[發明專利]化學放大膠組合物及其在紫外光刻的應用

有效

• 申請號: 201810032040.2
• 申請日: 2018-01-12
• 公開（公告）號: CN110032040B
• 公開（公告）日: 2020-09-22
• 發明（設計）人: 楊國強;袁華;彭曉曼;王亞飛;王亮乾;許箭;郭旭東;王雙青
• 申請（專利權）人: 中國科學院化學研究所
• 主分類號: G03F7/004
• 分類號: G03F7/004;G03F7/039;G03F7/20
• 代理公司: 北京知元同創知識產權代理事務所(普通合伙) 11535
• 代理人: 劉元霞

1.一種化學放大型光刻膠組合物，包括主體材料、光致產酸劑、溶劑，所述主體材料為選自通式(I)、(II)、(III)、(IV)所示的化合物中的一種或多種，

其中，X獨立地選自NH、S或O，Y為N，R獨立地選自H、OH、酸敏基團，且至少一個R為酸敏基團，所述酸敏基團選自如下結構：-O-CO-OC_1-20烷基或-O-CO-C_1-20烷基；

Z獨立地選自H、C_1-8烷基、-COOC_1-8烷基、R’獨立地選自H、OH或酸敏基團，且至少一個R’為酸敏基團，所述酸敏基團獨立的選自-OC_1-8烷基、-OCOOC_1-8烷基、

所述光致產酸劑為化合物中的一種或幾種。

2.如權利要求1所述的光刻膠組合物，其中，所述-OCOOC_1-8烷基為所述-COOC_1-8烷基為

3.如權利要求1所述的光刻膠組合物，其中，所述光致產酸劑為

4.如權利要求1-3任一項所述的光刻膠組合物，其中，所述光致產酸劑的質量占光刻膠主體材料的2％-20％。

5.如權利要求1-3任一項所述的光刻膠組合物，其中，所述光刻膠組合物中主體材料的質量占光刻膠組合物的0.5％-10％。

6.如權利要求1-3任一項所述的光刻膠組合物，其中，所述光刻膠溶劑為烷烴、酯、醚、鹵代烷化合物。

7.如權利要求6所述的光刻膠組合物，其中，所述光刻膠溶劑為1,2,3-三氯丙烷、苯甲醚、丙二醇甲醚醋酸酯、丙二醇單醋酸酯、丙二醇二醋酸酯、乳酸乙酯、丙二醇單甲醚、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、醋酸新戊酯、醋酸丁酯、二乙二醇乙醚、乙二醇單甲醚、環己酮中的一種或幾種。

8.如權利要求6所述的光刻膠組合物，其中，所述光刻膠溶劑的質量占光刻膠組合物90％-99.5％。

9.如權利要求1-3任一項所述的光刻膠組合物，其中，所述組合物含有防酸擴散劑。

10.如權利要求9所述的光刻膠組合物，其中，所述防酸擴散劑為含氮的胺類化合物。

11.如權利要求10所述的光刻膠組合物，其中，所述防酸擴散劑為甲胺、二甲胺、三甲胺、三乙胺、三丙胺、三丁胺、已二胺、環己胺、正辛胺、三正辛胺、N-甲基二正辛胺、叔辛胺、苯甲胺。

12.如權利要求9所述的光刻膠組合物，其中，所述防酸擴散劑的質量占光致產酸劑0％-20％。

13.根據權利要求1-3任一項所述的光刻膠組合物，其中，所述光刻膠組合物還含有增感劑、表面活性劑、染料、穩定劑。

14.一種薄膜，其是由權利要求1-13任一項所述的光刻膠組合物涂于基片上得到的。

15.根據權利要求14所述的薄膜，其中所述薄膜由權利要求1-13任一項所述的光刻膠組合物旋涂于基片上得到。

16.權利要求1-13任一項所述的光刻膠組合物或權利要求14或15所述的薄膜的用途，其用于200-450nm的紫外光刻中。

17.根據權利要求16所述的用途，其用于365nm I線光刻、248nm深紫外光刻、436nm G線光刻。

18.根據權利要求16所述的用途，其用于紫外曝光機、365nm激光直寫近場光刻、365nm激光干涉光刻。