[發(fā)明專利]一種高效率光轉(zhuǎn)換彩色顯示像素膜的制作方法

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• 申請?zhí)枺?/td>: 201810039321.0
• 申請日: 2018-01-16
• 公開（公告）號(hào): CN108321170A
• 公開（公告）日: 2018-07-24
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 孫小衛(wèi);邱成峰
• 申請（專利權(quán)）人: 南方科技大學(xué);深圳撲浪創(chuàng)新科技有限公司
• 主分類號(hào): H01L27/32
• 分類號(hào): H01L27/32;H01L51/56
• 代理公司: 北京載博知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11116
• 代理人: 薛晶晶

本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種高效率光轉(zhuǎn)換彩色顯示膜的制作方法，包括如下步驟：A)提供一個(gè)基底，并將所述基底進(jìn)行清洗；B)在清洗好的基底上制作像素隔離墻；C)在設(shè)計(jì)的像素區(qū)內(nèi)，打印對(duì)應(yīng)顏色的量子點(diǎn)材料；D)在制備好的量子點(diǎn)上加蓋透明保護(hù)層；E)將量子點(diǎn)板，與對(duì)應(yīng)的OLED顯示像素對(duì)準(zhǔn)貼合，形成彩色顯示器件。本發(fā)明的有益之處：應(yīng)用本發(fā)明所述一種高效率光轉(zhuǎn)換彩色顯示像素膜的制作方法，具有以下優(yōu)點(diǎn)：1)光的利用率得到數(shù)倍的提高；2)顯示色域得到擴(kuò)展，使顯示顏色更佳；3)能使單色顯示器件彩色化。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種高效率光轉(zhuǎn)換彩色顯示像素膜的制作方法。

背景技術(shù)

目前OLED顯示器件，如：OLED電視，手機(jī)OLED顯示屏等，均采用白色OLED加(紅、綠、藍(lán))彩色濾光膜實(shí)現(xiàn)全彩色顯示。當(dāng)白光通過彩色濾光膜，只有一種顏色的光能通過，其它顏色的光會(huì)被吸收；因此，導(dǎo)致光的利用率低，一般不到1/3。本發(fā)明，是在OLED 顯示器的前端，加紅量子點(diǎn)，或加紅、綠量子點(diǎn)，或加紅、綠、藍(lán)量子點(diǎn)代替(紅、綠、藍(lán))彩色濾光膜使之實(shí)現(xiàn)全彩色顯示，因?yàn)椋孔狱c(diǎn)材料是將OLED的光進(jìn)行轉(zhuǎn)換再次自主發(fā)光，從而光的利用率得到數(shù)倍的提高，大大降低了現(xiàn)有OLED的能耗，同時(shí)由于量子點(diǎn)發(fā)光的色域?qū)挘癸@示色彩得到提升，并能使單色OLED顯示器件彩色化。

發(fā)明內(nèi)容

為了有效解決上述問題，本發(fā)明提供一種高效率光轉(zhuǎn)換彩色顯示像素膜的制作方法。

本發(fā)明的具體技術(shù)方案如下：一種高效率光轉(zhuǎn)換彩色的顯示裝置，所述顯示裝置包括：

一個(gè)基礎(chǔ)OLED顯示像素；

一個(gè)量子激發(fā)部，所述量子激發(fā)部鋪設(shè)在所述基礎(chǔ)OLED顯示像素上；所述基礎(chǔ)OLED顯示像素發(fā)出短波光，激發(fā)所述量子激發(fā)部的量子點(diǎn)進(jìn)行發(fā)光。

進(jìn)一步地，所述顯示裝置還包括：

一個(gè)濾光部，所述基礎(chǔ)OLED顯示像素發(fā)出的光可被所述濾光部吸收。

一種高效率光轉(zhuǎn)換彩色顯示膜的制作方法，所述方法采用在通用 OLED顯示像素上鋪設(shè)一個(gè)量子激發(fā)部，所述OLED顯示發(fā)射短波光，激發(fā)量子激發(fā)部的量子點(diǎn)，實(shí)現(xiàn)全彩發(fā)光。

進(jìn)一步地，包括如下步驟：

A)提供一個(gè)基底，并將所述基底進(jìn)行清洗；

B)在清洗好的基底上制作像素隔離墻；

C)在設(shè)計(jì)的像素區(qū)內(nèi)，打印對(duì)應(yīng)顏色的量子點(diǎn)材料；

D)在制備好的量子點(diǎn)上加蓋透明保護(hù)層；

E)將量子點(diǎn)板，與對(duì)應(yīng)的OLED顯示像素對(duì)準(zhǔn)貼合，形成彩色顯示器件。

進(jìn)一步地，所述步驟C)中，采用逐個(gè)像素點(diǎn)依次打印，將所述量子點(diǎn)材料打印至像素區(qū)內(nèi)。

進(jìn)一步地，所述第一步的清洗步驟具體包括：

基底通過濕法清洗工藝進(jìn)行清洗：

1.1所述濕法清洗工藝可以通過使用去離子水或者異丙醇進(jìn)行清洗。

進(jìn)一步地，所述第一步的清洗步驟具體包括：

基底通過干法清洗工藝進(jìn)行清洗：

1.1干法清洗工藝可以使用采用二氧化碳、超聲波或者激光脈沖波的技術(shù)；具體為，利用二氧化碳的技術(shù)通過升華干冰并同時(shí)將被升華的物質(zhì)撞擊到基底上來除去污染物；

1.2利用激光脈沖波的技術(shù)或者將激光脈沖波施加到基板的轉(zhuǎn)印層上來除去存在于基板上的顆粒，或者利用激光脈沖波來振動(dòng)供體基板周圍的空氣以浮動(dòng)或者除去存在于基板上的顆粒；