[發(fā)明專利]量子點鍍膜方法及系統(tǒng)

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• 申請日: 2018-01-22
• 公開（公告）號: CN108165990A
• 公開（公告）日: 2018-06-15
• 發(fā)明（設計）人: 陳右儒;張淵明
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: C23C26/00
• 分類號: C23C26/00
• 代理公司: 北京鼎佳達知識產(chǎn)權代理事務所(普通合伙) 11348
• 代理人: 王偉鋒;劉鐵生

本發(fā)明是關于一種量子點鍍膜方法及系統(tǒng)，涉及量子點鍍膜技術領域，主要解決的技術問題是實現(xiàn)對量子點納米顆粒的鍍膜。主要采用的技術方案為：量子點鍍膜系統(tǒng)，包括：加電霧化單元，用于對所述導電噴劑施加電壓、霧化，形成帶電霧化噴劑；電場施加單元，用于對帶電霧化噴劑施加電場。在對納米量子點鍍膜中，可先將量子點納米顆粒與導電溶劑混合形成導電噴劑，再對所述導電噴劑施加電壓、霧化，形成帶電霧化噴劑；在施加電場作用下，使所述帶電霧化噴劑在所述電場作用下，沉積于所述沉積基板上。之后，可對沉積在沉積基板上的帶電霧化噴劑烘干，在沉積基板上形成量子點膜層，相對于現(xiàn)有技術，可實現(xiàn)對納米量子點鍍膜。

技術領域

本發(fā)明涉及量子點鍍膜技術領域，特別是涉及一種量子點鍍膜方法及系統(tǒng)。

背景技術

目前，OLED(Organic Light Emitting Diode，有機發(fā)光二極管)顯示裝置，由于具有結構簡單、優(yōu)質的動態(tài)畫面、寬視角、響應速度快、可柔化等優(yōu)點,受到廣泛關注。

OLED顯示裝置己成為目前研究的重點與熱點。現(xiàn)有技術中，OLED顯示裝置的基本結構包括陽極、發(fā)光層和陰極，其中，發(fā)光層的成膜方法有很多種，例如，蒸鍍成膜法等。由于蒸鍍成膜法具有操作簡單、膜厚容易控制、對薄膜的污染小等優(yōu)點，因而現(xiàn)有技術中多采用蒸鍍成膜法形成發(fā)光層，即在真空環(huán)境下，將蒸鍍材料加熱使其蒸發(fā)，并沉積到目標基板土形成發(fā)光層。

然而，蒸鍍方式是適用于OLED顯示裝置小分子的加工，無法適用于新型量子點納米顆粒OLED顯示裝置的制備。

發(fā)明內(nèi)容

有鑒于此，本發(fā)明提供一種量子點鍍膜方法及系統(tǒng)，主要解決的技術問題是實現(xiàn)對量子點納米顆粒的鍍膜。

為達到上述目的，本發(fā)明主要提供如下技術方案：

一方面，本發(fā)明的實施例提供一種量子點鍍膜方法，包括：

將量子點納米顆粒與導電溶劑混合形成導電噴劑；

對所述導電噴劑施加電壓、霧化，形成帶電霧化噴劑；

對帶電霧化噴劑施加電場，使所述帶電霧化噴劑在所述電場作用下，沉積于沉積基板上。

本發(fā)明的目的及解決其技術問題還可采用以下技術措施進一步實現(xiàn)。

可選的，前述的量子點鍍膜方法，其中對帶電霧化噴劑施加電場，具體包括：

在所述沉積基板的電極和對所述導電噴劑施加電壓的電極之間形成電位差。

可選的，前述的量子點鍍膜方法，其中對帶電霧化噴劑施加電場，具體包括：

在放置所述沉積基板的放置平臺的導電板和對所述導電噴劑施加電壓的電極之間形成電位差。

可選的，前述的量子點鍍膜方法，其中對帶電霧化噴劑施加電場，具體包括：

通過調節(jié)所述施加電場的強度，以調控所述帶電霧化噴劑沉積于所述沉積基板的沉積速度。

另一方面，本發(fā)明的實施例提供一種量子點鍍膜系統(tǒng)，包括：

加電霧化單元，用于對量子點納米顆粒與導電溶劑混合形成的導電噴劑施加電壓、霧化，形成帶電霧化噴劑；

電場施加單元，用于對帶電霧化噴劑施加電場，以使所述帶電霧化噴劑在所述電場作用下，沉積于沉積基板上。

本發(fā)明的目的及解決其技術問題還可采用以下技術措施進一步實現(xiàn)。

可選的，前述的量子點鍍膜系統(tǒng)，其中電場施加單元包括：用于放置所述沉積基板的放置平臺、電位施加裝置；所述電位施加裝置的第一電位連接端與所述放置平臺的導電板電連接，所述電位施加裝置的第二電位連接端電連接所述加電霧化單元對所述導電噴劑施加電壓的電極。