[發明專利]一種減少彩虹現象發生的LCD生產工藝方法

有效

• 申請號: 201810057481.8
• 申請日: 2018-01-22
• 公開（公告）號: CN108267881B
• 公開（公告）日: 2021-07-23
• 發明（設計）人: 王浩;王艷卿
• 申請（專利權）人: 精電（河源）顯示技術有限公司
• 主分類號: G02F1/1333
• 分類號: G02F1/1333;G02F1/1339;G02F1/13
• 代理公司: 廣州科沃園專利代理有限公司 44416
• 代理人: 徐翔

1.一種減少彩虹現象發生的LCD生產工藝方法，所述LCD生產工藝方法包括投料階段、PR前清洗階段、涂膠階段、曝光階段、顯影/豎膜階段、酸刻階段、脫模階段、移印前清洗階段、PI移印階段、PI固化階段、摩擦清洗階段、導電點/邊框加印階段、貼合階段及熱壓階段，其特征在于：所述涂膠階段中，測量膠水的寬度W和高度D，測量得到膠水橫截面積S后，通過膠水的注入量V對涂膠寬度W進行監測；

所述導電點/邊框加印階段采用邊框平均粒子徑為5.74μm；

所述膠水的寬度W和高度D通過膠高測量儀測量，采用光學3D表面輪廓干涉儀監測膠水的寬度W；

所述PI移印階段、貼合階段環境質量達到100級；

所述曝光階段在涂抹好光刻膠的玻璃表面覆蓋掩膜版，利用平行紫外光進行選擇性照射，使光照部位的光刻膠發生化學反應；

所述顯影/豎膜階段采用NaOH溶液噴淋曝光玻璃表面，溶解掉曝光后的光刻膠，通過純水進行清洗，再通過熱板豎膜使顯影后的光刻膠圖案粘附在ITO玻璃上；

所述酸刻階段采用酸刻液對暴露的ITO導電層進行噴淋腐蝕，保留光刻膠覆蓋的ITO；所述酸刻液體積配比為DIW：HCL：HNO₃＝1:1:0.085；

LCD生產工藝方法中，環境溫度為22-25℃之間，濕度在50％～60％之間；

所述熱壓階段產品與熱壓設備之間設有熱壓墊紙，所述熱壓墊紙的厚度為0.05-0.1mm；

所述LCD生產工藝方法中采用光學檢測系統對產品進行檢測，光學檢測系統包括圖像采集模塊、圖像預處理模塊、控制模塊及顯示模塊，圖像采集模塊采用CCD相機，圖像預處理模塊采用圖像分割算法及特征提取算法。