所述基板的表面供給處理液的處理液噴嘴；

對(duì)所述基板的表面供給清洗液的清洗液噴嘴；

使設(shè)置有所述處理液噴嘴的第一臂移動(dòng)的第一驅(qū)動(dòng)部；和

使設(shè)置有所述清洗液噴嘴的第二臂移動(dòng)的第二驅(qū)動(dòng)部，

所述控制部控制所述第一供給部和所述排氣部，利用所述排氣部將所述杯體內(nèi)進(jìn)行排氣，并且執(zhí)行：

通過利用所述第一驅(qū)動(dòng)部使所述第一臂移動(dòng)而使所述處理液噴嘴位于所述內(nèi)側(cè)區(qū)域的第一處理；

通過利用所述第二驅(qū)動(dòng)部使所述第二臂移動(dòng)而使所述清洗液噴嘴位于所述內(nèi)側(cè)區(qū)域的第二處理；和

在所述第一處理和第二處理之后，從所述處理液噴嘴和所述清洗液噴嘴分別將處理液和清洗液進(jìn)行模擬分配的第三處理。

5.如權(quán)利要求4所述的裝置，其特征在于：

所述控制部在所述第一處理中通過利用所述第一驅(qū)動(dòng)部使所述第一臂移動(dòng)而使所述處理液噴嘴位于所述內(nèi)側(cè)區(qū)域中的規(guī)定的第一區(qū)域，

所述控制部在所述第二處理中通過利用所述第二驅(qū)動(dòng)部使所述第二臂移動(dòng)而使所述清洗液噴嘴位于所述內(nèi)側(cè)區(qū)域中隔著所述旋轉(zhuǎn)保持部與所述第一區(qū)域相反側(cè)的第二區(qū)域。

6.如權(quán)利要求5所述的裝置，其特征在于：

所述第一區(qū)域?yàn)樗鰞?nèi)側(cè)區(qū)域中與所述旋轉(zhuǎn)保持部相比靠所述處理液噴嘴和所述清洗液噴嘴在所述杯體外待機(jī)的待機(jī)位置的區(qū)域，

所述第二區(qū)域?yàn)樗鰞?nèi)側(cè)區(qū)域中與所述旋轉(zhuǎn)保持部相比離所述待機(jī)位置遠(yuǎn)的一側(cè)的區(qū)域。

7.如權(quán)利要求4所述的裝置，其特征在于：

所述第一供給部具有向所述基板的表面供給干燥氣體并且設(shè)置在所述第二臂的氣體噴嘴，

所述控制部控制所述旋轉(zhuǎn)保持部和所述第一供給部，執(zhí)行在使所述旋轉(zhuǎn)保持部的卡盤旋轉(zhuǎn)的狀態(tài)下，利用所述第二驅(qū)動(dòng)部使所述第二臂移動(dòng)以使得所述氣體噴嘴通過所述卡盤的上方，并且從所述氣體噴嘴向所述卡盤供給干燥氣體的第四處理。