[發明專利]X射線衍射測定方法和裝置

有效

• 申請號: 201810054899.3
• 申請日: 2018-01-19
• 公開（公告）號: CN108375596B
• 公開（公告）日: 2020-09-22
• 發明（設計）人: 佐藤健兒;中尾和人
• 申請（專利權）人: 本田技研工業株式會社
• 主分類號: G01N23/2055
• 分類號: G01N23/2055
• 代理公司: 北京華夏正合知識產權代理事務所(普通合伙) 11017
• 代理人: 韓登營;蔣國偉

1.一種X射線衍射測定方法，其通過檢測由于被測定物(M)而產生的X射線的衍射來測定所述被測定物(M)的性質狀態，其中所述被測定物(M)位于入射光軸(30)和出射光軸(32)相交的交叉位置(34)，

該X射線衍射測定方法的特征在于，

具有配置工序和計算工序，其中，

所述配置工序將遮蔽板(26)和二維檢測器(18)配置在所述出射光軸(32)上，其中：所述遮蔽板(26)上形成有直線狀的狹縫(24)；所述二維檢測器(18)能在檢測區域(R)內檢測通過所述狹縫(24)的X射線，

所述計算工序根據由所述二維檢測器(18)檢測到的二維X射線圖像(70)來計算衍射圖譜，該衍射圖譜表示相對于所述被測定物(M)的衍射角的X射線強度，

在所述配置工序中將所述遮蔽板(26)配置為：所述狹縫(24)相對于垂直相交方向(A)至少沿繞所述出射光軸(32)的軸旋轉的方向(C)傾斜，其中所述垂直相交方向(A)是指與所述入射光軸和所述出射光軸雙方垂直的方向。

2.根據權利要求1所述的X射線衍射測定方法，其特征在于，

在所述計算工序中，使用與所述交叉位置(34)、所述狹縫(24)和所述檢測區域(R)有關的幾何學信息來計算與所述被測定物(M)的衍射位置對應的一幅或多幅所述衍射圖譜。

3.根據權利要求2所述的X射線衍射測定方法，其特征在于，

所述被測定物(M)是含有多晶型且取向無序的材料，且具有10μm以上的厚度的物體，所述被測定物(M)被配置成使所述物體的厚度方向與所述入射光軸(30)平行的朝向。

4.根據權利要求2所述的X射線衍射測定方法，其特征在于，

所述被測定物(M)是層疊了含有多晶型且取向無序的材料的層狀體(60a～60c)的物體，所述被測定物(M)被配置成使所述層狀體(60a～60c)的層疊方向與所述入射光軸(30)平行的朝向。

5.根據權利要求1所述的X射線衍射測定方法，其特征在于，

所述二維檢測器(18)是光子計數型檢測器，

在所述計算工序中，根據在所述被測定物(M)、所述遮蔽板(26)和所述二維檢測器(18)被固定的狀態下由所述二維檢測器(18)依次檢測到的二維X射線圖像(70)，來計算所述衍射圖譜的時序。

6.根據權利要求1～5中任一項所述的X射線衍射測定方法，其特征在于，

所述遮蔽板(26)被設置為可相對于所述出射光軸(32)轉動。

7.一種X射線衍射測定裝置(10)，其通過檢測由于被測定物(M)而產生的X射線的衍射來測定所述被測定物(M)的性質狀態，其中所述被測定物(M)位于入射光軸(30)和出射光軸(32)相交的交叉位置(34)，

該X射線衍射測定裝置(10)的特征在于，

具有遮蔽板(26)、二維檢測器(18)和圖譜計算部(44)，其中，

所述遮蔽板(26)上形成有直線狀的狹縫(24)；

所述二維檢測器(18)能在檢測區域(R)內檢測通過所述狹縫(24)的X射線；

所述圖譜計算部(44)根據由所述二維檢測器(18)檢測到的二維X射線圖像(70)來計算衍射圖譜，該衍射圖譜表示相對于所述被測定物(M)的衍射角的X射線強度，

所述遮蔽板(26)和所述二維檢測器(18)分別被配置在所述出射光軸(32)上，

所述遮蔽板(26)被配置為使所述狹縫(24)相對于與所述入射光軸(30)和所述出射光軸(32)雙方垂直的垂直相交方向(A)，至少沿繞所述出射光軸(32)的軸旋轉的方向(C)傾斜。