[發(fā)明專利]一種掩膜裝置、顯示面板及其制作方法、顯示裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810060860.2 | 申請(qǐng)日: | 2018-01-22 |
| 公開(公告)號(hào): | CN108277473B | 公開(公告)日: | 2020-05-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王偉;詹志鋒;楊恕權(quán) | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C16/04 | 分類號(hào): | C23C16/04;H01L51/52 |
| 代理公司: | 北京中博世達(dá)專利商標(biāo)代理有限公司 11274 | 代理人: | 周娟 |
| 地址: | 100015 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 裝置 顯示 面板 及其 制作方法 顯示裝置 | ||
1.一種掩膜裝置,其特征在于,用于基板成膜中,所述掩膜裝置包括掩膜版,所述掩膜版的數(shù)量為兩種;每種所述掩膜版包括與基板邊框區(qū)域相對(duì)應(yīng)的邊框遮擋部,所述邊框遮擋部具有與基板顯示區(qū)域?qū)?yīng)的材料透過(guò)區(qū)域,所述材料透過(guò)區(qū)域設(shè)有與基板顯示區(qū)域的開孔位置對(duì)應(yīng)的開孔遮擋部,所述邊框遮擋部和所述開孔遮擋部通過(guò)位于材料透過(guò)區(qū)域的定位遮擋部連接,所述定位遮擋部至少為一個(gè);所述掩膜裝置應(yīng)用于基板成膜時(shí),成膜工藝的陰影效應(yīng)下,所述定位遮擋部在基板的正投影覆蓋區(qū)域形成膜層;
所述掩膜版包括第一掩膜版和第二掩膜版;所述掩膜裝置應(yīng)用于基板成膜時(shí),所述第一掩膜版的開孔遮擋部和所述第二掩膜版的開孔遮擋部在基板成膜面的正投影重合,所述第一掩膜版的定位遮擋部在基板成膜面的正投影為第一定位遮擋部投影,所述第二掩膜版的定位遮擋部在基板成膜面的正投影為第二定位遮擋部投影,所述第一定位遮擋部投影和所述第二定位遮擋部投影錯(cuò)位。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜裝置,其特征在于,所述定位遮擋部為條狀遮擋部,所述條狀遮擋部的一端與所述邊框遮擋部連接,所述條狀遮擋部的另一端與所述開孔遮擋部連接;所述條狀遮擋部的寬度為40μm-200μm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜裝置,其特征在于,所述開孔遮擋部和所述邊框遮擋部均與所述定位遮擋部處在不同平面;所述掩膜裝置應(yīng)用于基板成膜時(shí),所述開孔遮擋部到基板成膜面的距離小于所述定位遮擋部到基板成膜面的距離,所述開孔遮擋部到基板成膜面的距離還小于所述邊框遮擋部到基板成膜面的距離。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜裝置,其特征在于,所述第一掩膜版和所述第二掩膜版均包括至少一條水平定位遮擋條和至少一條豎直定位遮擋條;
其中,所述第一掩膜版和所述第二掩膜版中水平定位遮擋條的數(shù)量大于等于2,相鄰兩個(gè)所述水平定位遮擋條之間具有水平空隙;和/或,
所述第一掩膜版和所述第二掩膜版中豎直定位遮擋條的數(shù)量大于等于2,相鄰兩個(gè)所述豎直定位遮擋條之間具有豎直空隙;和/或,
所述第一掩膜版中水平空隙與所述第二掩膜版中水平定位遮擋條的一一對(duì)應(yīng);所述第一掩膜版中水平空隙在基板成膜面的正投影與所述第二掩膜版中水平定位遮擋條在基板成膜面的正投影重合;和/或,
所述第一掩膜版中水平定位遮擋條與所述第二掩膜版中水平空隙的一一對(duì)應(yīng);所述第一掩膜版中水平定位遮擋條在基板成膜面的正投影與所述第二掩膜版中水平空隙在基板成膜面的正投影重合;和/或,
所述第一掩膜版中豎直空隙與所述第二掩膜版中豎直定位遮擋條的一一對(duì)應(yīng);所述第一掩膜版中豎直空隙在基板成膜面的正投影與所述第二掩膜版中豎直定位遮擋條在基板成膜面的正投影重合;和/或,
所述第一掩膜版中豎直定位遮擋條與所述第二掩膜版中豎直空隙的一一對(duì)應(yīng);所述第一掩膜版中豎直定位遮擋條在基板成膜面的正投影與所述第二掩膜版中豎直空隙在基板成膜面的正投影重合。
5.一種顯示面板,其特征在于,包括顯示基板,以及采用掩膜工藝形成的封裝膜層,所述掩膜工藝應(yīng)用權(quán)利要求1~4任一項(xiàng)所述的掩膜裝置。
6.一種顯示面板的制作方法,其特征在于,包括:
提供一種顯示基板;所述顯示基板包括顯示區(qū)域和邊框區(qū)域;
采用掩膜工藝在所述顯示基板的功能膜層表面形成封裝膜層,得到顯示面板;所述掩膜工藝使用權(quán)利要求1~4任一項(xiàng)所述的掩膜裝置;
所述掩膜版的數(shù)量為兩種時(shí),采用掩膜工藝在所述顯示基板的功能膜層表面形成封裝膜層包括:
將第一掩膜版放置于所述顯示基板的功能膜層上方,使得所述第一掩膜版與所述顯示基板進(jìn)行對(duì)位;
以第一掩膜版為掩膜,至少采用一次成膜工藝在所述顯示基板的功能膜層表面形成位于顯示區(qū)域的第一無(wú)機(jī)膜層,所述第一無(wú)機(jī)膜層具有第一通孔;
將第二掩膜版放置于所述第一無(wú)機(jī)膜層背離顯示基板的功能膜層的表面上方,使得所述第二掩膜版與所述顯示基板進(jìn)行對(duì)位;
以第二掩膜版為掩膜,至少采用一次成膜工藝在所述第一無(wú)機(jī)膜層上形成第二無(wú)機(jī)膜層,得到與第一無(wú)機(jī)膜層構(gòu)成封裝膜層的第二無(wú)機(jī)膜層,所述第二無(wú)機(jī)膜層位于顯示區(qū)域,所述第二無(wú)機(jī)膜層具有第二通孔,所述第一通孔和所述第二通孔在顯示基板的功能膜層表面的正投影重合。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過(guò)氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時(shí)基體上,例如在隨后通過(guò)浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無(wú)機(jī)材料為特征的





