[發明專利]蒸鍍掩模、蒸鍍掩模裝置的制造方法以及蒸鍍掩模的制造方法

有效

• 申請號: 201810014059.4
• 申請日: 2018-01-08
• 公開（公告）號: CN108286034B
• 公開（公告）日: 2020-06-02
• 發明（設計）人: 池永知加雄
• 申請（專利權）人: 大日本印刷株式會社
• 主分類號: G03F1/42
• 分類號: G03F1/42;G03F1/44;G03F1/72;C23C14/04;C23C14/24
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 李輝;鄧毅

1.一種蒸鍍掩模的制造方法，其是制造蒸鍍掩模的方法，

所述蒸鍍掩模在第1方向上延伸，

所述蒸鍍掩模具備：

中心軸線，其在所述第1方向上延伸，且被配置于和所述第1方向垂直的第2方向的中心位置處；

P1點和Q1點，它們被設置于所述中心軸線的一側，且沿著所述第1方向互相分離；以及

P2點和Q2點，它們被設置于所述中心軸線的另一側，且沿著所述第1方向互相分離，

所述P1點和所述P2點被有意配置成在蒸鍍時關于所述中心軸線互相對稱，

所述Q1點和所述Q2點被有意配置成在蒸鍍時關于所述中心軸線互相對稱，

其特征在于，

所述蒸鍍掩模的制造方法具備：

制作工序，制作所述蒸鍍掩模；

測量工序，測量從所述P1點至所述Q1點的尺寸X1和從所述P2點至所述Q2點的尺寸X2；以及

判定工序，在設所述尺寸X1的設計值或所述尺寸X2的設計值為α_X時，判定在所述測量工序中測量出的尺寸X1和尺寸X2是否滿足

【算式1】

且滿足

【算式2】

|X1-X2|≤60μm，

所述蒸鍍掩模具備：

第1耳部和第2耳部，它們構成所述蒸鍍掩模在所述第1方向上的一對端部；

多個貫通孔，它們被設置于所述第1耳部與所述第2耳部之間；以及

第1側緣和第2側緣，它們構成所述蒸鍍掩模在垂直于所述第1方向的第2方向上的一對側緣，

所述P1點和所述P2點被定位在形成于最靠所述第1耳部側的對應的所述貫通孔的中心點處，

所述Q1點和所述Q2點被定位在形成于最靠所述第2耳部側的對應的所述貫通孔的中心點處，

與所述P1點和所述Q1點對應的所述貫通孔形成于最靠所述第1側緣側的位置處，

與所述P2點和所述Q2點對應的所述貫通孔形成于最靠所述第2側緣側的位置處。

2.一種蒸鍍掩模的制造方法，其是制造蒸鍍掩模的方法，

所述蒸鍍掩模在第1方向上延伸，

所述蒸鍍掩模具備：

中心軸線，其在所述第1方向上延伸，且被配置于和所述第1方向垂直的第2方向的中心位置處；

P1點和Q1點，它們被設置于所述中心軸線的一側，且沿著所述第1方向互相分離；以及

P2點和Q2點，它們被設置于所述中心軸線的另一側，且沿著所述第1方向互相分離，

所述P1點和所述P2點被有意配置成在蒸鍍時關于所述中心軸線互相對稱，

所述Q1點和所述Q2點被有意配置成在蒸鍍時關于所述中心軸線互相對稱，

其特征在于，

所述蒸鍍掩模的制造方法具備：

準備工序，準備所述蒸鍍掩模；

測量工序，測量從所述P1點至所述Q1點的尺寸X1和從所述P2點至所述Q2點的尺寸X2；以及

判定工序，在設所述尺寸X1的設計值或所述尺寸X2的設計值為α_X時，判定在所述測量工序中測量出的尺寸X1和尺寸X2是否滿足

【算式1】

且滿足

【算式2】

|X1-X2|≤60μm，

所述蒸鍍掩模具備：

第1耳部和第2耳部，它們構成所述蒸鍍掩模在所述第1方向上的一對端部；

多個貫通孔，它們被設置于所述第1耳部與所述第2耳部之間；以及

第1側緣和第2側緣，它們構成所述蒸鍍掩模在垂直于所述第1方向的第2方向上的一對側緣，

所述P1點和所述P2點被定位在形成于最靠所述第1耳部側的對應的所述貫通孔的中心點處，

所述Q1點和所述Q2點被定位在形成于最靠所述第2耳部側的對應的所述貫通孔的中心點處，

與所述P1點和所述Q1點對應的所述貫通孔形成于最靠所述第1側緣側的位置處，

與所述P2點和所述Q2點對應的所述貫通孔形成于最靠所述第2側緣側的位置處。