[發明專利]一種曝光機遮光葉片的清潔裝置及清潔方法

在審

• 申請號: 201810003144.0
• 申請日: 2018-01-02
• 公開（公告）號: CN108246722A
• 公開（公告）日: 2018-07-06
• 發明（設計）人: 董小龍;江俊波;趙巍;樸松鷹;張昭;閆虹旭;王軍才;張興強;石星
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司
• 主分類號: B08B5/04
• 分類號: B08B5/04;B08B7/00
• 代理公司: 北京正理專利代理有限公司 11257
• 代理人: 付生輝

1.一種曝光機遮光葉片(300)的清潔裝置，其特征在于，包括：

中空輥(100)，所述中空輥(100)上設置有吸氣孔(102)，并且所述中空輥(100)的至少一端具有排氣開口(101)，所述遮光葉片(300)在操作時間相對于所述中空輥(100)運動；

排氣導管(200)，所述排氣導管(200)一端與所述排氣開口(101)連通，另一端與所述曝光機的排氣裝置連通。

2.根據權利要求1所述的清潔裝置，其特征在于，所述中空輥(100)連接到所述曝光機的滑移件(401)上，其中所述滑移件(401)固定在所述曝光機的封蓋(400)上，并且所述遮光葉片(300)在操作時，所述滑移件(401)沿所述遮光葉片(300)上的導軌(301)運動。

3.根據權利要求2所述的清潔裝置，其特征在于，每個所述中空輥(100)包括內部清潔部(120)以及外部清潔部(110)，所述外部清潔部(110)的一端具有所述排氣開口(101)，并且伸出于所述封蓋(400)與所述遮光葉片(300)之間形成的縫隙，所述內部清潔部(120)連接所述滑移件(401)。

4.根據權利要求3所述的清潔裝置，其特征在于，所述中空輥(100)為兩個，分別連接于所述滑移件(401)的兩側，每個所述中空輥(100)垂直于所述遮光葉片(300)運動方向延伸。

5.根據權利要求1所述的清潔裝置，其特征在于，所述中空輥(100)還包括凸出部(500)，所述凸出部(500)端部具有吸附裝置(600)，所述吸附裝置(600)將所述中空輥(100)固定在所述曝光機的封蓋(400)上。

6.根據權利要求5所述的清潔裝置，其特征在于，所述中空輥(100)包括內部清潔部(120)以及外部清潔部(110)，所述外部清潔部(110)的一端具有所述排氣開口(101)，并且伸出于所述封蓋(400)與所述遮光葉片(300)之間形成的縫隙。

7.根據權利要求6所述的清潔裝置，其特征在于，所述中空輥(100)為兩個，所述兩個中空輥(100)的凸出部(500)分別吸附在所述封蓋(400)的對角位置，每個中空輥(100)垂直于所述遮光葉片(300)運動方向延伸。

8.根據權利要求1-7中任一項所述的清潔裝置，其特征在于，所述中空輥(100)用抗靜電材料制成。

9.一種曝光機，其特征在于，包括

遮光葉片(300)；

權利要求1-8中任一項所述的清潔裝置，設置于所述遮光葉片(300)上方；

封蓋(400)，設置于所述清潔裝置上方。

10.一種用于對權利要求9所述曝光機的遮光葉片(300)進行清潔的方法，其特征在于，包括以下步驟：

S1、在曝光機進行曝光時開啟排氣裝置；

S2、所述中空輥(100)通過吸氣孔(102)吸入行進通過其下方的遮光葉片(300)上的雜質并通過排氣導管(200)導入所述排氣裝置中；

S3、曝光結束后，關閉排氣裝置，清潔裝置停止工作。