[發明專利]掩膜版的吸附裝置及吸附方法、蒸鍍設備及蒸鍍方法

有效

• 申請號: 201810004706.3
• 申請日: 2018-01-03
• 公開（公告）號: CN108165927B
• 公開（公告）日: 2020-03-31
• 發明（設計）人: 羅昶;吳建鵬
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/24
• 代理公司: 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274
• 代理人: 胡萌

1.一種掩膜版的吸附裝置，其特征在于，所述吸附裝置包括：

吸附部件，用于在蒸鍍時吸附掩膜版，且能夠同時對掩膜版的不同區域產生不同或相同的吸附力；

與所述吸附部件相連的控制器，用于控制所述吸附部件從掩膜版的某一或某些區域開始吸附，然后由初始吸附區域逐漸擴大吸附范圍，直至整個掩膜版與襯底基板相貼合；

所述吸附部件為如下三種方案中的任意一種：

方案一：所述吸附部件包括：第一載板；分散布置于所述第一載板上的至少兩個電磁鐵，所述至少兩個電磁鐵能夠同時產生相同的磁力，每個所述電磁鐵包括鐵芯，及纏繞于所述鐵芯上的若干圈線圈；至少兩個開關，每個所述開關與至少一個所述電磁鐵相連；

方案二：所述吸附部件包括：柔性的第二載板；分散布置于所述第二載板上的至少兩個磁鐵，所述至少兩個磁鐵能夠同時產生相同的磁力；

方案三：所述吸附部件包括：至少兩個高斯單元，每個所述高斯單元包括第三載板，及布置于所述第三載板上的至少一個磁鐵；所述至少兩個高斯單元能夠獨立升降，且能夠同時產生相同的磁力；在蒸鍍時，所述至少兩個高斯單元分別對應掩膜版的各個區域，以吸附整個掩膜版。

2.根據權利要求1所述的吸附裝置，其特征在于，在所述吸附部件采用方案一所述的吸附部件的情況下，所述吸附部件還包括至少兩個可變電阻，每個所述可變電阻與至少一個所述電磁鐵相連。

3.根據權利要求2所述的吸附裝置，其特征在于，所述至少兩個電磁鐵、所述至少兩個開關和所述至少兩個可變電阻一一對應的相串聯，串聯所形成的多條支路相并聯。

4.根據權利要求1所述的吸附裝置，其特征在于，在所述吸附部件采用方案一所述的吸附部件的情況下，所述至少兩個電磁鐵均勻或者以設定規則布置于所述第一載板上，所述設定規則根據掩膜版各個區域所需的吸附力而定。

5.根據權利要求4所述的吸附裝置，其特征在于，所述電磁鐵的鐵芯為圓柱體，所述至少兩個電磁鐵呈陣列式豎立布置于所述第一載板上，或者呈至少兩個同心圓環狀豎立布置于所述第一載板上；或者，

所述電磁鐵的鐵芯為方柱體，所述至少兩個電磁鐵呈陣列式平躺布置于所述第一載板上。

6.根據權利要求5所述的吸附裝置，其特征在于，相鄰兩個所述電磁鐵之間的間隙小于或等于預估掩膜版產生褶皺的寬度值；

所述電磁鐵的鐵芯為圓柱體，所述鐵芯的直徑小于或等于預估掩膜版產生褶皺的寬度值；或者，所述電磁鐵的鐵芯為方柱體，所述鐵芯的寬度小于或等于預估掩膜版產生褶皺的寬度值。

7.根據權利要求1所述的吸附裝置，其特征在于，在所述吸附部件采用方案二所述的吸附部件的情況下，所述吸附部件還包括剛性平板，用于在吸附掩膜版時，放置于所述第二載板與襯底基板之間，以承托所述第二載板。

8.根據權利要求1所述的吸附裝置，其特征在于，在所述吸附部件采用方案二所述的吸附部件的情況下，所述磁鐵為電磁鐵或永磁鐵。

9.根據權利要求1所述的吸附裝置，其特征在于，在所述吸附部件采用方案三所述的吸附部件的情況下，所述第三載板為長條狀、方塊狀或圓餅狀，所述磁鐵為長方體或圓柱體。

10.根據權利要求1所述的吸附裝置，其特征在于，在所述吸附部件采用方案三所述的吸附部件的情況下，所述磁鐵為電磁鐵或永磁鐵。

11.一種掩膜版的吸附方法，其特征在于，所述吸附方法應用于如權利要求1～10任一項所述的掩膜版的吸附裝置，所述吸附方法包括：從掩膜版的某一或某些區域開始吸附，然后由初始吸附區域逐漸擴大吸附范圍，直至整個掩膜版與襯底基板相貼合。