[發明專利]掩膜版的吸附裝置及吸附方法、蒸鍍設備及蒸鍍方法

有效

• 申請號: 201810004706.3
• 申請日: 2018-01-03
• 公開（公告）號: CN108165927B
• 公開（公告）日: 2020-03-31
• 發明（設計）人: 羅昶;吳建鵬
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/24
• 代理公司: 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274
• 代理人: 胡萌

本發明提供了一種掩膜版的吸附裝置及吸附方法、蒸鍍設備及蒸鍍方法，以解決蒸鍍時掩膜版被吸附后FMM出現褶皺的問題。其中該吸附方法包括：從掩膜版的某一或某些區域開始吸附，然后由初始吸附區域逐漸擴大吸附范圍，直至整個掩膜版與襯底基板相貼合。上述吸附方法應用于制造OLED顯示面板的蒸鍍過程中，以提高蒸鍍質量。

技術領域

本發明涉及OLED(英文全稱為：Organic Light-Emitting Diode，中文名稱為：有機發光二極管)顯示面板制造技術領域，尤其涉及一種掩膜版的吸附裝置及吸附方法、蒸鍍設備及蒸鍍方法。

背景技術

目前，OLED顯示面板的生產主要采用的是蒸發鍍膜的方式，蒸鍍過程中，需要采用FMM(英文全稱為：Fine Metal Mask，中文名稱為：高精度金屬掩膜版)來沉積R(紅色)子像素、G(綠色)子像素、B(藍色)子像素等膜層，以確保將薄膜材料蒸鍍在規定位置。

如圖1a～圖1d所示，在一個金屬框架1(Frame)上依次焊接遮蔽條2(Cover)、支撐條3(Howling)和長條狀的FMM 4，形成一套掩膜版。其中，遮蔽條2的長度方向與FMM 4的長度方向一致，遮蔽條2位于相鄰FMM 4之間的間隙，用以遮擋各FMM 4之間的間隙。支撐條3的長度方向與FMM 4的長度方向相垂直，用于支撐各FMM 4。遮蔽條2和支撐條3交叉所形成的網格區域暴露FMM 4的顯示區AA，FMM 4的顯示區AA對應顯示面板的顯示區AA。

如圖2a～圖2b所示，蒸鍍時，將襯底基板5置于掩膜版上方，使其與掩膜版的FMM 4貼合。通常，掩膜版和襯底基板5會由于自身重力作用而發生下垂，兩者間可能會有間隙，因此需要在襯底基板5上方放置一塊具有強磁性的高斯板6，將掩膜版吸附起來，從而使FMM 4更緊密地和襯底基板5貼合在一起，以確保蒸鍍位置的準確性。

但是，上述吸附過程卻存在如下問題：掩膜版被吸附后，FMM 4容易產生褶皺，從而引起蒸鍍位置的偏移，影響顯示面板良率；嚴重時FMM 4會產生折痕，甚至FMM 4的細孔結構被破壞，直接導致整套掩膜版損壞或報廢，造成成本的損失。

發明內容

本發明實施例提供一種掩膜版的吸附裝置及吸附方法、蒸鍍設備及蒸鍍方法，以解決蒸鍍時掩膜版被吸附后FMM出現褶皺的問題。

為達到上述目的，本發明實施例采用如下技術方案：

第一方面，本發明實施例提供了一種掩膜版的吸附裝置，該吸附裝置包括：吸附部件，用于在蒸鍍時吸附掩膜版，且能夠同時對掩膜版的不同區域產生不同或相同的吸附力；與所述吸附部件相連的控制器，用于控制所述吸附部件從掩膜版的某一或某些區域開始吸附，然后由初始吸附區域逐漸擴大吸附范圍，直至整個掩膜版與襯底基板相貼合。

作為一種可能的設計，所述吸附部件包括：第一載板；分散布置于所述第一載板上的至少兩個電磁鐵，所述至少兩個電磁鐵能夠同時產生相同的磁力，每個所述電磁鐵包括鐵芯，及纏繞于所述鐵芯上的若干圈線圈；至少兩個開關，每個所述開關與至少一個所述電磁鐵相連。

作為一種可能的設計，所述吸附部件包括：柔性的第二載板；分散布置于所述第二載板上的至少兩個磁鐵，所述至少兩個磁鐵能夠同時產生相同的磁力。

作為一種可能的設計，所述吸附部件包括至少兩個高斯單元，每個所述高斯單元包括第三載板，及布置于所述第三載板上的至少一個磁鐵；所述至少兩個高斯單元能夠獨立升降，且能夠同時產生相同的磁力；在蒸鍍時，所述至少兩個高斯單元分別對應掩膜版的各個區域，以吸附整個掩膜版。

第二方面，本發明實施例提供了一種掩膜版的吸附方法，該吸附方法應用于如第一方面所述的掩膜版的吸附裝置，該吸附方法包括：從掩膜版的某一或某些區域開始吸附，然后由初始吸附區域逐漸擴大吸附范圍，直至整個掩膜版與襯底基板相貼合。

第三方面，本發明實施例提供了一種蒸鍍設備，該蒸鍍設備包括如第一方面所述的吸附裝置。