[發(fā)明專利]真空泵及泵一體型的電源裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810008472.X | 申請日: | 2018-01-04 |
| 公開(公告)號: | CN108661926B | 公開(公告)日: | 2021-01-19 |
| 發(fā)明(設計)人: | 森山伸彥 | 申請(專利權)人: | 株式會社島津制作所 |
| 主分類號: | F04D19/04 | 分類號: | F04D19/04;F04D25/06;F04D29/58 |
| 代理公司: | 北京中原華和知識產權代理有限責任公司 11019 | 代理人: | 壽寧;張華輝 |
| 地址: | 日本京都府京都*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 真空泵 體型 電源 裝置 | ||
本發(fā)明提供一種真空泵及泵一體型的電源裝置。當利用多個加熱器對泵單元的加熱對象部位進行加熱時,使內置有加熱器控制部的電源裝置小型化。真空泵包括:泵單元(100),包含泵馬達(101),并包含排出經吸入的氣體的排氣功能部、及至少兩個直流加熱器(51)、直流加熱器(54);以及泵一體型的電源裝置,內置有泵控制部(201)、對泵控制部(201)供給電力的泵用電源(206)、對兩個直流加熱器(51)、直流加熱器(54)進行控制的直流加熱器控制部(203)、及對直流加熱器控制部(203)供給電力的直流加熱器電源(205)。
技術領域
本發(fā)明涉及一種真空泵及泵一體型的電源裝置。
背景技術
在利用渦輪分子泵(turbo-molecular pump)使腔室內成為高真空而進行化學氣相沉積(chemical vapor deposition,CVD)成膜或蝕刻的裝置中,根據所排出的氣體種類,在泵內部氣體會產生冷凝而使生成物容易附著在泵內。當產生這種生成物的附著時,會出現轉子平衡(rotor balance)變差等的故障。因此,已經知道有通過利用加熱器對泵本體進行加熱來抑制生成物的附著的渦輪分子泵(例如,參照專利文獻1)。
[現有技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2013-79602號公報。
發(fā)明內容
本發(fā)明的目的在于解決以下問題。
在所述專利文獻所述的渦輪分子泵中,是通過對加熱器供給交流電力來使加熱器發(fā)熱。利用交流電力的加熱器的驅動電路通常連接著交流200V的電源線(line),經由分別串聯配置的漏電探測電路、繼電器(relay)、電流傳感器及熔斷器(fuse)對加熱器施加交流200V的驅動電力。
而且,有時利用多個加熱器對多個加熱對象部位進行加熱。當使用多個加熱器時,需要對各個加熱器設置驅動電路。然而,如上所述在利用交流電力的加熱器的驅動電路中,需要設置漏電探測電路、繼電器、電流傳感器及熔斷器。因此,如果設置多個加熱器的驅動電路,那么渦輪分子泵的電源裝置的小型化會變得困難。
本發(fā)明的目的是采用以下技術方案來實現的。
本發(fā)明提供一種真空泵,本發(fā)明的一個實施形態(tài)的真空泵包括:泵單元,包含泵馬達,并包含排出經吸入的氣體的排氣功能部、及至少兩個直流加熱器;以及泵一體型的電源裝置,內置有泵控制部、對所述泵控制部供給電力的泵用電源、對所述兩個直流加熱器進行控制的直流加熱器控制部、及對所述直流加熱器控制部供給電力的直流加熱器電源。
在所述實施形態(tài)的真空泵中,優(yōu)選的是,所述泵單元還包括交流加熱器。在所述實施形態(tài)中,所述電源裝置包括對所述交流加熱器進行控制的交流加熱器控制部。
包括交流加熱器的更優(yōu)選的實施形態(tài)的真空泵包括共用強電線,所述共用強電線是將對所述交流加熱器控制部供給電力的第一強電線、對所述泵用電源供給電力的第二強電線、以及對所述直流加熱器電源供給電力的第三強電線連結而成,在所述共用強電線上設置有噪聲濾波器(noise filter)。
所述(1)~所述(3)的真空泵中,優(yōu)選的是,還包括構成所述泵單元的泵框體、構成所述電源裝置的電源裝置框體、以及介于所述泵框體與所述電源裝置框體之間的冷卻裝置。這時,所述泵控制部與所述直流加熱器控制部安裝在所述冷卻裝置上。
所述(1)的實施形態(tài)的真空泵的泵單元中,除了所述兩個直流加熱器以外,還可以設置有一個以上的直流加熱器。
本發(fā)明的另一個實施形態(tài)是一種泵一體型的電源裝置,其用于所述各種實施形態(tài)的真空泵。
根據本發(fā)明,可以使電源裝置小型化。可以使電源裝置一體化的真空泵小型化。
附圖說明
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