[發明專利]薄膜形成裝置

在審

• 申請號: 201810017716.0
• 申請日: 2018-01-09
• 公開（公告）號: CN108570660A
• 公開（公告）日: 2018-09-25
• 發明（設計）人: 郭東周;姜京佑;金剛熙
• 申請（專利權）人: HB技術有限公司
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455;C23C16/48
• 代理公司: 北京冠和權律師事務所 11399
• 代理人: 朱健;陳國軍

1.一種薄膜形成裝置，通過將源氣體供給至基板的表面上，并將激光束照射至被供給的源氣體，并借助與激光束產生反應的源氣體在基板上形成薄膜，以修補基板的缺陷，其特征在于，

所述基板的上部具備有腔室單元，

所述腔室單元上形成有：用于滯留源氣體的氣體滯留空間部、用于覆蓋所述氣體滯留空間部的上端開口部的窗口，其中，激光束從所述窗口的上部照射，

用于供給及排放氣體的多個管道連接于所述腔室單元的內部。

2.根據權利要求1所述的薄膜形成裝置，其特征在于，

所述腔室單元形成有：源氣體供給裝置，其從所述氣體滯留空間部的一側供給源氣體；熱風供給裝置，其用于供給加熱氣體，以對加工部分周邊部的基板進行局部加熱；排氣裝置，其用于排放從所述氣體滯留空間部所排出的源氣體及加熱氣體，

所述腔室單元的內部形成有多個內部通道，以使所述源氣體供給裝置、熱風供給裝置及排氣裝置分別連接并連通于所述管道上。

3.根據權利要求2所述的薄膜形成裝置，其特征在于，

所述源氣體供給裝置構成為，所述氣體滯留空間部上形成有源氣體導入口，以供源氣體從氣體滯留空間部的側面噴出，

所述熱風供給裝置構成為，所述腔室單元的底面形成有多個熱風口，所述多個熱風口以所述氣體滯留空間部的底端開口部為中心，呈放射性形狀形成。

4.根據權利要求3所述的薄膜形成裝置，其特征在于，

所述排氣裝置構成為，包括：第一排氣口，其形成于所述氣體滯留空間部的底端開口部和所述熱風口之間；第二排氣口，其以所述氣體滯留空間部的底端開口部為基準，形成于所述熱風口的外側；

所述第一排氣口與第二排氣口形成有多個，且均位于所述腔室單元的底面，并以所述氣體滯留空間部的底端開口部為中心，呈放射性形狀形成。

5.根據權利要求3所述的薄膜形成裝置，其特征在于，

所述源氣體導入口朝向基板以既定角度傾斜地設置，以形成源氣體朝向基板上面的需要修補的加工部分噴出的流向，所述熱風口和所述排氣口均以所述氣體滯留空間部的底端開口部為中心，以等同間距形成。

6.根據權利要求4所述的薄膜形成裝置，其特征在于，

所述氣體滯留空間部形成有，將空氣噴射至氣體滯留空間部的空氣噴射口，以用于當基板不存在時或者未進行加工時，通過借助從所述空氣噴射口噴出的空氣，而誘導從所述源氣體導入口排出的源氣體吸入至所述第一排氣口中，以避免源氣體被分散。

7.根據權利要求2所述的薄膜形成裝置，其特征在于，

所述管道上分別具備有：用于測定所供給及排放的氣體的溫度的溫度傳感器；及用于調節氣體流量的流量調節裝置。