[發(fā)明專利]發(fā)光二極管芯片有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810001701.5 | 申請日: | 2018-01-02 |
| 公開(公告)號: | CN109994587B | 公開(公告)日: | 2021-01-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 陳柏君;汪瓊;張國華;祝慶;陳柏松 | 申請(專利權(quán))人: | 蕪湖德豪潤達光電科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L33/42 | 分類號: | H01L33/42;H01L33/38 |
| 代理公司: | 廣州華進聯(lián)合專利商標代理有限公司 44224 | 代理人: | 郭瑋;李雙皓 |
| 地址: | 241000 安徽省*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 發(fā)光二極管 芯片 | ||
本發(fā)明涉及一種發(fā)光二極管芯片,包括襯底、N型層、應(yīng)力釋放層、發(fā)光層、P型層、透明導(dǎo)電層、P型電極以及N型電極,所述N型層、所述應(yīng)力釋放層、所述發(fā)光層、所述P型層以及所述透明導(dǎo)電層依次層疊設(shè)置于所述襯底1,所述N型電極設(shè)置于所述N型層,所述P型電極設(shè)置于所述透明導(dǎo)電層,所述透明導(dǎo)電層包括層疊設(shè)置的石墨烯層以及ITO透明導(dǎo)電層。上述發(fā)光二極管芯片,使用石墨烯取代部分氧化銦錫作為透明導(dǎo)電材料,降低了材料成本,同時提高了發(fā)光效率。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及發(fā)光二極管技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及一種低接觸電阻、高穿透率的發(fā)光二極管芯片。
背景技術(shù)
發(fā)光二極管是一種能發(fā)光的半導(dǎo)體電子元件,因其具有體積小、能耗低、壽命長、驅(qū)動電壓低等優(yōu)點而倍受歡迎,廣泛用于指示燈,顯示屏等領(lǐng)域。高亮度、高性能已成為發(fā)光二極管發(fā)展的趨勢,為滿足日益增長的需求,發(fā)光二極管芯片的發(fā)光效率的提升已迫在眉睫。
現(xiàn)有發(fā)光二極管芯片制作方法是在外延層上先制備一層氧化銦錫(IndiumTinOxid,ITO)來提高發(fā)光效率,并使用金屬當作發(fā)光二級管的電極,利用金屬電極擴展條來增加電流擴展,但擴展條也會將發(fā)光二級管從活性區(qū)發(fā)出的光遮擋降低發(fā)光二級管的效率。氧化銦錫(IndiumTinOxid,ITO)中的銦和N型、P型電極的金(Au)價格比較昂貴。另外,氧化銦錫(IndiumTinOxid,ITO)中的銦容易擴散進入半導(dǎo)體,且其抗酸腐蝕能力差。
發(fā)明內(nèi)容
基于此,有必要提供一種低接觸電阻、高發(fā)光效率的發(fā)光二極管芯片。
一種發(fā)光二極管芯片,包括襯底、N型層、應(yīng)力釋放層、發(fā)光層、P型層、透明導(dǎo)電層、P型電極以及N型電極,所述N型層、所述應(yīng)力釋放層、所述發(fā)光層、所述P型層以及所述透明導(dǎo)電層依次層疊設(shè)置于所述襯底,所述N型電極設(shè)置于所述N型層,所述P型電極設(shè)置于所述透明導(dǎo)電層,所述透明導(dǎo)電層包括層疊設(shè)置的石墨烯層以及ITO透明導(dǎo)電層。
在其中一個實施例中,所述石墨烯層形成于所述P型層表面,所述ITO透明導(dǎo)電層形成于所述石墨烯層表面。
在其中一個實施例中,所述N型電極包括層疊設(shè)置的N型石墨烯電極和N型金屬電極,所述N型石墨烯電極形成于所述N型層表面,所述N型金屬電極形成于所述N型石墨烯電極表面。
在其中一個實施例中,所述N型金屬電極和所述N型石墨烯電極均為圓柱形結(jié)構(gòu),且二者中心軸重合。
在其中一個實施例中,所述N型石墨烯電極半徑大于所述N型金屬電極半徑,所述N型石墨烯電極半徑與所述N型金屬電極半徑的差為所述N型金屬電極半徑的0.05-0.2倍。
在其中一個實施例中,所述P型電極包括層疊設(shè)置的P型石墨烯電極和P型金屬電極,所述P型石墨烯電極形成于所述ITO透明導(dǎo)電層表面,所述P型金屬電極形成于所述P型石墨烯電極表面。
在其中一個實施例中,所述P型金屬電極和所述P型石墨烯電極均為圓柱形結(jié)構(gòu),且二者中心軸重合。
在其中一個實施例中,所述P型石墨烯電極半徑大于所述P型金屬電極半徑,所述P型石墨烯電極半徑與所述P型金屬電極半徑的差為所述P型金屬電極半徑的0.05-0.2倍。
在其中一個實施例中,還包括擴展條,所述擴展條由所述P型石墨烯電極延伸出。
在其中一個實施例中,還包括位于N型層表面的N型平臺,所述N型平臺通過刻蝕所述ITO透明導(dǎo)電層至所述N型層形成,所述N型電極設(shè)置在所述N型平臺上。
上述發(fā)光二極管芯片,使用石墨烯取代部分氧化銦錫作為透明導(dǎo)電材料,降低了材料成本,提高發(fā)光二極管芯片的發(fā)光效率,同時,由于石墨烯層位于半導(dǎo)體層與氧化銦錫層之間,起到了隔離的作用,有效解決了現(xiàn)有技術(shù)中銦容易擴散進入半導(dǎo)體的問題,提高了半導(dǎo)體的性能。
附圖說明
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