[發明專利]減振器的閥結構

有效

• 申請號: 201810032365.0
• 申請日: 2018-01-12
• 公開（公告）號: CN108302150B
• 公開（公告）日: 2020-10-13
• 發明（設計）人: 金南昊
• 申請（專利權）人: 株式會社萬都
• 主分類號: F16F9/34
• 分類號: F16F9/34;F16F9/32
• 代理公司: 北京路浩知識產權代理有限公司 11002
• 代理人: 趙赫;趙愛玲

1.一種減振器的閥結構，其包括：

主體，被配置成將缸體的內部劃分成壓縮室和擴展室；

至少一個第一流動路徑，關于所述主體的豎直中心徑向地設置并且包括上端和下端，進口和出口被相應地形成在所述上端和所述下端上；

多個輔助盤，所述多個輔助盤為多層并且被設置于所述壓縮室，所述多個輔助盤中的至少一個包括邊緣，所述邊緣被配置成在所述壓縮室中與所述主體的下表面緊密接觸以阻擋所述第一流動路徑的出口，并且沿著所述邊緣形成至少一個狹縫，以僅在擴展沖程期間打開所述第一流動路徑的下端；

至少一個第二流動路徑，沿著所述第一流動路徑的外側關于所述主體的豎直中心徑向地設置并且包括上端和下端，其中所述第二流動路徑豎直地穿過所述上端和所述下端；

至少一個壓縮側主盤，所述至少一個壓縮側主盤的直徑大于所述輔助盤的直徑，所述至少一個壓縮側主盤設置在所述輔助盤下方，包括與所述第二流動路徑的出口緊密接觸的邊緣，并且被配置成在所述擴展沖程期間打開位于所述壓縮室中的所述第二流動路徑的出口；以及

至少一個擴展側主盤，在所述擴展室中，所述至少一個擴展側主盤與所述第二流動路徑的出口緊密接觸，并且被配置成在壓縮沖程期間打開位于所述擴展室中的所述第二流動路徑的出口，

其中，擴展部分被形成為在所述主體的上表面和下表面處從所述第二流動路徑的出口的邊緣部分突出，

所述擴展部分包括突出端，所述突出端與所述壓縮側主盤的邊緣和所述擴展側主盤的邊緣緊密接觸，從而使得所述第二流動路徑的進口分別與所述壓縮側主盤和所述擴展側主盤分離，并且

所述第一流動路徑和所述第二流動路徑彼此間隔開以形成獨立的流動路徑。

2.根據權利要求1所述的減振器的閥結構，其中所述第二流動路徑的進口和出口交替地設置在所述主體的上表面和下表面中。

3.根據權利要求2所述的減振器的閥結構，其中所述第二流動路徑的出口和進口在所述壓縮室和所述擴展室方向上的同一線上相對地設置。