[發(fā)明專利]曝光系統(tǒng)及其用于制造顯示面板的方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810004701.0 | 申請(qǐng)日： | 2018-01-03 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN109991819B | 公開（公告）日： | 2021-08-03 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 高振寬 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 群創(chuàng)光電股份有限公司 |
| 主分類號(hào)： | G03F7/20 | 分類號(hào)： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人： | 任巖 |
| 地址： | 中國臺(tái)灣新竹科學(xué)工*** | 國省代碼： | 臺(tái)灣;71 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 曝光 系統(tǒng) 及其 用于 制造 顯示 面板 方法 | ||
1.一種顯示面板的制造方法，包含：
提供一第一基板及一曝光系統(tǒng)，其中，該曝光系統(tǒng)包含一光源模塊及一第一屏蔽；
于一初始狀態(tài)下，該第一屏蔽位于該第一基板與該光源模塊之間；
沿一第一方向移動(dòng)該第一屏蔽；
沿一第二方向移動(dòng)該光源模塊，使該光源模塊經(jīng)過該第一屏蔽并對(duì)該第一基板進(jìn)行曝光，且該第一方向與該第二方向不同；
沿該第二方向的反方向移動(dòng)該光源模塊；以及
沿該第一方向的反方向移動(dòng)該第一屏蔽，使該第一屏蔽回到該第一基板與該光源模塊之間。
2.如權(quán)利要求1所述的制造方法，其中，該曝光系統(tǒng)更包含一第二屏蔽，于該初始狀態(tài)下，該第二屏蔽位于該光源模塊下方，且該第二屏蔽的面積大于或等于該光源模塊的面積。
3.如權(quán)利要求2所述的制造方法，其中，當(dāng)該光源模塊對(duì)該第一基板進(jìn)行曝光后，沿該第二方向移動(dòng)該第二屏蔽，使該第二屏蔽移動(dòng)至該光源模塊下方并位于該第一基板與該光源模塊間。
4.如權(quán)利要求3所述的制造方法，其中，沿該第二方向的反方向移動(dòng)該光源模塊時(shí)，同時(shí)沿該第二方向的反方向移動(dòng)該第二屏蔽。
5.如權(quán)利要求3所述的制造方法，其中，當(dāng)該光源模塊沿該第二方向移動(dòng)時(shí)，該光源模塊對(duì)該第一基板有一第一曝光時(shí)間，當(dāng)該第二屏蔽沿該第二方向移動(dòng)時(shí)，該第二屏蔽對(duì)該第一基板有一第一遮蔽時(shí)間，其中該第一曝光時(shí)間與該第一遮蔽時(shí)間的差異小于該第一曝光時(shí)間的10％。
6.如權(quán)利要求1所述的制造方法，其中，更包含一第二基板，于該初始狀態(tài)下，該光源模塊位于該第一基板及該第二基板之間；且該曝光系統(tǒng)更包含一第三屏蔽，位于該第二基板與該光源模塊之間；
其中，當(dāng)該第一屏蔽回到該第一基板與該光源模塊之間后；
沿該第一方向移動(dòng)該第三屏蔽；
沿該第二方向的反方向移動(dòng)該光源模塊，使該光源模塊經(jīng)過該第三屏蔽并對(duì)該第二基板進(jìn)行曝光；
沿該第二方向移動(dòng)該光源模塊；以及
沿該第一方向的反方向移動(dòng)該第三屏蔽，使該第三屏蔽回到該第二基板與該光源模塊之間。
7.如權(quán)利要求6所述的制造方法，其中，該曝光系統(tǒng)更包含一第二屏蔽，于該初始狀態(tài)下，該第二屏蔽位于該光源模塊下方，且該第二屏蔽的面積大于或等于該光源模塊的面積。
8.如權(quán)利要求7所述的制造方法，其中，當(dāng)該光源模塊對(duì)該第一基板進(jìn)行曝光后，沿該第二方向移動(dòng)該第二屏蔽，使該第二屏蔽移動(dòng)至該光源模塊下方并位于該第一基板與該光源模塊間，當(dāng)該光源模塊對(duì)該第二基板進(jìn)行曝光后，沿該第二方向的反方向移動(dòng)該第二屏蔽，使該第二屏蔽移動(dòng)至該光源模塊下方并位于該第二基板與該光源模塊間。
9.如權(quán)利要求8所述的制造方法，其中，當(dāng)該光源模塊沿該第二方向移動(dòng)時(shí)，該第一基板有一第一曝光時(shí)間，當(dāng)該第二屏蔽沿該第二方向移動(dòng)時(shí)，該第一基板有一第一遮蔽時(shí)間，其中該第一曝光時(shí)間與該第一遮蔽時(shí)間的差異小于該第一曝光時(shí)間的10％；當(dāng)該光源模塊沿該第二方向的反方向移動(dòng)時(shí)，該光源模塊對(duì)該第二基板有一第二曝光時(shí)間，當(dāng)該第二屏蔽沿該第二方向的反方向移動(dòng)時(shí)，該第二屏蔽對(duì)該第二基板有一第二遮蔽時(shí)間，其中該第二曝光時(shí)間與該第二遮蔽時(shí)間的差異小于該第二曝光時(shí)間的10％。
10.一種曝光系統(tǒng)，包含：
一第一承載臺(tái)，該第一承載臺(tái)具有一表面；
一參考面，該參考面平行該表面，且該參考面具有一法線方向；
一光源模塊，與該第一承載臺(tái)相鄰；以及
一第一屏蔽，設(shè)置于該第一承載臺(tái)與該光源模塊之間，
其中，于一初始狀態(tài)下，該第一承載臺(tái)沿該參考面的該法線方向在該參考面具有一第一投影，該光源模塊沿該參考面的該法線方向在該參考面具有一第二投影，其中，該第一投影與該第二投影不重疊；
其中，該第一屏蔽會(huì)沿著該法線方向移動(dòng)。
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