[發(fā)明專(zhuān)利]石墨烯/六方氮化硼/石墨烯紫外光探測(cè)器及制備方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810004657.3 | 申請(qǐng)日: | 2018-01-03 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN108231945A | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-06-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉恒;張興旺;尹志崗;孟軍華 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 中國(guó)科學(xué)院半導(dǎo)體研究所 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L31/102 | 分類(lèi)號(hào): | H01L31/102;H01L31/0256;H01L31/18 |
| 代理公司: | 中科專(zhuān)利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人: | 湯寶平 |
| 地址: | 100083 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 絕緣層 石墨烯層 石墨烯 制作 紫外光探測(cè)器 六方氮化硼 襯底 六方氮化硼層 氮化硼層 第二電極 第一電極 縱向器件 集成度 響應(yīng)度 覆蓋 絕緣 制備 響應(yīng) 保證 | ||
一種石墨烯/六方氮化硼/石墨烯紫外光探測(cè)器,包括:一襯底;一絕緣層,其制作在襯底上,起到絕緣的作用;一第一石墨烯層,其制作在絕緣層上的中間部位,該第一石墨烯層為條狀;一六方氮化硼層,其制作在第一石墨烯層上的一側(cè),并覆蓋部分絕緣層;一第二石墨烯層,其制作在六方氮化硼層上,并覆蓋部分絕緣層;一第一電極,其制作在絕緣層上,并與第一石墨烯層的一端接觸;一第二電極,其制作在絕緣層上,并與第二石墨烯層的一端接觸。本發(fā)明可保證器件具有高的響應(yīng)速度及響應(yīng)度,同時(shí)采用縱向器件結(jié)構(gòu),提高器件的集成度。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于二維材料應(yīng)用技術(shù)領(lǐng)域,涉及一種石墨烯/六方氮化硼/石墨烯紫外光探測(cè)器及制備方法。
背景技術(shù)
隨著石墨烯的發(fā)現(xiàn),二維材料受到人們?cè)絹?lái)越多的關(guān)注,成為當(dāng)前材料領(lǐng)域最受關(guān)注的熱點(diǎn)之一。與體材料相比,二維材料具有極高的比表面積和優(yōu)異的電學(xué)、光學(xué)特性,在高速電子器件、發(fā)光二極管、光探測(cè)器、太陽(yáng)能電池等領(lǐng)域有廣闊的應(yīng)用前景。六方氮化硼,石墨烯的同構(gòu)體,具有高的帶邊吸收系數(shù)、寬的能帶間隙(5.9eV)、高的熱導(dǎo)率等優(yōu)點(diǎn),被認(rèn)為是一種優(yōu)異的深紫外光探測(cè)材料。最近,Sajjad等人報(bào)道了基于六方氮化硼納米片的光電導(dǎo)型深紫外探測(cè)器,表現(xiàn)出了優(yōu)異的光譜選擇特性。然而,與某些高性能深紫外光探測(cè)器相比,該六方氮化硼紫外光探測(cè)器的響應(yīng)速度較慢,響應(yīng)度較低,還難以滿足實(shí)際應(yīng)用的需要。六方氮化硼深紫外光探測(cè)器在性能上的不足可以歸因于六方氮化硼弱的載流子分離與輸運(yùn)能力。研究表明,構(gòu)建異質(zhì)結(jié)構(gòu)可以實(shí)現(xiàn)二維材料內(nèi)光生載流子的快速分離。石墨烯作為一種擁有高的載流子遷移率的材料,被認(rèn)為是一種優(yōu)異的載流子輸運(yùn)材料。此外,石墨烯與六方氮化硼為同構(gòu)體,晶格失配度僅為1.8%,有利于石墨烯/六方氮化硼/石墨烯三明治結(jié)構(gòu)的構(gòu)建,彌補(bǔ)六方氮化硼性能的不足,提升氮化硼紫外光探測(cè)器的性能。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于,提供一種石墨烯/六方氮化硼/石墨烯紫外光探測(cè)器及制備方法,其可保證器件具有高的響應(yīng)速度及響應(yīng)度,同時(shí)采用縱向器件結(jié)構(gòu),提高器件的集成度。
為達(dá)到以上目的,本發(fā)明提供一種石墨烯/六方氮化硼/石墨烯紫外光探測(cè)器,包括:
一襯底;
一絕緣層,其制作在襯底上,起到絕緣的作用;
一第一石墨烯層,其制作在絕緣層上的中間部位,該第一石墨烯層為條狀;
一六方氮化硼層,其制作在第一石墨烯層上的一側(cè),并覆蓋部分絕緣層;
一第二石墨烯層,其制作在六方氮化硼層上,并覆蓋部分絕緣層;
一第一電極,其制作在絕緣層上,并與第一石墨烯層的一端接觸;
一第二電極,其制作在在絕緣層上,并與第二石墨烯層的一端接觸。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的石墨烯/六方氮化硼/石墨烯紫外光探測(cè)器,其中所述襯底的材料為重?fù)诫s的單晶硅。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的石墨烯/六方氮化硼/石墨烯的紫外光探測(cè)器,其中所述絕緣層的材料為二氧化硅。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的石墨烯/六方氮化硼/石墨烯的紫外光探測(cè)器,其中所述第一、第二石墨烯層為單層或少數(shù)多層,所述六方氮化硼層的厚度為1-20納米。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的石墨烯/六方氮化硼/石墨烯的紫外光探測(cè)器,其中所述第一電極和第二電極的材料為T(mén)i、Cr、Au或Ag,厚度為100-200納米。
本發(fā)明還提供一種石墨烯/六方氮化硼/石墨烯紫外光探測(cè)器的制備方法,包括以下步驟:
步驟1:采用化學(xué)氣相沉積法在過(guò)渡金屬上制備單層和少數(shù)多層的石墨烯;
步驟2:采用離子束輔助濺射法在另一過(guò)渡金屬上制備多層六方氮化硼薄膜;
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類(lèi)目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專(zhuān)門(mén)適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專(zhuān)門(mén)適用于通過(guò)這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專(zhuān)門(mén)適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過(guò)該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個(gè)或多個(gè)電光源,如場(chǎng)致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的





