[發明專利]石墨烯/六方氮化硼/石墨烯紫外光探測器及制備方法在審
| 申請號: | 201810004657.3 | 申請日: | 2018-01-03 |
| 公開(公告)號: | CN108231945A | 公開(公告)日: | 2018-06-29 |
| 發明(設計)人: | 劉恒;張興旺;尹志崗;孟軍華 | 申請(專利權)人: | 中國科學院半導體研究所 |
| 主分類號: | H01L31/102 | 分類號: | H01L31/102;H01L31/0256;H01L31/18 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 湯寶平 |
| 地址: | 100083 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 絕緣層 石墨烯層 石墨烯 制作 紫外光探測器 六方氮化硼 襯底 六方氮化硼層 氮化硼層 第二電極 第一電極 縱向器件 集成度 響應度 覆蓋 絕緣 制備 響應 保證 | ||
1.一種石墨烯/六方氮化硼/石墨烯紫外光探測器,包括:
一襯底;
一絕緣層,其制作在襯底上,起到絕緣的作用;
一第一石墨烯層,其制作在絕緣層上的中間部位,該第一石墨烯層為條狀;
一六方氮化硼層,其制作在第一石墨烯層上的一側,并覆蓋部分絕緣層;
一第二石墨烯層,其制作在六方氮化硼層上,并覆蓋部分絕緣層;
一第一電極,其制作在絕緣層上,并與第一石墨烯層的一端接觸;
一第二電極,其制作在在絕緣層上,并與第二石墨烯層的一端接觸。
2.根據權利要求1所述的石墨烯/六方氮化硼/石墨烯紫外光探測器,其中所述襯底的材料為重摻雜的單晶硅。
3.根據權利要求1所述的石墨烯/六方氮化硼/石墨烯的紫外光探測器,其中所述絕緣層的材料為二氧化硅。
4.根據權利要求1所述的石墨烯/六方氮化硼/石墨烯的紫外光探測器,其中所述第一、第二石墨烯層為單層或少數多層,所述六方氮化硼層的厚度為1-20納米。
5.根據權利要求1所述的石墨烯/六方氮化硼/石墨烯的紫外光探測器,其中所述第一電極和第二電極的材料為Ti、Cr、Au或Ag,厚度為100-200納米。
6.一種石墨烯/六方氮化硼/石墨烯紫外光探測器的制備方法,包括以下步驟:
步驟1:采用化學氣相沉積法在過渡金屬上制備單層和少數多層的石墨烯;
步驟2:采用離子束輔助濺射法在另一過渡金屬上制備多層六方氮化硼薄膜;
步驟3:在石墨烯上旋涂一層松香,通過濕法腐蝕去除過渡金屬層,只保留石墨烯和松香;
步驟4:隨后將石墨烯轉移到襯底上的絕緣層上,并用丙酮清洗掉石墨烯表面的松香;
步驟5:使用與步驟3至步驟4相似的方法,在第一石墨烯上轉移六方氮化硼以及第二石墨烯,構建第一石墨烯/六方氮化硼/第二石墨烯結構;
步驟6:在第一石墨烯上的一端沉積第一電極;
步驟7:在第二石墨烯上的一端沉積第二電極。
7.根據權利要求6所述的石墨烯/六方氮化硼/石墨烯的紫外光探測器的制備方法,其中所述襯底的材料為重摻雜的單晶硅。
8.根據權利要求6所述的石墨烯/六方氮化硼/石墨烯紫外光探測器的制備方法,其中所述絕緣層的材料為二氧化硅。
9.根據權利要求6所述的石墨烯/六方氮化硼/石墨烯的紫外光探測器的制備方法,其中所述第一、第二石墨烯層為單層或少數多層,所述六方氮化硼層的厚度為1-20納米。
10.根據權利要求6所述的石墨烯/六方氮化硼/石墨烯的紫外光探測器的制備方法,其中所述第一電極和第二電極的材料為Ti、Cr、Au或Ag,厚度為100-200納米。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





