[發(fā)明專利]曝光設(shè)備、曝光方法、彩膜基板及其制作方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201810004276.5
• 申請日: 2018-01-03
• 公開（公告）號: CN108170009B
• 公開（公告）日: 2020-05-05
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 肖宇;李曉光;汪棟;宋勇志
• 申請（專利權(quán)）人: 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方顯示技術(shù)有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京正理專利代理有限公司 11257
• 代理人: 付生輝

本發(fā)明公開了一種曝光設(shè)備，其包括可旋轉(zhuǎn)鏡，所述可旋轉(zhuǎn)鏡將平行光束透過設(shè)置于其下方的掩膜板的開口部對基板上的光刻膠進行曝光，其中所述可旋轉(zhuǎn)鏡旋轉(zhuǎn)以調(diào)節(jié)所述平行光束入射到所述掩膜板表面的入射方向。該曝光設(shè)備結(jié)構(gòu)簡單，易于操作，可在不更換掩膜板的條件下，獲得線寬不同的光刻膠圖案成為現(xiàn)實，極大的提高了掩膜板的使用效率，降低了在獲得不同線寬光刻膠圖案時因掩膜板的更換而帶來的較高的生產(chǎn)成本。本發(fā)明還公開了一種曝光方法、彩膜基板的制作方法及彩膜基板。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及光刻技術(shù)領(lǐng)域。更具體地，涉及一種曝光設(shè)備、曝光方法、彩膜基板及其制作方法。

背景技術(shù)

傳統(tǒng)的基板在制作的過程中，光刻工藝?yán)闷毓庋b置將平行光束垂直的透過掩膜板的開口部，對基板上待曝光的光刻膠進行曝光，進一步通過顯影形成所需的光刻膠圖案。從而，在現(xiàn)有的這種曝光方法中，只能得到一種固定線寬的光刻膠圖案，而無法獲得不同線寬的光刻膠圖案。也即，一種尺寸的光刻膠圖案只能對應(yīng)一個掩膜板，不同尺寸產(chǎn)品之間使用的掩膜板不可以復(fù)用。而掩膜板價格昂貴，在項目研發(fā)成本中占有極大的比例。

因此，如何低成本形成不同線寬光刻膠圖案，是本領(lǐng)域技術(shù)人員需要解決的一個重要問題。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于，如何低成本形成不同線寬光刻膠圖案。

為此，本發(fā)明第一個實施例提供一種曝光設(shè)備，包括

可旋轉(zhuǎn)鏡，所述可旋轉(zhuǎn)鏡將平行光束透過設(shè)置于其下方的掩膜板的開口部對基板上的光刻膠進行曝光，其中所述可旋轉(zhuǎn)鏡旋轉(zhuǎn)以調(diào)節(jié)所述平行光束入射到所述掩膜板表面的入射方向。

優(yōu)選地，所述曝光設(shè)備還包括

光源，出射光束；

平面鏡，將所述出射光束反射；

蠅眼透鏡，接收所述平面鏡反射的出射光束；以及

凹面鏡，將從蠅眼透鏡出射的光束形成所述平行光束并將所述平行光束入射到所述可旋轉(zhuǎn)鏡。

優(yōu)選地，所述開口部為相對于掩膜板的表面的豎直開口，并且

所述可旋轉(zhuǎn)鏡旋轉(zhuǎn)以將所述平行光束相對于所述掩膜板表面的入射方向調(diào)節(jié)為豎直，得到第一線寬的光刻膠圖案；

所述可旋轉(zhuǎn)鏡旋轉(zhuǎn)以將所述平行光束相對于所述掩膜板表面的入射方向調(diào)節(jié)為傾斜，得到第二線寬的光刻膠圖案，其中第一線寬大于第二線寬。

優(yōu)選地，所述開口部為相對于掩膜板表面的傾斜開口，且所述傾斜開口的相對傾斜側(cè)壁設(shè)置為相互平行；并且

所述可旋轉(zhuǎn)鏡旋轉(zhuǎn)以將所述平行光束相對于所述掩膜板表面的入射方向調(diào)節(jié)與所述開口的傾斜方向趨勢相同，得到第三線寬的光刻膠圖案；

所述可旋轉(zhuǎn)鏡旋轉(zhuǎn)將所述平行光束的入射方向相對于所述掩膜板的表面調(diào)節(jié)為豎直，得到第四線寬的光刻膠圖案；

所述可旋轉(zhuǎn)鏡旋轉(zhuǎn)以將所述平行光束相對于所述掩膜板表面的入射方向與所述開口的傾斜方向趨勢相反，得到第五線寬的光刻膠圖案，

其中第三線寬大于第四線寬，第四線寬大于第五線寬。

本發(fā)明第二個實施例提供一種曝光方法，包括

使平行光束透過掩膜板的開口部對基板上的光刻膠進行曝光，其中，所述平行光束相對于所述掩膜板表面的入射方向能夠被調(diào)節(jié)，以使得被曝光的光刻膠圖案的線寬能夠被調(diào)節(jié)。

優(yōu)選地，光源出射光束；

平面鏡將所述出射光束反射；

蠅眼透鏡接收所述平面鏡反射的出射光束；