[發(fā)明專利]觸控模組及其制造方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810027327.6
• 申請(qǐng)日: 2018-01-11
• 公開（公告）號(hào): CN110032285A
• 公開（公告）日: 2019-07-19
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 唐根初;劉偉
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 南昌歐菲顯示科技有限公司
• 主分類號(hào): G06F3/041
• 分類號(hào): G06F3/041
• 代理公司: 北京清亦華知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11201
• 代理人: 張潤

1.一種觸控模組的制造方法，其特征在于，包括：

提供一基材，所述基材包括相背的正面及背面；

在所述正面形成壓印層；

在所述壓印層上壓印形成第一凹槽；

在所述第一凹槽內(nèi)填充導(dǎo)電材料以形成第一觸控電極；

在所述背面形成光阻層；

在所述光阻層上形成第二凹槽；

在所述第二凹槽內(nèi)填充導(dǎo)電材料以形成第二觸控電極。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述在所述壓印層上壓印形成第一凹槽的步驟包括：

利用納米壓印技術(shù)在所述壓印層上形成所述第一凹槽。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述第一凹槽的深度小于所述壓印層厚度。

4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任意一項(xiàng)所述的制造方法，其特征在于，所述第一凹槽的數(shù)量包括多個(gè)，多個(gè)所述第一凹槽相互平行并間隔設(shè)置。

5.根據(jù)權(quán)利要求1-3任意一項(xiàng)所述的制造方法，其特征在于，所述制造方法還包括：

燒結(jié)所述第一觸控電極。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述在所述光阻層上形成第二凹槽的步驟包括：

對(duì)所述光阻層進(jìn)行曝光、顯影以形成所述第二凹槽。

7.根據(jù)權(quán)利要求1或6所述的制造方法，其特征在于，所述第二凹槽的數(shù)量包括多個(gè)，多個(gè)所述第二凹槽相互平行并間隔設(shè)置。

8.根據(jù)權(quán)利要求1或6所述的制造方法，其特征在于，所述第二凹槽的寬度小于2微米。

9.根據(jù)權(quán)利要求1或6所述的制造方法，其特征在于，所述制造方法還包括：

燒結(jié)所述第二觸控電極。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述第一觸控電極的數(shù)量包括多條，所述第二觸控電極的數(shù)量包括多條，每條所述第一觸控電極在所述正面上的投影與多條所述第二觸控電極在所述正面上的投影均相交，每條所述第二觸控電極在所述正面上的投影與多條所述第一觸控電極在所述正面上的投影均相交。

11.一種觸控模組，其特征在于，包括：

基材，所述基材包括相背的正面及背面；

形成在所述正面的壓印層，所述壓印層上通過壓印形成有第一凹槽；

通過在所述第一凹槽內(nèi)填充導(dǎo)電材料形成的第一觸控電極；

形成在所述背面的光阻層，所述光阻層上形成有第二凹槽；及

通過在所述第二凹槽內(nèi)填充導(dǎo)電材料形成的第二觸控電極。