[發明專利]一種加熱裝置及光刻設備有效
| 申請號: | 201810056859.2 | 申請日: | 2018-01-19 |
| 公開(公告)號: | CN107966886B | 公開(公告)日: | 2020-07-14 |
| 發明(設計)人: | 毛元杰;盧凱;李京鵬 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方光電科技有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/38 | 分類號: | G03F7/38;G03F7/40 |
| 代理公司: | 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274 | 代理人: | 賈瑩 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 加熱 裝置 光刻 設備 | ||
本申請實施例提供一種加熱裝置及光刻設備,涉及顯示技術領域,用于解決前烘或后烘工藝結束后,玻璃基板與加熱盤不容易分離的問題。該加熱裝置包括加熱盤;加熱盤包括多個子加熱部;相鄰的子加熱部通過活動連接件相連接,相鄰兩個子加熱部通過活動連接件折疊或展開;加熱裝置還包括多個定位部,定位部位于相鄰兩個子加熱部相接的位置,定位部用于限定相鄰的子加熱部之間的夾角。該加熱裝置用于對襯底基板進行加熱。
技術領域
本發明涉及顯示技術領域,尤其涉及一種加熱裝置及光刻設備。
背景技術
TFT-LCD(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display,薄膜晶體管-液晶顯示器)作為一種平板顯示裝置,因其具有體積小、功耗低、無輻射以及制作成本相對較低等特點,而越來越多地被應用于高性能顯示領域當中。
TFT-LCD在制作的過程中,為了形成預設的薄膜圖案,需要對薄膜層進行光刻工藝。其中,在上述光刻工藝中,在玻璃基板上涂覆光刻膠之后,需要對光刻膠進行前烘(SoftBake)、曝光、顯影以及后烘(Hard Bake)工藝。
現有技術中,采用加熱盤對玻璃基板進行加熱以達到對光刻膠進行前烘或后烘。然而,由于玻璃基板與加熱盤之間的吸附力較大,因此當前烘或后烘工藝結束后,需要使用較大的力將玻璃基板與加熱盤分離,從而容易導致玻璃基板碎裂,降低產品質量。
發明內容
本發明的實施例提供一種加熱裝置及光刻設備,用于解決前烘或后烘工藝結束后,玻璃基板與加熱盤不容易分離的問題。
為達到上述目的,本發明的實施例采用如下技術方案:
本申請實施例的一方面,提供一種加熱裝置,包括加熱盤;所述加熱盤包括多個子加熱部;相鄰的所述子加熱部通過活動連接件相連接,相鄰兩個所述子加熱部通過所述活動連接件折疊或展開;所述加熱裝置還包括多個定位部,所述定位部位于相鄰兩個所述子加熱部相接的位置,所述定位部用于限定相鄰的所述子加熱部之間的夾角。
可選的,所述定位部設置于與所述加熱盤的承載面相對的一側;所述加熱裝置還包括與所述定位部背離所述加熱盤的一端相連接的第一升降機構;所述第一升降機構用于驅動所述定位部沿垂直于所述加熱盤承載面的方向運動。
可選的,所述加熱裝置還包括多個支撐柱;所述子加熱部上設置有用于穿過所述支撐柱的過孔。
可選的,所述加熱裝置還包括與所述支撐柱背離所述加熱盤的一端相連接的第二升降機構;所述第二升降機構用于驅動所述支撐柱沿垂直于所述加熱盤承載面的方向運動。
可選的,所述活動連接件為鉸接件。
可選的,所述子加熱部為條狀,且多個所述子加熱部并排設置。
可選的,所述子加熱部上設置有真空吸附孔;所述加熱裝置還包括真空吸附裝置,所述真空吸附裝置的吸風口的位置與所述真空吸附孔的位置相對應。
可選的,所述子加熱部內部排布有水管。
可選的,所述多個支撐柱分布均勻。
本申請實施例的又一方面,提供一種光刻設備包如上所述的任意一種加熱裝置。
本申請實施例提供一種加熱裝置及光刻設備,當前烘或后烘工藝結束后,該加熱裝置中的加熱盤無需對襯底基板上的光刻膠進行加熱,此時,此時加熱盤中的各個子加熱部在定位部的限定作用下,受到重力的作用,無法保持水平狀態,而發生傾斜。這樣一來,加熱盤的承載面與襯底基板之間具有較大的空隙,周圍的空氣進入上述空隙中,從而能夠減小加熱盤與襯底基板之間的吸附力,此時,使用較小的力就可以將襯底基板與加熱盤分離,從而能夠減小襯底基板發生碎裂的幾率,提高產品質量。
附圖說明
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