[發(fā)明專利]光刻膠涂覆方法及涂布機

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201810002807.7
• 申請日: 2018-01-02
• 公開（公告）號: CN108196431A
• 公開（公告）日: 2018-06-22
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 劉文渠;董立文;黨寧;張鋒;王峰超;呂志軍
• 申請（專利權(quán)）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: G03F7/16
• 分類號: G03F7/16
• 代理公司: 北京三高永信知識產(chǎn)權(quán)代理有限責任公司 11138
• 代理人: 楊廣宇

本發(fā)明公開一種光刻膠涂覆方法及涂布機，屬于顯示技術(shù)領(lǐng)域。該方法包括：在基板的目標板面上噴涂預(yù)設(shè)溶劑，在噴涂有預(yù)設(shè)溶劑的目標板面的中央?yún)^(qū)域噴涂光刻膠；控制基板按照第一預(yù)設(shè)速度旋轉(zhuǎn)第一時長，使光刻膠向目標板面的周邊區(qū)域擴散。本發(fā)明有助于解決光刻膠涂覆的難度較大的問題，降低光刻膠涂覆的難度。本發(fā)明用于光刻膠涂覆。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種光刻膠涂覆方法及涂布機。

背景技術(shù)

光刻膠(英文：Photoresist；簡稱：PR)又稱光阻，在顯示產(chǎn)品的制造過程中，經(jīng)常需要采用涂布機(英文：Coater)在基板(襯底基板或形成有一定圖形的基板)上涂覆光刻膠。

相關(guān)技術(shù)中，涂布機包括轉(zhuǎn)盤和噴嘴(英文：Nozzle)，轉(zhuǎn)盤具有承載面，在基板上涂覆光刻膠時，將基板固定設(shè)置在轉(zhuǎn)盤的承載面上，然后采用噴嘴將一定量的光刻膠噴涂在基板的目標板面的中央?yún)^(qū)域，之后控制轉(zhuǎn)盤旋轉(zhuǎn)，帶動基板繞基板的中心旋轉(zhuǎn)，在基板旋轉(zhuǎn)的過程中，位于目標板面的中央?yún)^(qū)域的光刻膠在離心力的作用下向目標板面的周邊區(qū)域擴散，最終在目標板面上形成光刻膠層。其中，基板的目標板面為基板上待涂覆光刻膠的一面。

在實現(xiàn)本發(fā)明的過程中，發(fā)明人發(fā)現(xiàn)相關(guān)技術(shù)至少存在以下問題：

光刻膠的粘度通常較大，導(dǎo)致光刻膠在基板上的擴散阻力較大，因此，光刻膠涂覆的難度較大。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明提供一種光刻膠涂覆方法及涂布機，可以解決光刻膠涂覆的難度較大的問題。本發(fā)明的技術(shù)方案如下：

第一方面，提供一種光刻膠涂覆方法，所述方法包括：

在基板的目標板面上噴涂預(yù)設(shè)溶劑；

在噴涂有所述預(yù)設(shè)溶劑的所述目標板面的中央?yún)^(qū)域噴涂光刻膠；

控制所述基板按照第一預(yù)設(shè)速度旋轉(zhuǎn)第一時長，使所述光刻膠向所述目標板面的周邊區(qū)域擴散。

可選地，在控制所述基板按照第一預(yù)設(shè)速度旋轉(zhuǎn)第一時長之后，所述方法還包括：控制所述基板按照第二預(yù)設(shè)速度旋轉(zhuǎn)第二時長，使擴散至所述周邊區(qū)域的光刻膠向所述中央?yún)^(qū)域擴散，其中，所述第二預(yù)設(shè)速度旋轉(zhuǎn)小于所述第一預(yù)設(shè)速度。

可選地，所述在基板的目標板面上噴涂預(yù)設(shè)溶劑，包括：

通過涂布機的溶劑噴涂組件在所述基板的目標板面上噴涂預(yù)設(shè)溶劑；

所述在噴涂有所述預(yù)設(shè)溶劑的所述目標板面的中央?yún)^(qū)域噴涂光刻膠，包括：

通過所述涂布機的膠體噴涂組件在噴涂有所述預(yù)設(shè)溶劑的所述目標板面的中央?yún)^(qū)域噴涂光刻膠。

可選地，在基板的目標板面上噴涂預(yù)設(shè)溶劑之前，所述方法還包括：

將所述基板固定設(shè)置在所述涂布機的旋轉(zhuǎn)組件的承載面上。

可選地，所述控制所述基板按照第一預(yù)設(shè)速度旋轉(zhuǎn)第一時長，包括：

控制所述旋轉(zhuǎn)組件按照所述第一預(yù)設(shè)速度旋轉(zhuǎn)所述第一時長，帶動所述基板按照所述第一預(yù)設(shè)速度旋轉(zhuǎn)所述第一時長；

所述控制所述基板按照第二預(yù)設(shè)速度旋轉(zhuǎn)第二時長，包括：

控制所述旋轉(zhuǎn)組件按照所述第二預(yù)設(shè)速度旋轉(zhuǎn)所述第二時長，帶動所述基板按照所述第二預(yù)設(shè)速度旋轉(zhuǎn)所述第二時長。

可選地，所述第一預(yù)設(shè)速度的取值范圍為500轉(zhuǎn)每分鐘～2500轉(zhuǎn)每分鐘，所述第二預(yù)設(shè)速度的取值范圍為100轉(zhuǎn)每分鐘～200轉(zhuǎn)每分鐘。

可選地，所述第一時長的取值范圍為1秒～2秒，所述第二時長的取值范圍為1秒～1.5秒。

可選地，所述第一預(yù)設(shè)速度的方向與所述第二預(yù)設(shè)速度的方向相同。