[發明專利]共注射熱流道噴嘴

有效

• 申請號: 201810034517.0
• 申請日: 2018-01-15
• 公開（公告）號: CN108454023B
• 公開（公告）日: 2020-12-01
• 發明（設計）人: 阿卜杜斯拉姆·布第;哈基穆丁·博克斯瓦拉;內森·蓋布里埃爾·索思威克;馬切伊·布雷斯基;迪特馬·鐵莫·布蘭德;亞當·克里斯托弗·烏萊梅克;德克·霍格爾·施盧姆斯
• 申請（專利權）人: 赫斯基注塑系統有限公司
• 主分類號: B29C45/27
• 分類號: B29C45/27
• 代理公司: 北京維澳專利代理有限公司 11252
• 代理人: 賈博雍;吳蘭柱

1.一種共注射熱流道噴嘴，其包括：

內熔體流通道；

圍繞著所述內熔體流通道的環形外熔體流通道，其中所述內熔體流通道和所述外熔體流通道具有第一公共源；

環形中間熔體流通道，所述環形中間熔體流通道設置在所述內熔體流通道與所述外熔體流通道之間，并至少部分由多個螺旋凹槽限定，其中各螺旋凹槽具有相應入口并限定螺旋形流路，其中相鄰的螺旋凹槽之間具有間隙沿著下游方向增大的槽岸，其中環形軸向流路限定在所述槽岸上方；以及

多個供料通道，所述多個供料通道用于將熔體供給至所述螺旋凹槽的多個所述入口，其中所述多個供料通道具有第二公共源；

其中所述供料通道中的每一個用于將熔體供給至所述螺旋凹槽中的相應一個螺旋凹槽的所述入口；

其中所述入口的每一個包括縱向通道，且所述共注射熱流道噴嘴進一步包括用于各螺旋凹槽的流重定向通道，其中所述流重定向通道用于重定向來自所述相應入口的縱向流動熔體以使其流入所述螺旋凹槽。

2.根據權利要求1所述的共注射熱流道噴嘴，其中所述流重定向通道中的每一個包括與縱軸成70°的角度的漸彎彎頭。

3.根據權利要求1所述的共注射熱流道噴嘴，其中所述螺旋凹槽形成在所述環形中間熔體流通道的內壁中。

4.根據權利要求1所述的共注射熱流道噴嘴，其中所述螺旋凹槽形成在所述環形中間熔體流通道的外壁中。

5.根據權利要求1所述的共注射熱流道噴嘴，其中各螺旋凹槽的深度沿著所述下游方向減小。

6.根據權利要求1所述的共注射熱流道噴嘴，其進一步包括布置成環形的用于限定所述外熔體流通道的多個流過渡通道，其中所述流過渡通道中的每一個具有入口、半圓環狀出口以及一對沿著所述下游方向發散的相對側壁。

7.根據權利要求6所述的共注射熱流道噴嘴，其中所述內熔體流通道大體上呈圓柱形。

8.一種共注射成型方法，其包括：

在共注射熱流道噴嘴的內通道與外通道之間分開第一熔體流，其中所述外通道形成圍繞著由所述內通道形成的內熔體流的環形外熔體流；以及

在所述共注射熱流道噴嘴的環形中間通道上游處的多個供料通道之間分開第二熔體流，其中所述中間通道設置在所述內通道與所述外通道之間，并至少部分由多個螺旋凹槽限定，各螺旋凹槽具有相應入口，所述多個供料通道將熔體供給至所述多個螺旋凹槽的所述入口，所述中間通道進一步由相鄰的螺旋凹槽之間的槽岸限定，所述槽岸的間隙沿著下游方向增大，其中包括所述第二熔體流的熔體沿著由相應的所述螺旋凹槽限定的螺旋形流路進行流動，并溢出所述槽岸以形成環形軸向流；

其中供料通道的數量與螺旋凹槽的數量相匹配，且其中各供料通道將熔體供給至所述螺旋凹槽中的相應一個螺旋凹槽的所述入口；

其中各入口為縱向通道，且所述共注射成型方法進一步包括以70°的角度逐漸重定向來自各入口的縱向流動熔體以使其流入相應的螺旋凹槽中。

9.根據權利要求8所述的共注射成型方法，其中所述環形外熔體流的形成包括使熔體穿過布置成環形的多個流過渡通道，其中所述流過渡通道中的每一個具有入口、半圓環狀出口以及一對沿著所述下游方向發散的相對側壁。