[發明專利]一種基板固定載具、蒸鍍設備及蒸鍍方法

有效

• 申請號: 201810074497.X
• 申請日: 2018-01-25
• 公開（公告）號: CN108203812B
• 公開（公告）日: 2020-02-07
• 發明（設計）人: 劉錦東;范超龍;劉樂;楊小翠
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;鄂爾多斯市源盛光電有限責任公司
• 主分類號: C23C14/50
• 分類號: C23C14/50;C23C14/04;C23C14/24
• 代理公司: 11274 北京中博世達專利商標代理有限公司
• 代理人: 申健

1.一種基板固定載具，其特征在于，包括支撐框架和位于所述支撐框架上方的冷卻板，所述支撐框架中部具有中空區域，所述支撐框架對應于所述中空區域的內壁上設置有支撐部；所述冷卻板與所述支撐框架可相向移動，所述冷卻板與所述支撐框架相向移動時，所述冷卻板落入所述中空區域內，且所述冷卻板的邊緣與所述支撐部相對；

對待蒸鍍基板蒸鍍時，待蒸鍍基板位于所述中空區域內，待蒸鍍基板的邊緣位于所述支撐部上，待蒸鍍基板呈長方形結構，所述冷卻板對應于待蒸鍍基板的長邊的邊緣與對應的所述支撐部之間的間距大于或等于待蒸鍍基板的厚度，所述冷卻板對應于待蒸鍍基板的短邊的邊緣與對應的所述支撐部之間的間距小于待蒸鍍基板的厚度。

2.根據權利要求1所述的基板固定載具，其特征在于，

所述冷卻板對應于待蒸鍍基板的長邊的邊緣與對應的所述支撐部之間的間距G₁為：其中，D_Glass為待蒸鍍基板的厚度；

所述冷卻板對應于待蒸鍍基板的短邊的邊緣與對應的所述支撐部之間的間距G₂為：

3.根據權利要求2所述的基板固定載具，其特征在于，

所述冷卻板對應于待蒸鍍基板的長邊的邊緣與對應的所述支撐部之間的間距G₁為：

所述冷卻板對應于待蒸鍍基板的短邊的邊緣與對應的所述支撐部之間的間距G₂為：

4.根據權利要求3所述的基板固定載具，其特征在于，待蒸鍍基板的厚度為0.5mm，所述冷卻板對應于待蒸鍍基板的長邊的邊緣與對應的所述支撐部之間的間距G₁為0.6mm～0.7mm，所述冷卻板對應于待蒸鍍基板的短邊的邊緣與對應的所述支撐部之間的間距G₂為0.25mm～0.3mm。

5.根據權利要求4所述的基板固定載具，其特征在于，所述冷卻板對應于待蒸鍍基板的長邊的邊緣與對應的所述支撐部之間的間距G₁為0.7mm，所述冷卻板對應于待蒸鍍基板的短邊的邊緣與對應的所述支撐部之間的間距G₂為0.3mm。

6.一種蒸鍍設備，其特征在于，所述蒸鍍設備包括如權利要求1～5任一所述的基板固定載具。

7.根據權利要求6所述的蒸鍍設備，其特征在于，所述蒸鍍設備還包括掩膜版載具，所述掩膜版載具位于所述基板固定載具的下方，所述掩膜版載具用于承載掩膜版。

8.一種應用于如權利要求6～7任一所述的蒸鍍設備的蒸鍍方法，其特征在于，包括：

將待蒸鍍基板放置在基板固定載具中支撐框架的中空區域內，待蒸鍍基板的邊緣位于所述支撐框架上對應的支撐部上；

使所述基板固定載具中支撐框架與冷卻板相向移動，所述冷卻板對應于待蒸鍍基板的長邊的邊緣與對應的所述支撐部之間的間距大于或等于待蒸鍍基板的厚度，所述冷卻板對應于待蒸鍍基板的短邊的邊緣與對應的所述支撐部之間的間距小于待蒸鍍基板的厚度。

9.根據權利要求8所述的蒸鍍方法，其特征在于，所述蒸鍍方法還包括：

將掩膜版安裝在掩膜版載具上。

10.根據權利要求9所述的蒸鍍方法，其特征在于，所述蒸鍍方法還包括：

對待蒸鍍基板與掩膜版進行對位。