[發明專利]蝕刻液組合物、配線、顯示裝置用陣列基板及其制造方法有效
| 申請號: | 201810001365.4 | 申請日: | 2018-01-02 |
| 公開(公告)號: | CN108265296B | 公開(公告)日: | 2020-05-15 |
| 發明(設計)人: | 李承洙;權玟廷;沈慶輔 | 申請(專利權)人: | 東友精細化工有限公司 |
| 主分類號: | C23F1/20 | 分類號: | C23F1/20;H01L27/12 |
| 代理公司: | 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243 | 代理人: | 金鮮英;宋海花 |
| 地址: | 韓國全*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 蝕刻 組合 配線 顯示裝置 陣列 及其 制造 方法 | ||
本發明提供蝕刻液組合物、配線、顯示裝置用陣列基板及其制造方法,該蝕刻液組合物包含硝酸、磷酸、乙酸、氯系化合物、磺酸系化合物、硫酸鹽系化合物和水。相對于蝕刻液組合物總重量,磷酸為40~60重量%,硝酸為5~9重量%,乙酸為15~25重量%,氯系化合物為0.1~2重量%,磺酸系化合物為0.5~3重量%,硫酸鹽系化合物為0.5~3重量%,水為使蝕刻液組合物總重量成為100重量%的余量。本發明的蝕刻液組合物具有蝕刻直進性和蝕刻均勻性優異的效果。此外,本發明的蝕刻液組合物具有在蝕刻透明導電膜時不產生尖端的效果。
技術領域
本發明涉及蝕刻液組合物、由該蝕刻液組合物制造的配線、利用該蝕刻液組合物的顯示裝置用陣列基板的制造方法及顯示裝置用陣列基板。
背景技術
一般而言,平板顯示裝置根據驅動方法分為無源驅動(passive matrix)方式和有源驅動(active matrix)方式,有源驅動方式具有使用薄膜晶體管(Thin FilmTransistor;TFT)的電路。這樣的電路主要用于液晶顯示裝置(Liquid Crystal Display;LCD)和有機電致發光顯示裝置(Organic Electroluminescence display;OELD)等平板顯示裝置中。上述有源驅動方式的平板顯示裝置不僅分辨率及視頻呈現能力優異,而且對于顯示裝置的大面積化更加有利。
這樣的有源驅動方式的平板顯示裝置需要通過將由相互不同的導電物質形成的各個導電膜圖案化來形成包含柵電極、源電極/漏電極的薄膜晶體管、眾多的配線及像素電極。例如,上述柵電極由作為低電阻的導電物質的Al、Mo、Cu及它們的合金形成。此外,上述源電極/漏電極由Mo、Cr、Al及它們的合金形成,作為上述像素電極,由ITO或IZO的透明電極形成。此外,上述導電膜可以由單層膜形成,但為了獲得更佳的特性,也可以由利用相互不同的物質形成的多層膜形成。
此時,由相互不同的物質形成的導電膜由于蝕刻速度差異之類的特性相互不同,因此利用具有相同的組成的蝕刻液進行蝕刻工序時存在困難。此外,由于需要利用具有相互不同的組成的蝕刻液,因此也不得不使用不同的設備來進行蝕刻工序。因而,用于形成上述薄膜晶體管及眾多的配線的蝕刻工序會變得復雜,制造費用和時間增多而制品的生產率可能降低。
為了解決上述問題,正活躍地進行著針對能夠同時蝕刻由相互不同的物質形成的導電膜的蝕刻液的開發。
例如,公開了能夠同時蝕刻鋁和ITO的蝕刻液組合物。因而,通過利用相同的蝕刻液對柵電極和像素電極進行蝕刻工序,能夠實現生產率的提高。
但是,以往的蝕刻液組合物仍然帶有蝕刻直進性及均勻性不佳的問題。
發明內容
所要解決的課題
本發明的目的在于,提供蝕刻直進性和均勻性優異的蝕刻液組合物。
此外,本發明的目的在于,提供在蝕刻透明導電膜時能夠抑制尖端(Tip)產生的蝕刻液組合物。
此外,本發明的目的在于,提供由上述蝕刻液組合物蝕刻而成的配線。
此外,本發明的目的在于,提供使用上述蝕刻液組合物的顯示裝置用陣列基板的制造方法。
解決課題的方法
為了實現上述目的,本發明提供一種蝕刻液組合物,相對于蝕刻液組合物總重量,包含:
磷酸40~60重量%;
硝酸5~9重量%;
乙酸15~25重量%;
氯系化合物0.1~2重量%;
磺酸系化合物0.5~3重量%;
硫酸鹽系化合物0.5~3重量%;和
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