[發明專利]蒸鍍掩模、蒸鍍方法以及有機EL顯示設備的制造方法

在審

• 申請號: 201780097763.4
• 申請日: 2017-12-25
• 公開（公告）號: CN111492090A
• 公開（公告）日: 2020-08-04
• 發明（設計）人: 岸本克彥
• 申請（專利權）人: 堺顯示器制品株式會社
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;H01L51/50;H05B33/10
• 代理公司: 深圳市賽恩倍吉知識產權代理有限公司 44334
• 代理人: 王娟

1.一種蒸鍍掩模，其特征在于，包含：

掩模本體，形成有開口圖案；以及

框架，接合所述掩模本體的周緣部的至少一部分，將所述掩模本體保持在一定的狀態；其中

所述框架形成為面板在內包空隙的柱狀的核心部的至少一部分的對向的面被貼設的夾心構造體。

2.根據權利要求1所述的蒸鍍掩模，其特征在于，

所述框架由金屬材料形成，所述核心部的空隙形成為廣義的蜂窩狀構造體。

3.根據權利要求1或2所述的蒸鍍掩模，其特征在于，

所述掩模本體是形成所述開口圖案的樹脂膜、以及以不堵塞所述樹脂膜的所述開口圖案的方式形成開口的金屬支撐層被貼敷的混合掩模。

4.根據權利要求1或2所述的蒸鍍掩模，其特征在于，

所述掩模本體是包含形成所述開口圖案的金屬薄板的金屬掩模。

5.根據權利要求1至4中任一項所述的蒸鍍掩模，其特征在于，

所述框架為額緣狀的矩形形狀，在接合所述樹脂膜的所述框架的邊中，所述空隙是以從被所述框架包圍的內部朝向所述框架的外部的方式形成。

6.根據權利要求1至5中任一項所述的蒸鍍掩模，其特征在于，

所述掩模本體的周緣部的向所述框架的接合為，折彎所述掩模本體的周緣部的一部分，藉此接合到與所述框架的內側相反的外周側壁。

7.根據權利要求1至6中任一項所述的蒸鍍掩模，其特征在于，

在內包所述空隙的所述框架的外周壁整體貼設有以磁性金屬板形成的面板。

8.根據權利要求7所述的蒸鍍掩模，其特征在于，

被所述面板包圍的所述空隙被減壓。

9.根據權利要求7所述的蒸鍍掩模，其特征在于，

在被所述面板包圍的所述空隙填充惰性氣體。

10.一種蒸鍍方法，其特征在于，包含：

以被蒸鍍基板、與權利要求1至9中任一項所述的蒸鍍掩模重合的方式配置的工序；以及

藉由來自與所述蒸鍍掩模分離而配置的蒸鍍源的蒸鍍材料的飛散而在所述被蒸鍍基板堆積所述蒸鍍材料的工序。

11.根據權利要求10所述的蒸鍍方法，其特征在于，

所述蒸鍍掩模的框架為額緣狀的矩形形狀，以所述空隙部從被以所述框架包圍的內部朝向所述框架的外部的方式形成的框架的邊成為上下的方式，配置所述被蒸鍍基板以及所述蒸鍍掩模。

12.一種有機EL顯示設備的制造方法，其特征在于，包含：

在支撐基板上至少形成TFT以及第一電極；

在所述支撐基板上使用權利要求10或11所述的蒸鍍方法蒸鍍有機材料而藉此形成有機層的層疊膜；以及

在所述層疊膜上形成第二電極。