[發(fā)明專(zhuān)利]曝光設(shè)備、曝光方法、彩膜基板及其制作方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810004276.5
• 申請(qǐng)日: 2018-01-03
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN108170009B
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-05-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 肖宇;李曉光;汪棟;宋勇志
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;北京京東方顯示技術(shù)有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): G03F7/20
• 分類(lèi)號(hào): G03F7/20
• 代理公司: 北京正理專(zhuān)利代理有限公司 11257
• 代理人: 付生輝

1.一種曝光設(shè)備，其特征在于，包括

可旋轉(zhuǎn)鏡，所述可旋轉(zhuǎn)鏡將平行光束透過(guò)設(shè)置于其下方的掩膜板的開(kāi)口部對(duì)基板上的光刻膠進(jìn)行曝光，其中所述可旋轉(zhuǎn)鏡旋轉(zhuǎn)以調(diào)節(jié)所述平行光束入射到所述掩膜板表面的入射方向；

其中：

所述開(kāi)口部為相對(duì)于掩膜板的表面的豎直開(kāi)口，并且

所述可旋轉(zhuǎn)鏡旋轉(zhuǎn)以將所述平行光束相對(duì)于所述掩膜板表面的入射方向調(diào)節(jié)為豎直，得到第一線寬的光刻膠圖案；

所述可旋轉(zhuǎn)鏡旋轉(zhuǎn)以將所述平行光束相對(duì)于所述掩膜板表面的入射方向調(diào)節(jié)為傾斜，得到第二線寬的光刻膠圖案，其中第一線寬大于第二線寬；或者

所述開(kāi)口部為相對(duì)于掩膜板表面的傾斜開(kāi)口，且所述傾斜開(kāi)口的相對(duì)傾斜側(cè)壁設(shè)置為相互平行；并且

所述可旋轉(zhuǎn)鏡旋轉(zhuǎn)以將所述平行光束相對(duì)于所述掩膜板表面的入射方向調(diào)節(jié)與所述傾斜開(kāi)口的傾斜方向趨勢(shì)相同，得到第三線寬的光刻膠圖案；

所述可旋轉(zhuǎn)鏡旋轉(zhuǎn)將所述平行光束的入射方向相對(duì)于所述掩膜板的表面調(diào)節(jié)為豎直，得到第四線寬的光刻膠圖案；

所述可旋轉(zhuǎn)鏡旋轉(zhuǎn)以將所述平行光束相對(duì)于所述掩膜板表面的入射方向與所述傾斜開(kāi)口的傾斜方向趨勢(shì)相反，得到第五線寬的光刻膠圖案，

其中第三線寬大于第四線寬，第四線寬大于第五線寬。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光設(shè)備，其特征在于，還包括

光源，出射光束；

平面鏡，將所述出射光束反射；

蠅眼透鏡，接收所述平面鏡反射的出射光束；以及

凹面鏡，將從蠅眼透鏡出射的光束形成所述平行光束并將所述平行光束入射到所述可旋轉(zhuǎn)鏡。

3.一種曝光方法，其特征在于，包括

使平行光束透過(guò)掩膜板的開(kāi)口部對(duì)基板上的光刻膠進(jìn)行曝光，其中，所述平行光束相對(duì)于所述掩膜板表面的入射方向能夠被調(diào)節(jié)，以使得被曝光的光刻膠圖案的線寬能夠被調(diào)節(jié)；

其中：

所述開(kāi)口部設(shè)置為相對(duì)于掩膜板的表面的豎直開(kāi)口，并且

旋轉(zhuǎn)可旋轉(zhuǎn)鏡以將所述平行光束相對(duì)于所述掩膜板表面的入射方向調(diào)節(jié)為豎直，得到第一線寬的光刻膠圖案；

旋轉(zhuǎn)所述可旋轉(zhuǎn)鏡以將所述平行光束相對(duì)于所述掩膜板表面的入射方向調(diào)節(jié)為傾斜，得到第二線寬的光刻膠圖案，其中第一線寬大于第二線寬；或者

所述開(kāi)口部設(shè)置為相對(duì)于掩膜板表面的傾斜開(kāi)口，且所述傾斜開(kāi)口的相對(duì)傾斜側(cè)壁設(shè)置為相互平行；并且

旋轉(zhuǎn)可旋轉(zhuǎn)鏡以將所述平行光束相對(duì)于所述掩膜板表面的入射方向調(diào)節(jié)與所述傾斜開(kāi)口的傾斜方向趨勢(shì)相同，得到第三線寬的光刻膠圖案；

旋轉(zhuǎn)所述可旋轉(zhuǎn)鏡將所述平行光束的入射方向相對(duì)于所述掩膜板的表面調(diào)節(jié)為豎直，得到第四線寬的光刻膠圖案；

旋轉(zhuǎn)所述可旋轉(zhuǎn)鏡以將所述平行光束相對(duì)于所述掩膜板表面的入射方向與所述傾斜開(kāi)口的傾斜方向趨勢(shì)相反，得到第五線寬的光刻膠圖案，

其中第三線寬大于第四線寬，第四線寬大于第五線寬。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的曝光方法，其特征在于，

光源出射光束；

平面鏡將所述出射光束反射；

蠅眼透鏡接收所述平面鏡反射的出射光束；

凹面鏡將從蠅眼透鏡出射的光束形成所述平行光束并將所述平行光束入射到可旋轉(zhuǎn)鏡；以及

可旋轉(zhuǎn)鏡將平行光束透過(guò)設(shè)置于其下方的掩膜板的開(kāi)口部對(duì)基板上的光刻膠進(jìn)行曝光，其中所述可旋轉(zhuǎn)鏡旋轉(zhuǎn)以調(diào)節(jié)所述平行光束入射到所述掩膜板表面的入射方向。

5.一種彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括

在襯底上形成黑矩陣材料；

在所述黑矩陣材料上形成光刻膠；

利用權(quán)利要求3-4中任一項(xiàng)所述的曝光方法形成光刻膠圖案；

去除露出的黑矩陣材料形成黑矩陣；

在黑矩陣和露出的襯底上形成色阻材料；

利用權(quán)利要求3-4中任一項(xiàng)所述的曝光方法形成光刻膠圖案，所述光刻膠圖案覆蓋所述露出的襯底上形成的色阻材料；

去除露出的色阻材料形成色阻層。

6.一種彩膜基板，其特征在于，利用權(quán)利要求5所述的制作方法制作得到。