[發(fā)明專利]一種掩模板及其制備方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810004139.1
• 申請(qǐng)日: 2018-01-03
• 公開（公告）號(hào): CN108232041A
• 公開（公告）日: 2018-06-29
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉文祺;孫中元;朱海彬;薛金祥
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司
• 主分類號(hào): H01L51/56
• 分類號(hào): H01L51/56;C23C14/04
• 代理公司: 北京正理專利代理有限公司 11257
• 代理人: 付生輝

1.一種掩模板，包括本體，所述本體上設(shè)有多個(gè)開口，其特征在于，所述本體的第一表面上設(shè)有環(huán)繞各個(gè)開口的圍堰，所述圍堰限制通過所述開口沉積在基板上的材料的擴(kuò)散范圍。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述圍堰的內(nèi)壁與所述開口的內(nèi)壁平齊。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的掩模板，其特征在于，所述圍堰由耐高溫柔性材料制成。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的掩模板，其特征在于，所述耐高溫柔性材料為聚酰亞胺或聚苯乙烯。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的掩模板，其特征在于，所述圍堰的高度為(0,0.1]mm，所述圍堰的側(cè)壁厚度為(1,3]mm。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模板，其特征在于，掩模板為柔性掩模板。

7.一種掩模板制備方法，所述掩模板設(shè)有多個(gè)開口，其特征在于，所述方法包括：在所述掩膜板的第一表面上形成環(huán)繞各個(gè)開口的圍堰，其中所述圍堰限制通過所述開口沉積在基板上的材料的擴(kuò)散范圍。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的掩模板制備方法，其特征在于，形成所述圍堰包括：將所述圍堰的內(nèi)壁形成為與所述開口的內(nèi)壁平齊。

9.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的掩模板制備方法，其特征在于，形成所述圍堰包括：

在掩模板的第一表面形成聚酰亞胺層；

對(duì)聚酰亞胺層進(jìn)行激光切割或刻蝕，以使得留下的部分形成所述圍堰。

10.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的掩模板制備方法，其特征在于，形成所述圍堰包括：

在掩模板的第一表面形成聚苯乙烯層；

圖案化所述聚苯乙烯層形成彼此間隔的多個(gè)柱狀結(jié)構(gòu)；

對(duì)部分柱狀結(jié)構(gòu)進(jìn)行激光切割或刻蝕，以使得留下的柱狀結(jié)構(gòu)形成所述圍堰。