[發明專利]X射線衍射測定方法和裝置

有效

• 申請號: 201810054899.3
• 申請日: 2018-01-19
• 公開（公告）號: CN108375596B
• 公開（公告）日: 2020-09-22
• 發明（設計）人: 佐藤健兒;中尾和人
• 申請（專利權）人: 本田技研工業株式會社
• 主分類號: G01N23/2055
• 分類號: G01N23/2055
• 代理公司: 北京華夏正合知識產權代理事務所(普通合伙) 11017
• 代理人: 韓登營;蔣國偉

本發明涉及一種X射線衍射測定方法和裝置。該X射線衍射測定方法具有配置工序(S2)和計算工序(S7)，其中，所述配置工序(S2)將遮蔽板(26)和二維檢測器(18)配置在出射光軸(32)上；所述計算工序(S7)根據由二維檢測器(18)檢測到的二維X射線圖像(70)來計算衍射圖譜，該衍射圖譜表示相對于被測定物(M)的衍射角的X射線強度。在配置工序中，將遮蔽板(26)配置為，直線狀的狹縫(24)相對于與入射光軸(30)和出射光軸(32)的雙方垂直相交的垂直相交方向(A)，至少沿繞出射光軸(32)的軸旋轉的方向(C)傾斜。據此，能夠通過一次性的X射線檢測動作來有效地測定被測定物。

技術領域

本發明涉及一種通過檢測由于被測定物而產生的X射線的衍射來測定所述被測定物的性質狀態的X射線衍射測定方法和裝置(X-ray diffraction measurement methodand apparatus)。

背景技術

現有技術中已知一種X射線衍射測定方法，該方法通過向被測定物照射X射線并檢測衍射圖樣(diffraction pattern)(以下，還簡稱為“圖樣”)來測定該被測定物的性質狀態。例如，為了實現測定的高效化，而提出了多種組合使用二維狹縫(two-dimensionalslit)和二維檢測器的方法。

在日本發明專利公開公報特開2015-132527號中，提出了具有狹縫板(slitplate)的X射線衍射測定裝置，該狹縫板通過在遮蔽板上形成曲線形狹縫而成。通過使該狹縫板繞基準軸旋轉，能夠在固定二維檢測器的配置的狀態下進行衍射角的掃描。

發明內容

然而，在日本發明專利公開公報特開2015-132527號提出的裝置中，需要用于使狹縫板旋轉的旋轉機構，因此，會發生裝置尺寸的大型化和制造成本的上漲。

本發明是為了解決上述技術問題而完成的，其目的在于，提供一種能夠通過一次性的X射線檢測動作來有效地測定被測定物的X射線衍射測定方法和裝置。

第1技術方案所涉及的X射線衍射測定方法為通過檢測由于被測定物而產生的X射線的衍射來測定所述被測定物的性質狀態的方法，其中所述被測定物位于入射光軸和出射光軸相交的交叉位置，該X射線衍射測定方法的特征在于，具有配置工序和計算工序，其中，所述配置工序將遮蔽板和二維檢測器配置在所述出射光軸上，所述遮蔽板上形成有直線狀的狹縫，所述二維檢測器能夠在檢測區域內檢測通過所述狹縫的X射線，所述計算工序根據由所述二維檢測器檢測到的二維X射線圖像來計算衍射圖譜(diffraction profile)，該衍射圖譜表示相對于所述被測定物的衍射角的X射線強度，在所述配置工序中，將所述遮蔽板配置為：使所述狹縫相對于與所述入射光軸和所述出射光軸的雙方垂直相交的垂直相交方向，至少沿繞所述出射光軸的軸旋轉的方向傾斜。

這樣，通過使狹縫相對于與入射光軸和出射光軸的雙方垂直相交的垂直相交方向，至少沿繞出射方向的軸旋轉的方向傾斜，來以確保映射的唯一性的方式限制X射線的通過。即，根據檢測區域內的二維位置，衍射位置和衍射角被唯一地確定，從而能夠根據檢測到的二維X射線圖像來計算與衍射位置對應的衍射圖譜。據此，能夠通過一次性的X射線檢測動作來有效地測定被測定物。

另外，在所述計算工序中，也可以使用與所述交叉位置、所述狹縫和所述檢測區域有關的幾何學信息，來計算與所述被測定物的衍射位置對應的一幅或多幅所述衍射圖譜。由于狹縫呈直線狀，因此，能夠使用比較簡單易懂的幾何學的運算，來計算與各個衍射位置對應的衍射圖譜。

另外，也可以為：所述被測定物是含有多晶型(polycrystalline)且取向無序的材料，并且具有10μm以上的厚度的物體，所述被測定物被配置成所述物體的厚度方向與所述入射光軸平行的朝向。據此，能夠通過一次性的X射線檢測動作，同時測定在厚度方向上的各個位置的性質狀態。