[發明專利]一種功能預置精對苯二甲酸的制備方法在審
| 申請號: | 201810065077.5 | 申請日: | 2018-01-23 |
| 公開(公告)號: | CN108341938A | 公開(公告)日: | 2018-07-31 |
| 發明(設計)人: | 李琪;龐學松;范艷蘋;凌榮根;張芳 | 申請(專利權)人: | 浙江省現代紡織工業研究院 |
| 主分類號: | C08G63/78 | 分類號: | C08G63/78;C08G63/183;C08K9/00;C08K9/04;C08K7/00;C08K7/10;C08K3/22;D01F6/84;D01F1/07 |
| 代理公司: | 北京智橋聯合知識產權代理事務所(普通合伙) 11560 | 代理人: | 侯桂麗 |
| 地址: | 312081 浙江省紹興市*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 精對苯二甲酸 預置 打漿 功能預置 固液分離 阻燃劑 制備 洗滌 粗對苯二甲酸漿料 六偏磷酸鈉水溶液 醋酸 等離子體處理 亞磷酸水溶液 鎳鋁尖晶石 碳化硅晶須 有機硅改性 分離干燥 混合研磨 加氫精制 片鈉鋁石 水熱反應 改性液 高氯酸 再研磨 晶須 霧化 阻燃 煅燒 過濾 融合 | ||
1.一種功能預置精對苯二甲酸的制備方法,包括如下步驟:
(1)將碳化硅晶須、鎳鋁尖晶石、片鈉鋁石晶須與高氯酸水溶液、亞磷酸水溶液混合研磨,然后進行水熱反應后霧化分離干燥,煅燒,再研磨,等離子體處理,有機硅改性,過濾,洗滌,干燥,制得預置阻燃劑;
(2)將醋酸、水、六偏磷酸鈉水溶液和步驟(1)所得預置阻燃劑,混合,打漿分散制得專用改性液,與粗對苯二甲酸漿料融合,結晶,然后固液分離后洗滌,干燥,打漿,再固液分離后加氫精制,制得預置精對苯二甲酸。
2.根據權利要求1所述的制備方法,其特征在于,步驟(1)中混合時各組分按重量份數計含量如下:碳化硅晶須0.2-0.4份、鎳鋁尖晶石0.1-0.2份、片鈉鋁石晶須1.0-1.8份、高氯酸水溶液10-18份、亞磷酸水溶液2-5份;
優選地,高氯酸水溶液的質量分數為2-4%;
優選地,亞磷酸水溶液的質量分數為2-4%。
3.根據權利要求1或2所述的制備方法,其特征在于,步驟(1)中研磨通過高能球磨機進行;
優選地,混合研磨時料液溫度為60-80℃,研磨的時間為2-3h。
4.根據權利要求1-3任一項所述的制備方法,其特征在于,步驟(1)中水熱反應的溫度為150-200℃,壓力為2-3MPa,時間為10-12h;
優選地,煅燒的溫度為520-530℃,時間為4-5h;
優選地,煅燒后的物料冷卻至室溫研磨2-4h后進行等離子體處理。
5.根據權利要求1-4任一項所述的制備方法,其特征在于,步驟(1)中等離子體處理在等離子體反應器中進行;
優選地,等離子體處理以氮氣為載氣,在40-60Pa、30-80W功率下進行射頻等離子體處理5-10min;
優選地,有機硅改性具體為:將等離子體處理后的產物與有機硅的乙醇溶液混合在60-70℃下超聲分散1-2h;
優選地,等離子體處理后的產物占有機硅質量的15-20%。
6.根據權利要求1-5任一項所述的制備方法,其特征在于,步驟(2)中分按重量份數計各組分加入量分別為醋酸12-18份,水1-3份,六偏磷酸鈉分散劑水溶液1-2份,預置阻燃劑3-10份;
優選地,六偏磷酸鈉分散劑水溶液的質量分數為4-6%。
7.根據權利要求1-6任一項所述的制備方法,其特征在于,步驟(2)中預置阻燃劑為粗對苯二甲酸漿料質量的3-10%;
優選地,粗對苯二甲酸漿料的質量分數為25-35%,優選為28-30%;
優選地,分散為超聲分散,優選為在40-60℃下超聲分散2-3h。
8.根據權利要求1-7任一項所述的制備方法,其特征在于,步驟(2)中結晶具體過程為:在185-190℃,1-1.1MPa和富氧空氣中進行二次氧化并結晶,停留時間20-30min;然后在155-160℃,0.2-0.4MPa下繼續結晶,停留時間20-30min;再在90-95℃,(-0.06)-(-0.04)MPa下進一步結晶,停留時間25-35min;
優選地,二次氧化并結晶在圓盤形二次氧化結晶釜中進行,繼續結晶和進一步結晶在圓臺結晶釜中進行。
9.根據權利要求8所述的制備方法,其特征在于,圓盤形二次氧化結晶釜和圓臺結晶釜的直徑大于高度;
優選地,圓盤形二次氧化結晶釜的直徑與高度比為2:1-1.5;
優選地,圓盤形二次氧化結晶釜底部設有注入富氧空氣注入管7和噴氣孔管8,底部最低點設有改性CTA漿料輸出連接管10,頂部設有溶劑蒸發回收管5,二次氧化結晶釜中心設有兩層攪拌葉。
10.根據權利要求8或9所述的制備方法,其特征在于,圓臺結晶釜的上臺直徑:臺高:底臺直徑為2.5:1.8-2.2:1-1.2;
優選地,圓臺結晶釜底部最低點設有改性CTA漿料輸出連接管,頂部設有溶劑蒸發回收管14,圓臺結晶釜中心設有兩層攪拌葉15。
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