[發(fā)明專利]并行周向連續(xù)式等離子體鍍膜裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810018511.4
• 申請(qǐng)日: 2018-01-09
• 公開（公告）號(hào): CN108179397B
• 公開（公告）日: 2020-02-14
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 郎文昌;高斌;劉偉
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 溫州職業(yè)技術(shù)學(xué)院
• 主分類號(hào): C23C14/56
• 分類號(hào): C23C14/56
• 代理公司: 33258 溫州名創(chuàng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司
• 代理人: 陳加利

1.一種并行周向連續(xù)式等離子體鍍膜裝置，其特征在于：包括工藝腔體、回轉(zhuǎn)腔體、進(jìn)料系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、物料車，工藝腔體內(nèi)設(shè)置有多組工藝組件密封板、周向分布的多組儲(chǔ)料腔、回轉(zhuǎn)裝置、物料引導(dǎo)裝置、進(jìn)料口，回轉(zhuǎn)腔體設(shè)置有回轉(zhuǎn)伸縮裝置、物料傳導(dǎo)裝置、物料腔，進(jìn)料口設(shè)置有可開合的密封門板，真空系統(tǒng)分別對(duì)工藝腔體與回轉(zhuǎn)腔體的組合體、進(jìn)料口進(jìn)行真空處理，物料車上裝載樹形單掛物料，工藝腔體內(nèi)形成獨(dú)立真空室并獨(dú)立進(jìn)行工藝處理，回轉(zhuǎn)裝置實(shí)現(xiàn)物料車的傳動(dòng)及自轉(zhuǎn)，回轉(zhuǎn)腔體內(nèi)的物料腔可與儲(chǔ)料腔及進(jìn)料口形成密封的獨(dú)立真空室并實(shí)現(xiàn)物料車傳導(dǎo)，進(jìn)料系統(tǒng)可將物料取出及放入。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的并行周向連續(xù)式等離子體鍍膜裝置，其特征在于：所述的工藝腔體內(nèi)設(shè)置有多組工藝組件密封板、周向分布的多組儲(chǔ)料腔、回轉(zhuǎn)裝置、物料引導(dǎo)裝置，所述的多組工藝組件密封板裝配有氣相沉積工藝模塊，并可與之相對(duì)的儲(chǔ)料腔形成獨(dú)立的真空室，從而獨(dú)立進(jìn)行相應(yīng)的氣相沉積工藝處理，所述的多組儲(chǔ)料腔裝配在回轉(zhuǎn)裝置上，所述回轉(zhuǎn)裝置可實(shí)現(xiàn)儲(chǔ)料腔的公轉(zhuǎn)及儲(chǔ)物腔內(nèi)的物料車自轉(zhuǎn)，所述物料引導(dǎo)裝置裝配在儲(chǔ)料腔內(nèi)，通過(guò)氣缸伸展推動(dòng)，可實(shí)現(xiàn)物料車在工藝腔體及回轉(zhuǎn)腔體之間傳導(dǎo)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的并行周向連續(xù)式等離子體鍍膜裝置，其特征在于：所述的回轉(zhuǎn)腔體設(shè)置有回轉(zhuǎn)伸縮裝置、物料傳導(dǎo)裝置、物料腔，所述物料腔有兩組，裝配在回轉(zhuǎn)伸縮裝置上，所述回轉(zhuǎn)伸縮裝置可通過(guò)雙向氣缸實(shí)現(xiàn)物料腔的伸縮及轉(zhuǎn)動(dòng)，一個(gè)物料腔與所述工藝腔體內(nèi)的儲(chǔ)料腔形成密封的導(dǎo)料真空室并通過(guò)物料傳導(dǎo)裝置實(shí)現(xiàn)物料車的傳導(dǎo)，另一個(gè)物料腔與進(jìn)料口形成進(jìn)出料真空室，可通過(guò)進(jìn)料口門板的開合將物料取出放入物料車上。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的并行周向連續(xù)式等離子體鍍膜裝置，其特征在于：所述的進(jìn)料口上設(shè)置有可開合的進(jìn)料門板，進(jìn)料口與回轉(zhuǎn)腔體、工藝腔體通過(guò)螺栓禁錮。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的并行周向連續(xù)式等離子體鍍膜裝置，其特征在于：所述的真空系統(tǒng)包括分別對(duì)工藝腔體與回轉(zhuǎn)腔體的組合體、進(jìn)料口進(jìn)行獨(dú)立真空處理的真空泵組。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的并行周向連續(xù)式等離子體鍍膜裝置，其特征在于：所述的物料車為帶有轉(zhuǎn)動(dòng)輪的可裝載單掛樹形夾具的運(yùn)輸平臺(tái)，所述物料車通過(guò)機(jī)械裝配實(shí)現(xiàn)物料車與所述工藝腔體內(nèi)的回轉(zhuǎn)裝置之間齒輪傳動(dòng)，從而實(shí)現(xiàn)物料車上樹形夾具的自轉(zhuǎn)。

7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的并行周向連續(xù)式等離子體鍍膜裝置，其特征在于：所述的工藝腔體內(nèi)可獨(dú)立進(jìn)行氣相沉積工藝處理，所述導(dǎo)料真空室及進(jìn)出料真空室可進(jìn)行物料的傳導(dǎo)及取出、放入,所述的工藝模塊包括磁控濺射模塊、電弧離子鍍模塊、離子源模塊及其他氣相沉積模塊。

8.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的并行周向連續(xù)式等離子體鍍膜裝置，其特征在于：所述的物料傳導(dǎo)裝置及物料引導(dǎo)裝置是通過(guò)氣缸的伸展推動(dòng)物料的移動(dòng)，并通過(guò)機(jī)械桿卡位實(shí)現(xiàn)物料車的平穩(wěn)傳導(dǎo)，所述的工藝腔體內(nèi)通過(guò)氣缸驅(qū)動(dòng)工藝組件密封板與相對(duì)的儲(chǔ)料腔形成獨(dú)立的密封工藝真空室，所述回轉(zhuǎn)腔體內(nèi)的兩組物料腔通過(guò)回轉(zhuǎn)伸縮裝置的伸縮分別與工藝腔體內(nèi)的儲(chǔ)物腔及進(jìn)料口形成獨(dú)立的密封導(dǎo)料真空室及進(jìn)出料真空室。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的并行周向連續(xù)式等離子體鍍膜裝置，其特征在于：所述的回轉(zhuǎn)腔體內(nèi)氣體、水冷及其他輔助組件是通過(guò)裝配在工藝腔體、回轉(zhuǎn)腔體上板上的同步轉(zhuǎn)動(dòng)軸通過(guò)與工藝腔體及回轉(zhuǎn)腔體轉(zhuǎn)動(dòng)電極同步轉(zhuǎn)動(dòng)來(lái)實(shí)現(xiàn)傳動(dòng)過(guò)程組件的同軸轉(zhuǎn)動(dòng)，同步轉(zhuǎn)動(dòng)軸外端裝配有萬(wàn)向接頭。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的并行周向連續(xù)式等離子體鍍膜裝置，其特征在于：所述的物料腔上裝配有電磁控制的外接抽氣閥，可通過(guò)抽氣閥的開合，實(shí)現(xiàn)在形成獨(dú)立密封導(dǎo)料真空室時(shí)的真空處理；所述的工藝組件密封板上有通過(guò)波紋管與真空系統(tǒng)連接的管路,可對(duì)工藝真空室在工藝過(guò)程中進(jìn)行真空處理。