[發明專利]光刻膠涂覆方法及涂布機

在審

• 申請號: 201810002807.7
• 申請日: 2018-01-02
• 公開（公告）號: CN108196431A
• 公開（公告）日: 2018-06-22
• 發明（設計）人: 劉文渠;董立文;黨寧;張鋒;王峰超;呂志軍
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: G03F7/16
• 分類號: G03F7/16
• 代理公司: 北京三高永信知識產權代理有限責任公司 11138
• 代理人: 楊廣宇

1.一種光刻膠涂覆方法，其特征在于，所述方法包括：

在基板的目標板面上噴涂預設溶劑；

在噴涂有所述預設溶劑的所述目標板面的中央區域噴涂光刻膠；

控制所述基板按照第一預設速度旋轉第一時長，使所述光刻膠向所述目標板面的周邊區域擴散。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，在控制所述基板按照第一預設速度旋轉第一時長之后，所述方法還包括：

控制所述基板按照第二預設速度旋轉第二時長，使擴散至所述周邊區域的光刻膠向所述中央區域擴散，其中，所述第二預設速度旋轉小于所述第一預設速度。

3.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，

所述在基板的目標板面上噴涂預設溶劑，包括：

通過涂布機的溶劑噴涂組件在所述基板的目標板面上噴涂預設溶劑；

所述在噴涂有所述預設溶劑的所述目標板面的中央區域噴涂光刻膠，包括：

通過所述涂布機的膠體噴涂組件在噴涂有所述預設溶劑的所述目標板面的中央區域噴涂光刻膠。

4.根據權利要求3所述的方法，其特征在于，在基板的目標板面上噴涂預設溶劑之前，所述方法還包括：

將所述基板固定設置在所述涂布機的旋轉組件的承載面上。

5.根據權利要求4所述的方法，其特征在于，

所述控制所述基板按照第一預設速度旋轉第一時長，包括：

控制所述旋轉組件按照所述第一預設速度旋轉所述第一時長，帶動所述基板按照所述第一預設速度旋轉所述第一時長；

所述控制所述基板按照第二預設速度旋轉第二時長，包括：

控制所述旋轉組件按照所述第二預設速度旋轉所述第二時長，帶動所述基板按照所述第二預設速度旋轉所述第二時長。

6.根據權利要求2至5任一所述的方法，其特征在于，所述第一預設速度的取值范圍為500轉每分鐘～2500轉每分鐘，所述第二預設速度的取值范圍為100轉每分鐘～200轉每分鐘。

7.根據權利要求2至5任一所述的方法，其特征在于，所述第一時長的取值范圍為1秒～2秒，所述第二時長的取值范圍為1秒～1.5秒。

8.根據權利要求2至5任一所述的方法，其特征在于，所述第一預設速度的方向與所述第二預設速度的方向相同。

9.一種涂布機，其特征在于，所述涂布機包括：溶劑噴涂組件、膠體噴涂組件和旋轉組件，

所述溶劑噴涂組件用于在基板的目標板面上噴涂預設溶劑；

所述膠體噴涂組件用于向噴涂有所述預設溶劑的所述目標板面的中央區域噴涂光刻膠；

所述旋轉組件用于帶動噴涂有光刻膠的所述基板旋轉。

10.根據權利要求9所述的涂布機，其特征在于，所述涂布機還包括：涂布機本體，所述溶劑噴涂組件和所述膠體噴涂組件均設置在所述涂布機本體上。