[發(fā)明專利]曝光系統(tǒng)及其用于制造顯示面板的方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201810004701.0
• 申請日: 2018-01-03
• 公開（公告）號: CN109991819B
• 公開（公告）日: 2021-08-03
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 高振寬
• 申請（專利權(quán)）人: 群創(chuàng)光電股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 任巖

本發(fā)明提供一種顯示面板的制造方法，包含：提供一第一基板及一曝光系統(tǒng)，其中，該曝光系統(tǒng)包含一光源模塊及一第一屏蔽；于一初始狀態(tài)下，該第一屏蔽位于該第一基板與該光源模塊之間；沿一第一方向移動該第一屏蔽；沿一第二方向移動該光源模塊，使該光源模塊經(jīng)過該第一屏蔽并對該第一基板進行曝光，且該第一方向與該第二方向不同；沿該第二方向的反方向移動該光源模塊；以及沿該第一方向的反方向移動該第一屏蔽，使該第一屏蔽回到該第一基板與該光源模塊之間。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明關(guān)于一種顯示面板的制造方法，尤指一種以特殊設(shè)計的曝光系統(tǒng)對一基板進行曝光的方法。

背景技術(shù)

一般在顯示面板的制造過程中，需要通過光源模塊對基板進行曝光，以形成圖案化結(jié)構(gòu)，或是生成配向?qū)右岳谝壕A倒。然而，當將光源模塊移至基板上方進行曝光，以及將光源模塊從基板上方移開停止曝光的過程中，會導致基板兩側(cè)的曝光量不相同，造成基板兩側(cè)曝光程度不均勻，進而影響顯示質(zhì)量，例如導致液晶的預傾角不同，造成顯示面板亮度差異。

另外，在顯示面板制造廠空間有限的前提下，為了增加機臺放置的數(shù)量，所以要盡可能的減少機臺所占據(jù)的面積，如此便導致了光源模塊與承載基板的承載臺之間的距離過于接近，因而產(chǎn)生不必要的曝光，造成顯示質(zhì)量的下降。

因此，目前急需發(fā)展一種顯示面板的制造方法及曝光系統(tǒng)，能減少基板兩側(cè)的曝光時間、或曝光量差異，以提升顯示面板的顯示質(zhì)量。

發(fā)明內(nèi)容

有鑒于此，本發(fā)明利用一種特殊設(shè)計的曝光系統(tǒng)，并提供一種顯示面板的制造方法，能減少基板兩側(cè)的曝光時間、或曝光量差異，以提升顯示面板的顯示質(zhì)量。

為達上述目的，本發(fā)明提供一種顯示面板的制造方法，包含：提供一第一基板及一曝光系統(tǒng)，其中，該曝光系統(tǒng)包含一光源模塊及一第一屏蔽；于一初始狀態(tài)下，該第一屏蔽位于該第一基板與該光源模塊之間；沿一第一方向移動該第一屏蔽；沿一第二方向移動該光源模塊，使該光源模塊經(jīng)過該第一屏蔽并對該第一基板進行曝光，且該第一方向與該第二方向不同；沿該第二方向的反方向移動該光源模塊；以及沿該第一方向的反方向移動該第一屏蔽，使該第一屏蔽回到該第一基板與該光源模塊之間。

本發(fā)明另外提供一種曝光系統(tǒng)，包含：一第一承載臺，該第一承載臺具有一表面；一參考面，該參考面平行于該表面，且該參考面具有一法線方向；一光源模塊，與該第一承載臺相鄰；以及一第一屏蔽，設(shè)置于該第一承載臺與該光源模塊之間，其中，于一初始狀態(tài)下，該第一承載臺沿該參考面的該法線方向在該參考面具有一第一投影，該光源模塊沿該參考面的該法線方向在該參考面具有一第二投影，其中，該第一投影與該第二投影不重迭。

附圖說明

圖1A為本發(fā)明的一實施例的曝光系統(tǒng)的示意圖；

圖1B為本發(fā)明的一實施例的曝光系統(tǒng)的剖面圖；

圖1C為圖1B的俯視圖；

圖2A至2B為本發(fā)明的另一實施例的曝光裝置的剖面圖；

圖3A至3D為本發(fā)明的一實施例的制造顯示面板的流程示意圖；

圖4A至4E為本發(fā)明的另一實施例的制造顯示面板的流程示意圖；

圖5為本發(fā)明的一實施例的光源模塊的示意圖；

圖6A至6B分別為本發(fā)明的一實施例的流程4A至4E的總曝光時間對位置的關(guān)系圖。

附圖標記說明：

具體實施方式