[發(fā)明專利]用于改善的對(duì)比分辨度的化學(xué)機(jī)械拋光在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810066844.4 | 申請(qǐng)日: | 2018-01-23 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN108372460A | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-08-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | A·P·拉貝 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 通用汽車(chē)環(huán)球科技運(yùn)作有限責(zé)任公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | B24B37/10 | 分類(lèi)號(hào): | B24B37/10;B24B37/04 |
| 代理公司: | 廣州嘉權(quán)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 44205 | 代理人: | 譚英強(qiáng) |
| 地址: | 美國(guó)密*** | 國(guó)省代碼: | 美國(guó);US |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 膠態(tài)二氧化硅 腐蝕性物質(zhì) 化學(xué)機(jī)械拋光 金剛石拋光 鋁合金制品 鋁基體材料 表面去除 精細(xì)拋光 研磨 懸浮液 分辨 關(guān)聯(lián) | ||
本公開(kāi)提供了一種具有改善的表面對(duì)比度的鋁合金制品以及相關(guān)聯(lián)的方法。方法包括對(duì)制品的表面進(jìn)行研磨以及金剛石拋光,并通過(guò)包含膠態(tài)二氧化硅及腐蝕性物質(zhì)的懸浮液對(duì)表面進(jìn)行精細(xì)拋光來(lái)將α?鋁基體材料從表面去除,其中腐蝕性物質(zhì)的pH值高于膠態(tài)二氧化硅的pH值。
技術(shù)領(lǐng)域
本公開(kāi)涉及一種用于鋁合金的表面的機(jī)械化學(xué)拋光方法以及通過(guò)該方法形成的制品。
背景技術(shù)
通常對(duì)由鋁合金(例如,包含鋁和硅的合金)形成的制品進(jìn)行多步驟拋光處理,以對(duì)其表面進(jìn)行拋光。該處理可包括機(jī)械平面研磨、精細(xì)研磨以及精細(xì)拋光。通常而言,拋光處理完成后,對(duì)制品的表面進(jìn)行顯微分析,以確定該制品的質(zhì)量及可靠性。例如,對(duì)制品的表面進(jìn)行檢查,以檢測(cè)缺陷及裂紋。
拋光處理中的各子步驟通常有助于修補(bǔ)先前子步驟所造成的損壞。例如,對(duì)于某些合金(例如,鋁-硅合金)而言,鋁會(huì)在拋光處理期間發(fā)生塑性變形,從而導(dǎo)致沿著制品的表面涂抹有α-鋁基體顆粒。所涂抹的α-鋁基體材料融入裂縫中,進(jìn)而導(dǎo)致初生硅顆粒內(nèi)以及硅顆粒與鋁之間幾乎沒(méi)有對(duì)比,從而導(dǎo)致難以分析表面的特性,例如,裂縫及缺陷等。
發(fā)明內(nèi)容
本公開(kāi)提供了一種增強(qiáng)合金顆粒(例如,初生硅顆粒)與鋁之間的視覺(jué)對(duì)比分辨度以提高對(duì)鋁合金表面的金相圖像分析測(cè)量的準(zhǔn)確度的金相化學(xué)機(jī)械拋光方法。
在一個(gè)可與本文所提供的其他示例及特征相結(jié)合或相分離的示例中,提供了拋光包括鋁合金的制品的方法。方法包括對(duì)制品的表面進(jìn)行平面研磨,以及通過(guò)多個(gè)具有第一金剛石片尺寸的第一金剛石片對(duì)制品的表面進(jìn)行精細(xì)研磨。方法進(jìn)一步包括通過(guò)多個(gè)具有第二金剛石片尺寸的第二金剛石片對(duì)制品的表面進(jìn)行金剛石拋光。第二金剛石片尺寸小于第一金剛石片尺寸。方法還包括通過(guò)包含膠態(tài)二氧化硅及腐蝕性物質(zhì)的懸浮液對(duì)制品的表面進(jìn)行精細(xì)拋光。腐蝕性物質(zhì)的pH值高于膠態(tài)二氧化硅的pH值。
在另一可與本文所提供的其他示例及特征相結(jié)合或相分離的示例中,提供了拋光包括鋁合金的制品的方法。方法包括對(duì)制品的表面進(jìn)行研磨,并隨后對(duì)該制品的表面進(jìn)行金剛石拋光。方法還包括通過(guò)包含膠態(tài)二氧化硅及腐蝕性物質(zhì)的懸浮液對(duì)表面進(jìn)行精細(xì)拋光來(lái)將α-鋁基體材料從該表面去除。腐蝕性物質(zhì)的pH值高于膠態(tài)二氧化硅的pH值。
可提供其他特征,包括但不限于以下特征:腐蝕性物質(zhì)以約0.5重量百分比至約3重量百分比的量存在于膠態(tài)二氧化硅懸浮液中;腐蝕性物質(zhì)包括氫氧化鉀和/或氫氧化鈉;腐蝕性物質(zhì)以約2重量百分比的量存在于懸浮液中;方法進(jìn)一步包括在第一金剛石懸浮液潤(rùn)滑劑中提供第一多個(gè)金剛石片,以及在第二金剛石懸浮液潤(rùn)滑劑中提供第二多個(gè)金剛石片;第一金剛石片尺寸約為9μm,且第二金剛石片尺寸約為3μm;平面研磨步驟通過(guò)具有在約200至約500粒度之間的范圍內(nèi)的粒度的研磨劑進(jìn)行執(zhí)行;方法進(jìn)一步包括執(zhí)行時(shí)間約為2分鐘的平面研磨步驟、時(shí)間約為4分鐘的精細(xì)研磨步驟、時(shí)間約為4分鐘的金剛石拋光步驟以及時(shí)間約為1分鐘的精細(xì)拋光步驟;方法進(jìn)一步包括分析表面來(lái)識(shí)別鋁與硅顆粒之間以及硅顆粒內(nèi)的對(duì)比度;且研磨步驟包括執(zhí)行平面研磨子步驟來(lái)對(duì)制品的表面進(jìn)行平面研磨,并隨后執(zhí)行精細(xì)研磨子步驟來(lái)通過(guò)金剛石顆粒對(duì)制品的表面進(jìn)行精細(xì)研磨。
提供了包括鋁-硅合金的制品,其由本文所公開(kāi)的方法的任一變型形成。
附圖說(shuō)明
附圖僅僅是為了闡述的目的,其并不旨在限制本公開(kāi)或本公開(kāi)所附的權(quán)利要求書(shū)。
圖1是示出了根據(jù)本公開(kāi)原理的由鋁合金形成并正在進(jìn)行平面研磨處理的制品的示意性側(cè)視圖;
圖2是示出了根據(jù)本公開(kāi)原理的拋光包括鋁合金的制品的方法的框圖;
圖3是示出了根據(jù)本公開(kāi)原理的圖1的正在進(jìn)行精細(xì)研磨處理的制品的示意性側(cè)視圖;
圖4是示出了根據(jù)本公開(kāi)原理的圖1和圖3的正在進(jìn)行金剛石拋光處理的制品的示意性側(cè)視圖;
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