[發明專利]環形循環連續式真空鍍膜裝置

有效

• 申請號: 201810018226.2
• 申請日: 2018-01-09
• 公開（公告）號: CN108179396B
• 公開（公告）日: 2020-07-28
• 發明（設計）人: 郎文昌
• 申請（專利權）人: 溫州職業技術學院
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56;C23C16/54
• 代理公司: 溫州名創知識產權代理有限公司 33258
• 代理人: 陳加利

本發明涉及一種環形循環連續式真空鍍膜裝置，包括主腔體、主真空系統及鍍膜工藝組件，主腔體設置有主腔室、可開合的進料口，還包括轉盤、轉盤升降機構、轉盤轉動機構、進料腔室、若干個工藝腔室及進料子腔室真空系統，轉盤轉動機構驅動轉盤水平轉動，將待鍍工件在進料腔室及各個工藝腔室之間傳遞，轉盤升降機構驅動轉盤升降，將進料腔室及工藝腔室在與主腔室聯通的狀態及獨立真空腔室的狀態之間切換，主真空系統將主腔室及各個工藝腔室進行真空處理，進料子腔室真空系統將進料腔室單獨進行真空處理，不同的鍍膜工藝組件安裝于各工藝子腔體，實現不同的鍍膜功能。本發明可在一個真空腔內實現環形循環連續式、低成本的鍍膜生產。

技術領域

本發明屬于真空鍍膜設備技術領域，具體涉及一種環形循環連續式真空鍍膜裝置。

背景技術

現有的真空鍍膜設備按照真空設備中真空腔的數目可分為單體式鍍膜機及連續式鍍膜設備。

單體式鍍膜機通常是有一個真空腔體及抽氣系統組成，真空鍍膜工藝模塊裝載在腔體上，在達到所需真空度時，啟用所需真空鍍膜工藝模塊，來實現材料表面的加工，單一腔體導致產品進出料時需要開關門，不能對產品進行連續生產，這會大大降低生產效率，增大人工成本，而且生產的不連續性造成實際生產中的產品差異性增大，一定程度上會影響產品質量。

自動連續式真空鍍膜設備是多個獨立的鍍膜腔組成的線性連續真空鍍膜裝置，具有連續不間斷生產、工藝穩定、生產節拍短的特點，目前大量應用于工業生產。線性連續式真空鍍膜設備可以大大提高生產的自動化程度，提高生產效率，提高良品率。

現有技術中的線性連續式真空鍍膜設備包含具有復數獨立的鍍膜腔、具有清潔緩沖腔及緩沖真空腔的緩沖真空裝置、具有前置準備腔及完成腔的準備裝置、傳送裝置及包括復數閘門的閘門單元。

線性連續式真空鍍膜設備結構復雜，多個獨立的鍍膜腔需要配置多個高真空泵組，大量閘門的使用，增加了生產成本、生產時間、生產空間，復雜的設備增加了待鍍工件傳動的難度，多個腔體的存在也使增加了生產過程中故障維修的難度和成本，線性連續式鍍膜設備的高門檻大大提高了企業的使用成本；對于一些小尺寸的工件，目前的連續式加工需要大量的人力裝、卸載，很難實現連續化生產。

發明內容

針對現有技術存在的不足，本發明的目的在于提供一種可在一個真空腔內實現對產品環形循環連續式鍍膜生產的低成本真空涂層裝置。

為實現上述目的，本發明提供了如下技術方案：包括主腔體、主真空系統及鍍膜工藝組件，所述的主腔體內設置有主腔室，所述的主真空系統將主腔室進行真空處理，所述的主腔體設置有可開合的進料口，其特征在于：還包括轉盤、轉盤轉動機構、轉盤升降機構、進料子腔體、至少2個工藝子腔體及進料子腔室真空系統，所述的轉盤轉動機構驅動轉盤水平轉動設置于主腔室內，所述的進料子腔體及工藝子腔體安裝于主腔體頂部上蓋板，所述的進料子腔體及兩個以上工藝子腔體位于轉盤上方并沿轉盤環形周向等距排布，所述的進料子腔體及工藝子腔體底部設置有朝向轉盤的密封口，所述的轉盤在轉盤升降機構驅動其上升時，將進料子腔體的密封口密封并構成進料腔室，將工藝子腔體的密封口密封并構成工藝腔室，所述的進料子腔室真空系統將進料腔室單獨進行真空處理，所述的轉盤上方用于放置待鍍工件，并在轉盤轉動機構驅動其轉動時將待鍍工件在進料腔室及各工藝腔室之間傳遞，所述的鍍膜工藝組件安裝于工藝子腔體對應的主腔體頂部上蓋板且各鍍膜工藝組件的功能不同。

本發明進一步設置為：所述的轉盤升降機構包括安裝于主腔體并位于轉盤下方的側升降氣缸及中升降氣缸，所述的側升降氣缸驅動設置有與轉盤放置待鍍工件位置下方相抵的側升降板，所述的中升降氣缸驅動設置有中升降板，所述的中升降板設置有與轉盤中部相抵的支撐桿。

本發明進一步設置為：所述的轉盤轉動機構包括安裝于主腔體并位于轉盤下方的轉盤電機，所述的轉盤電機驅動設置有轉盤電機軸，所述的轉盤電機軸與轉盤周向聯動。