[發明專利]一種基板固定載具、蒸鍍設備及蒸鍍方法

有效

• 申請號: 201810074497.X
• 申請日: 2018-01-25
• 公開（公告）號: CN108203812B
• 公開（公告）日: 2020-02-07
• 發明（設計）人: 劉錦東;范超龍;劉樂;楊小翠
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;鄂爾多斯市源盛光電有限責任公司
• 主分類號: C23C14/50
• 分類號: C23C14/50;C23C14/04;C23C14/24
• 代理公司: 11274 北京中博世達專利商標代理有限公司
• 代理人: 申健

本發明公開一種基板固定載具、蒸鍍設備及蒸鍍方法，涉及蒸鍍技術領域，以提高蒸鍍過程的效率，并提高對待蒸鍍基板進行蒸鍍后的良率。該基板固定載具包括支撐框架和冷卻板，支撐框架中部具有中空區域，支撐框架對應于中空區域的內壁上設置有支撐部；冷卻板與支撐框架可相向移動，冷卻板與支撐框架相向移動時，冷卻板落入中空區域內，冷卻板的邊緣與支撐部相對；對待蒸鍍基板蒸鍍時，待蒸鍍基板位于中空區域內，待蒸鍍基板的邊緣位于支撐部上，待蒸鍍基板呈長方形結構，冷卻板對應于待蒸鍍基板的長邊的邊緣與對應的支撐部之間的間距大于或等于待蒸鍍基板的厚度，冷卻板對應于待蒸鍍基板的短邊的邊緣與對應的支撐部之間的間距小于待蒸鍍基板的厚度。

技術領域

本發明涉及蒸鍍技術領域，尤其涉及一種基板固定載具、蒸鍍設備及蒸 鍍方法。

背景技術

蒸發鍍膜法(簡稱蒸鍍法)是通過蒸鍍源對蒸鍍材料進行加熱，使蒸鍍 材料的原子或分子從其表面氣化逸出形成蒸汽流，入射到待蒸鍍基板表面， 凝結形成固態薄膜的方法。蒸鍍法已經廣泛應用于顯示器件的制作過程，例 如OLED顯示面板的陰極、陽極以及位于陰極和陽極之間的發光材料層。

現有的蒸鍍設備通常包括掩膜版載具和位于掩膜版載具上方的基板固定 載具，其中，基板固定載具包括冷卻板和具有中空區域的支撐框架，支撐框 架上對應于中空區域的內壁設置有支撐部，冷卻板位于支撐框架上方，且冷 卻板與支撐框架可相向移動，冷卻板與支撐框架相向移動時，冷卻板落入中 空區域內，且冷卻板的邊緣與支撐部相對。當對待蒸鍍基板進行蒸鍍時，待 蒸鍍基板位于支撐框架的中空區域內，待蒸鍍基板的邊緣位于支撐部上，使 支撐框架與冷卻板相向移動，以對待蒸鍍基板的邊緣進行夾持。

目前，支撐框架與冷卻板對待蒸鍍基板進行夾持時，通常使冷卻板的邊 緣的各部位與對應的支撐部之間的間距(Finger Gap)均保持一致，且該間距 通常小于待蒸鍍基板的厚度，此時，待蒸鍍基板的邊緣各部位均處于被夾緊 的狀態，待蒸鍍基板在平行于該待蒸鍍基板的各方向上均保持張緊狀態，而 在現有的蒸鍍設備中，位于基板固定載具下方的掩膜版載具并不對掩膜版夾 緊，只是對掩膜版進行支撐，因而安裝在掩膜版載具上的掩膜版通常在平行 于該掩膜版的各方向上均保持松弛狀態，即掩膜版處于自然下垂的狀態，因此，對于呈長方形的待蒸鍍基板來說，掩膜版也呈長方形，待蒸鍍基板在平 行于該待蒸鍍基板的各方向上均保持張緊狀態，而掩膜版在平行于該掩膜版 的各方向上均保持松弛狀態時，后續對待蒸鍍基板與掩膜版進行對位時，由 于待蒸鍍基板的下垂方向以及下垂量均與掩膜版不同，因而通常需要多次進 行對位操作，造成蒸鍍過程的效率降低，且由于待蒸鍍基板的下垂方向以及 下垂量均與掩膜版不同，因而待蒸鍍基板與掩膜版難以精確對準，造成對待 蒸鍍基板進行蒸鍍后的良率降低。

發明內容

本發明的目的在于提供一種基板固定載具，用于提高蒸鍍過程的效率， 并提高對待蒸鍍基板進行蒸鍍后的良率。

為了實現上述目的，本發明提供如下技術方案：

一種基板固定載具，包括支撐框架和位于所述支撐框架上方的冷卻板， 所述支撐框架中部具有中空區域，所述支撐框架對應于所述中空區域的內壁 上設置有支撐部；所述冷卻板與所述支撐框架可相向移動，所述冷卻板與所 述支撐框架相向移動時，所述冷卻板落入所述中空區域內，且所述冷卻板的 邊緣與所述支撐部相對；

對待蒸鍍基板蒸鍍時，待蒸鍍基板位于所述中空區域內，待蒸鍍基板的 邊緣位于所述支撐部上，待蒸鍍基板呈長方形結構，所述冷卻板對應于待蒸 鍍基板的長邊的邊緣與對應的所述支撐部之間的間距大于或等于待蒸鍍基板 的厚度，所述冷卻板對應于待蒸鍍基板的短邊的邊緣與對應的所述支撐部之 間的間距小于待蒸鍍基板的厚度。

優選地，所述冷卻板對應于待蒸鍍基板的長邊的邊緣與對應的所述支撐 部之間的間距G₁為：其中，D_Glass為待蒸鍍基板 的厚度；