[發明專利]抗蝕劑墊層組成物和使用所述組成物形成圖案的方法有效
| 申請號: | 201810067086.8 | 申請日: | 2018-01-24 |
| 公開(公告)號: | CN108388079B | 公開(公告)日: | 2021-09-28 |
| 發明(設計)人: | 裵信孝;權純亨;樸賢;白載烈;周范俊;崔有廷;韓權愚 | 申請(專利權)人: | 三星SDI株式會社 |
| 主分類號: | G03F7/004 | 分類號: | G03F7/004;G03F7/115 |
| 代理公司: | 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205 | 代理人: | 李艷;臧建明 |
| 地址: | 韓國京畿道龍仁*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 抗蝕劑 墊層 組成 使用 形成 圖案 方法 | ||
1. 一種抗蝕劑墊層組成物,其特征在于,包括:
包含由化學式1和化學式2表示的部分的聚合物;以及
溶劑,
[化學式1]
其中,在化學式1中,
B是由化學式Z表示的二價基團、氧、經取代或未經取代的C1到C30亞烷基、經取代或未經取代的C1到C30亞雜烷基、經取代或未經取代的C3到C30亞環烷基或其組合,
Y和Y'獨立地是單鍵、氧、羰基、-(CH2)O-、-(CH2)S-、-(CH2)NH-或其組合,R2到R9獨立地是氫、鹵素、經取代或未經取代的乙烯基、經取代或未經取代的C1到C10烷氧基、經取代或未經取代的C1到C30烷基、經取代或未經取代的C2到C30烯基、經取代或未經取代的C2到C30炔基、經取代或未經取代的C6到C30芳基、經取代或未經取代的C1到C30雜烷基、經取代或未經取代的C2到C30雜芳基或其組合,
a、b、c以及d獨立地是0到100范圍內的整數,其限制條件是a和b的總和大于或等于1以及c和d的總和大于或等于1,且
* 是連接點,
[化學式Z]
其中在化學式Z中,
A是經取代或未經取代的芳香族環基團、經取代或未經取代的脂肪族環基團、經取代或未經取代的雜芳香族環基團、經取代或未經取代的雜脂肪族環基團或其組合,
X是氫、羥基、經取代或未經取代的C1到C10烷氧基、鹵素、經取代或未經取代的C1到C30烷基、經取代或未經取代的C2到C30烯基、經取代或未經取代的C2到C30炔基、經取代或未經取代的C6到C30芳基、經取代或未經取代的C6到C30雜芳基、經取代或未經取代的乙烯基或其組合,且
*是連接點:
[化學式2]
其中在化學式2中,R1是經取代或未經取代的C3到C30亞環烷基、經取代或未經取代的C6到C30亞芳基、由化學式B表示的基團或其組合,且*是連接點:
[化學式B]
其中在化學式B中,
G和G'獨立地是羥基、經取代或未經取代的C1到C10烷氧基、鹵素、經取代或未經取代的C1到C30烷基、經取代或未經取代的C2到C30烯基、經取代或未經取代的C2到C30炔基、經取代或未經取代的C6到C30芳基、經取代或未經取代的C6到C30雜芳基、經取代或未經取代的乙烯基或其組合,
m和n中的每一個獨立地是1到10范圍內的整數,且
* 是連接點,
其中所述經取代為指氫原子通過選自以下的取代基置換:羥基、硫醇基或C2到C20烯基。
2.根據權利要求1所述的抗蝕劑墊層組成物,其中在化學式Z中,X是經取代或未經取代的C1到C10烷基、經取代或未經取代的C2到C30烯基或經取代或未經取代的C2到C30炔基。
3.根據權利要求1所述的抗蝕劑墊層組成物,其中在化學式Z中,A是包含至少一個雜原子的芳香族基團或脂肪族環基團。
4.根據權利要求3所述的抗蝕劑墊層組成物,其中在化學式Z中,X與A中所包含的雜原子鍵聯。
5.根據權利要求1所述的抗蝕劑墊層組成物,其中所述聚合物的重量平均分子量是1,000到100,000。
6.根據權利要求1所述的抗蝕劑墊層組成物,其中所述抗蝕劑墊層組成物還包含具有兩個或更多個交聯位點的交聯劑。
7.根據權利要求1所述的抗蝕劑墊層組成物,其中所述抗蝕劑墊層組成物還包含添加劑,所述添加劑為表面活性劑、熱酸產生劑和塑化劑或其組合。
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