[發明專利]共注射熱流道噴嘴有效
| 申請號: | 201810034517.0 | 申請日: | 2018-01-15 |
| 公開(公告)號: | CN108454023B | 公開(公告)日: | 2020-12-01 |
| 發明(設計)人: | 阿卜杜斯拉姆·布第;哈基穆丁·博克斯瓦拉;內森·蓋布里埃爾·索思威克;馬切伊·布雷斯基;迪特馬·鐵莫·布蘭德;亞當·克里斯托弗·烏萊梅克;德克·霍格爾·施盧姆斯 | 申請(專利權)人: | 赫斯基注塑系統有限公司 |
| 主分類號: | B29C45/27 | 分類號: | B29C45/27 |
| 代理公司: | 北京維澳專利代理有限公司 11252 | 代理人: | 賈博雍;吳蘭柱 |
| 地址: | 加拿大,*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 注射 熱流 噴嘴 | ||
共注射熱流道噴嘴包括內熔體流通道以及圍繞著內熔體流通道的環形外熔體流通道。內熔體流通道和外熔體流通道具有第一公共源。噴嘴進一步包括設置在內熔體流通道與外熔體流通道之間的環形中間熔體流通道。環形中間熔體流通道至少部分由多個螺旋凹槽限定,其中各螺旋凹槽具有相應入口并限定螺旋形流路。相鄰的螺旋凹槽之間的槽岸的間隙沿著下游方向增大。環形軸向流路限定在槽岸上方。具有第二公共源的多個供料通道被配置成將熔體供給至螺旋凹槽的多個入口。供料通道與螺旋凹槽之間可存在有1:1的關系。入口可為縱向通道。
技術領域
本公開涉及注射成型,具體涉及在共注射成型中使用的熱流道噴嘴。
背景技術
共注射成型裝置可包括設計成分配具有多個環形層的熔化成型材料(“熔體”)物流的熱流道噴嘴。在共注射熱流道噴嘴的一個示例中,噴嘴可分配內熔體層、環形外熔體層以及位于上述兩層之間的環形中間(或“核心”)熔體層。例如,中間層可由阻隔材料(例如,氧阻隔材料)制成,其旨在防止成型制品或由成型制品隨后吹塑成型的容器中的內容物受到外部的污染(例如,氧化)。在另一示例中,中間層可由消費后再研磨材料制成,這可用于限制材料成本。多層流可在大體上呈管狀的制品(例如,可吹塑來形成容器的預成型件)的共注射成型期間分配或注射入成型腔中。內、外熔體層可分別形成成型制品的內、外表層,且中間材料可夾在內表層與外表層之間。
為了形成多層熔體物流中的各環形層,共注射噴嘴可采用俗稱“涂覆懸掛件”通道幾何形狀的形狀。在此類通道幾何形狀中,熔化成型材料從單個入口流入一對限定在噴嘴內的收集器通道中。該兩個收集器通道的形狀像兩個彎曲(例如,半圓狀)的對稱鑲尖,該鑲尖從單個公共入口延伸出,并在其遠端處匯合。該兩個鑲尖狀通道可限定相應的順時針方向流及逆時針方向流,其中該順時針方向流及逆時針方向流在入口的圓環的相對側上的終止點處匯合。環形溢流通路可允許熔體向下輸送經過收集器通道終止點。溢流通路可在收集器通道的最下游邊緣處采用定寬分路的形式,其中成型材料可穿過該定寬分路以形成環形流。
上文所述的涂覆懸掛件通道幾何形狀可形成粘度分布不均勻的環形熔體層,在該環形熔體層中,最接近入口的環形流部分的速度可高于環形流剩余部分的速度。另外,熔體在入口側的溫度可高于所得環形流中其他位置的溫度。這可導致成型制品出現異常,例如,在注射中間成型材料的溫度高于其在相鄰成型區域中的溫度的區域中出現證示線,這種情況可產生不利影響。美國專利第6,524,093號描述了各種與涂覆懸掛件通道相關聯的技術挑戰。
其他類型的共注射熱流道噴嘴可以其他方式限定環形流。例如,熱流道噴嘴可利用被布置成繞著噴嘴的周邊的多個流過渡通道來限定環形流。各通道可沿下游方向變寬,并可具有限定部分環形熔體物流的部分環形出口。出口可布置成環形,從而使得其共同限定環形流。
不利的是,此類通道幾何形狀所產生的環形流可具有不均勻的粘度分布和/或不均勻的溫度分布。特別地,熔體在各通道的發散壁處的溫度可因剪切效應而高于其在通道中間的溫度。因此,所得環形流在相鄰通道出口之間的邊界處的粘度可低于環形流中其他位置的粘度。低粘度區域可在成型制品的相應區域中形成薄熔體區、污點和/或證示線,這種情況可產生不利影響。
包括流過渡結構(例如,涂覆懸掛件)或流過渡通道的噴嘴可產生在流前端交匯的點處具有熔接線的環形流。此類熔接線可以污點和/或線的形式出現在成型制品中,這種情況同樣可產生不利影響。
發明內容
根據本公開的一個方面,提供了一種共注射熱流道噴嘴,其包括:內熔體流通道;圍繞著內熔體流通道的環形外熔體流通道,其中內熔體流通道和外熔體流通道具有第一公共源;環形中間熔體流通道,其設置在內熔體流通道與外熔體流通道之間,并至少部分由多個螺旋凹槽限定,其中各螺旋凹槽具有相應入口并限定螺旋形流路,其中相鄰的螺旋凹槽之間具有間隙沿著下游方向增大的槽岸,其中環形軸向流路限定在槽岸上方;以及多個供料通道,其用于將熔體供給至螺旋凹槽的多個入口,其中該多個供料通道具有第二公共源。
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