[發(fā)明專利]吹氣裝置、吸附機(jī)臺和柔性基板承載系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201810039686.3
• 申請日: 2018-01-16
• 公開（公告）號: CN108257906B
• 公開（公告）日: 2021-05-04
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 倪靜凱;王偉;尹維賀
• 申請（專利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司
• 主分類號: H01L21/683
• 分類號: H01L21/683
• 代理公司: 北京天昊聯(lián)合知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11112
• 代理人: 姜春咸;陳源

本發(fā)明提供一種吹氣裝置，所述吹氣裝置包括至少一個勻流本體、擋氣板和多個噴氣嘴，每個所述勻流本體都包括氣嘴設(shè)置表面和勻流表面，所述勻流表面包括與所述氣嘴設(shè)置表面相接的相接邊和與所述相接邊相對的出氣邊，所述擋氣板與所述氣嘴設(shè)置表面相對設(shè)置，所述氣嘴設(shè)置表面上設(shè)置有多個所述噴氣嘴，其中，所述出氣邊的中部向外凸出，和/或多個所述噴氣嘴排列在中部外凸的曲線上。本發(fā)明還提供一種吸附機(jī)臺和一種柔性基板承載裝置。利用所述柔性基板承載裝置吸附柔性基板時，可以將柔性基板平整地吸附在吸附機(jī)臺上。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及柔性面板加工設(shè)備領(lǐng)域，具體地，涉及一種吹氣裝置、一種吸附機(jī)臺和一種包括所述吹氣裝置和所述吸附機(jī)臺的柔性基板承載系統(tǒng)。

背景技術(shù)

在制造柔性面板的不同工藝中，需要將柔性面板從一個加工設(shè)備移動至另一個加工設(shè)備。通常，加工設(shè)備包括用于吸附柔性面板的吸附機(jī)臺。為了吸附在吸附機(jī)臺上的柔性面板上不存在褶皺，通常，在吸附的過程中，會利用設(shè)置在吸附基板上方的吹氣裝置對柔性面板進(jìn)行吹氣。

圖1中所示的是一種吹氣裝置，該吹氣裝置包括勻流本體110、多個噴氣嘴120和擋氣板130。圖2中所示的是包括圖1中吹氣裝置的柔性基板承載系統(tǒng)。如圖2所示，柔性基板承載系統(tǒng)包括所述吹氣裝置和吸附機(jī)臺200。在將柔性基板300吸附在吸附機(jī)臺上的過程中，吸附機(jī)臺沿圖2中實線箭頭的方向移動，吸附機(jī)臺上的吸附孔，從左至右依次打開。吹氣裝置吹出的氣體如圖2中虛線箭頭所示。通過吹氣裝置吹出的氣體可以將柔性基板300與吸附機(jī)臺200的吸附表面之間的空氣擠出。

吸附完畢后，進(jìn)行后續(xù)工藝。例如，可以在柔性基板上貼附保護(hù)膜。但是，將柔性基板吸附在吸附機(jī)臺上之后，柔性面板的兩端發(fā)生翹曲的幾率較大，并且，吸附過程中也可能會發(fā)生真空漏極導(dǎo)致設(shè)備報警，降低生產(chǎn)效率。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提供一種吹氣裝置、一種吸附機(jī)臺和一種包括該吹氣裝置和吸附機(jī)臺的柔性基板承載系統(tǒng)，以解決上述技術(shù)問題中的至少一者。

作為本發(fā)明的一個方面，提供一種吹氣裝置，所述吹氣裝置包括至少一個勻流本體、擋氣板和多個噴氣嘴，每個所述勻流本體都包括氣嘴設(shè)置表面和勻流表面，所述勻流表面包括與所述氣嘴設(shè)置表面相接的相接邊和與所述相接邊相對的出氣邊，所述擋氣板與所述氣嘴設(shè)置表面相對設(shè)置，所述氣嘴設(shè)置表面上設(shè)置有多個所述噴氣嘴，其中，所述出氣邊為中部外凸的第一曲線，和/或多個所述噴氣嘴排列在中部外凸的第一曲線上。

優(yōu)選地，所述勻流表面包括外凸曲面和與所述外凸曲面相接的平斜面，所述平斜面朝向遠(yuǎn)離所述氣嘴設(shè)置表面的方向傾斜，所述外凸曲面的一條邊形成為所述相接邊，所述外凸曲面上與所述相接邊相對的邊與所述平斜面相接，所述平斜面上與所述外凸曲面相間隔的邊形成為所述出氣邊。

優(yōu)選地，所述吹氣裝置包括兩個所述勻流本體，所述勻流本體還包括背面，所述背面與所述氣嘴設(shè)置表面相接，且與所述勻流表面相對設(shè)置，兩個所述勻流本體的背面相貼合。

作為本發(fā)明的第二個方面，提供一種吸附機(jī)臺，所述吸附機(jī)臺包括機(jī)臺本體，其中，所述機(jī)臺本體的吸附表面包括至少一個吸附區(qū)，每個所述吸附區(qū)內(nèi)都設(shè)置有多個氣孔組，每個所述氣孔組包括多個吸附孔，在同一個所述氣孔組中，多個所述吸附孔排列在中部外凸的第二曲線上，多個所述氣孔組沿第一方向依次排列，在同一個所述吸附區(qū)中，氣孔組的凸出方向一致。

優(yōu)選地，每個所述吸附區(qū)中還包括初始定位孔和最終定位孔，在任意給一個所述吸附區(qū)中，所述初始定位孔設(shè)置在吸附區(qū)的第一方向的一側(cè)，所述最終定位孔設(shè)置在所述吸附區(qū)的第一方向的另一側(cè)，且位于所述機(jī)臺本體的角部，所述初始定位孔沿所述機(jī)臺本體的厚度方向貫穿所述機(jī)臺本體，所述最終定位孔沿所述機(jī)臺本體的厚度方向貫穿所述機(jī)臺本體。

優(yōu)選地，所述機(jī)臺本體包括沿所述第一方向排列的兩個所述吸附區(qū)，不同所述吸附區(qū)中的氣孔組的凸出方向相反。