[發明專利]封裝薄膜、柔性顯示裝置及封裝薄膜形成方法有效
| 申請號: | 201810055107.4 | 申請日: | 2018-01-19 |
| 公開(公告)號: | CN108258151B | 公開(公告)日: | 2019-09-17 |
| 發明(設計)人: | 李加偉;郭瑞;胡坤 | 申請(專利權)人: | 云谷(固安)科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L51/52 | 分類號: | H01L51/52 |
| 代理公司: | 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 智云 |
| 地址: | 065500 河*** | 國省代碼: | 河北;13 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 有機層 封裝薄膜 無機層 柔性顯示裝置 高分子材料 聚合度 | ||
1.一種封裝薄膜,包括依次堆疊的第一無機層、有機層和第二無機層,所述有機層包括與所述第一無機層接觸的第一子有機層、與所述第二無機層接觸的第二子有機層以及設置在所述第一子有機層和所述第二子有機層之間的第三子有機層,其特征在于,所述有機層包含高分子材料,其中,所述高分子材料的聚合度在所述第三子有機層中的值不大于在所述第一子有機層、所述第二子有機層中的值,并且在所述第一子有機層和所述第二子有機層中的至少其中之一的值大于在所述第三子有機層中的值。
2.如權利要求1所述的封裝薄膜,其特征在于,所述第一子有機層包括若干依次堆疊的高分子層,并且從與所述第一無機層接觸的高分子層到與所述第三子有機層接觸的高分子層,所述高分子材料的聚合度逐漸減小;和/或
所述第二子有機層包括若干依次堆疊的高分子層,并且從與所述第二無機層接觸的高分子層到與所述第三子有機層接觸的高分子層,所述高分子材料的聚合度逐漸減小。
3.如權利要求1所述的封裝薄膜,其特征在于,所述高分子材料在所述第一子有機層和/或所述第二子有機層中的彈性模量為0.2-20GPa,在所述第三子有機層中的彈性模量為0.1-20GPa。
4.如權利要求1至3中任一項所述的封裝薄膜,其特征在于,所述高分子材料為聚馬來酸酐氨基苯乙烯、聚甲基丙烯酸縮水甘油酯丙烯酸十二氟庚酯和聚丙烯酸戊二丙烯酸乙二醇酯中的一種或它們的組合。
5.一種柔性顯示裝置,所述柔性顯示裝置包括基底、形成于所述基底上的器件層以及覆蓋所述器件層的封裝薄膜,其特征在于,所述封裝薄膜采用如權利要求1至4中任一項所述的封裝薄膜。
6.一種封裝薄膜形成方法,其特征在于,包括如下步驟:
形成第一無機層,所述第一無機層覆蓋器件層;
形成有機層,所述有機層包括在所述第一無機層表面依次形成的第一子有機層、第三子有機層和第二子有機層,所述有機層包含高分子材料,其中,所述高分子材料的聚合度在所述第三子有機層中的值不大于在所述第一子有機層、所述第二子有機層中的值,并且在所述第一子有機層和所述第二子有機層中的至少其中之一的值大于在所述第三子有機層中的值;以及
形成第二無機層,所述第二無機層覆蓋所述第二子有機層。
7.如權利要求6所述的封裝薄膜形成方法,其特征在于,采用iCVD工藝形成所述第一子有機層、所述第三子有機層和所述第二子有機層。
8.如權利要求7所述的封裝薄膜形成方法,其特征在于,向真空腔室內通入氣相的引發劑和單體用于形成所述高分子材料,其中,所述引發劑和所述單體的摩爾數之比在形成所述第一子有機層、所述第二子有機層時的值大于或者等于在形成所述第三子有機層時的值。
9.如權利要求8所述的封裝薄膜形成方法,其特征在于,在形成所述第一子有機層和/或所述第二子有機層時,所述引發劑和所述單體的摩爾數之比隨形成的時間增加而逐漸減小。
10.如權利要求6至9中任一項所述的封裝薄膜形成方法,其特征在于,所述器件層是OLED器件層。
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- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L51-00 使用有機材料作有源部分或使用有機材料與其他材料的組合作有源部分的固態器件;專門適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設備
H01L51-05 .專門適用于整流、放大、振蕩或切換且并具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的;具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的電容器或電阻器
H01L51-42 .專門適用于感應紅外線輻射、光、較短波長的電磁輻射或微粒輻射;專門適用于將這些輻射能轉換為電能,或者適用于通過這樣的輻射進行電能的控制
H01L51-50 .專門適用于光發射的,如有機發光二極管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料選擇





