[發明專利]一種曝光機遮光葉片的清潔裝置及清潔方法

在審

• 申請號: 201810003144.0
• 申請日: 2018-01-02
• 公開（公告）號: CN108246722A
• 公開（公告）日: 2018-07-06
• 發明（設計）人: 董小龍;江俊波;趙巍;樸松鷹;張昭;閆虹旭;王軍才;張興強;石星
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司
• 主分類號: B08B5/04
• 分類號: B08B5/04;B08B7/00
• 代理公司: 北京正理專利代理有限公司 11257
• 代理人: 付生輝

本發明公開一種曝光機遮光葉片的清潔裝置及清潔方法，清潔裝置包括：中空輥，所述中空輥上設置有吸氣孔，并且所述中空輥的至少一端具有排氣開口，所述遮光葉片在操作時間相對于所述中空輥運動；排氣導管，所述排氣導管一端與所述排氣開口連通，另一端與所述曝光機的排氣裝置連通。本發明可降低未曝光前光刻膠上掉落灰塵和碎屑的風險和長期偶發不良的情況發生，提升了產品的良率。

技術領域

本發明涉及曝光領域，特別是涉及一種曝光機遮光葉片的清潔裝置及清潔方法。

背景技術

目前，在例如液晶顯示屏的制程工藝中，需要使用曝光機來進行曝光。遮光葉片上設置有導軌而處于遮光葉片上方的封蓋上設置有與導軌配合的滑移件，在曝光過程中，遮光葉片會相對于封蓋進行運動，由于遮光葉片長期運動極易產生灰塵和碎屑，如不及時清理可能會導致在未曝光前，灰塵以及碎屑掉落至光刻膠上。但然而，由于曝光機設計緊湊，設置在遮光葉片上的封蓋限制導致了工作人員拆卸困難，并且，在曝光機中，X方向遮光葉片相比于Y方向遮光葉片距離載臺上的液晶面板更近，更是加劇了清理的難度。

發明內容

本發明的目的在于提供一種曝光機遮光葉片的清潔裝置及清理方法，本發明提出的曝光機遮光葉片的清潔裝置及清理方法能夠在曝光過程中對遮光葉片上的灰塵和碎屑進行清理。

為達到上述目的，本發明采用下述技術方案：一種曝光機遮光葉片的清潔裝置，包括：

中空輥，所述中空輥上設置有吸氣孔，并且所述中空輥的至少一端具有排氣開口，所述遮光葉片在操作時間相對于所述中空輥運動；

排氣導管，所述排氣導管一端與所述排氣開口連通，另一端與所述曝光機的排氣裝置連通。

優選地，所述中空輥連接到所述曝光機的滑移件上，其中所述滑移件固定在所述曝光機的封蓋上，并且所述遮光葉片在操作時，所述滑移件沿所述遮光葉片上的導軌運動。

優選地，每個所述中空輥包括內部清潔部以及外部清潔部，所述外部清潔部的一端具有所述排氣開口，并且伸出于所述封蓋與所述遮光葉片之間形成的縫隙，所述內部清潔部連接所述滑移件。

優選地，所述中空輥為兩個，分別連接于所述滑移件的兩側，每個所述中空輥垂直于所述遮光葉片運動方向延伸。

優選地，所述中空輥還包括凸出部，所述凸出部端部具有吸附裝置，所述吸附裝置將所述中空輥固定在所述曝光機的封蓋上。

優選地，所述中空輥包括內部清潔部以及外部清潔部，所述外部清潔部的一端具有所述排氣開口，并且伸出于所述封蓋與所述遮光葉片之間形成的縫隙。

優選地，所述中空輥為兩個，所述兩個中空輥的凸出部分別吸附在所述封蓋的對角位置，每個中空輥垂直于所述遮光葉片運動方向延伸。

優選地，述中空輥用抗靜電材料制成。

一種曝光機，包括

遮光葉片；

權利要求1-8中任一項所述的清潔裝置，設置于所述遮光葉片上方；

封蓋，設置于所述清潔裝置上方。

一種用于對權利要求9所述曝光機的遮光葉片進行清潔的方法，包括以下步驟：

S1、在曝光機進行曝光時開啟排氣裝置；

S2、所述中空輥通過吸氣孔吸入行進通過其下方的遮光葉片上的雜質并通過排氣導管導入所述排氣裝置中；

S3、曝光結束后，關閉排氣裝置，清潔裝置停止工作。

本發明的有益效果如下：