[發(fā)明專利]氮化物半導(dǎo)體發(fā)光元件有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201780097121.4 | 申請日: | 2017-11-22 |
| 公開(公告)號: | CN111373552B | 公開(公告)日: | 2023-09-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 平野光;長澤陽祐 | 申請(專利權(quán))人: | 日機(jī)裝株式會社 |
| 主分類號: | H01L33/18 | 分類號: | H01L33/18 |
| 代理公司: | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人: | 任巖 |
| 地址: | 日本國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 氮化物 半導(dǎo)體 發(fā)光 元件 | ||
氮化物半導(dǎo)體發(fā)光元件具備發(fā)光元件結(jié)構(gòu)部,該發(fā)光元件結(jié)構(gòu)部具有至少包含n型層、活性層及p型層的多個氮化物半導(dǎo)體層。活性層具有量子阱結(jié)構(gòu),該量子阱結(jié)構(gòu)包含至少1個由GaN系半導(dǎo)體構(gòu)成的阱層,阱層中,n型層側(cè)的第1面與p型層側(cè)的第2面之間的最短距離在相對于所述氮化物半導(dǎo)體層的層疊方向垂直的平面內(nèi)變動,從發(fā)光元件結(jié)構(gòu)部射出的光的峰值發(fā)光波長短于354nm。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及具有由GaN系半導(dǎo)體構(gòu)成的發(fā)光層的氮化物半導(dǎo)體發(fā)光元件。
背景技術(shù)
以往,通過載流子(電子及空穴)的再結(jié)合而產(chǎn)生發(fā)光的發(fā)光層由InGaN系半導(dǎo)體構(gòu)成的氮化物半導(dǎo)體發(fā)光元件廣泛普及。
然而,發(fā)光層由GaN系半導(dǎo)體構(gòu)成的氮化物半導(dǎo)體發(fā)光元件、或者發(fā)光層由AlGaN系半導(dǎo)體構(gòu)成的氮化物半導(dǎo)體發(fā)光元件存在發(fā)光效率低的問題,而成為普及的障礙。需要說明的是,半導(dǎo)體發(fā)光元件的發(fā)光效率以所注入的電子轉(zhuǎn)換成光子的比例的量子效率的形式體現(xiàn),將著眼于在發(fā)光元件的內(nèi)部所產(chǎn)生的光子的比例稱為內(nèi)部量子效率,將著眼于放出至發(fā)光元件的外部的光子的比例稱為外部量子效率。
具體地說明上述問題。圖8是表示氮化物半導(dǎo)體發(fā)光元件的峰值發(fā)光波長與外部量子效率的關(guān)系的曲線圖。需要說明的是,圖8是非專利文獻(xiàn)1中所記載的曲線圖,匯總了各個企業(yè)、研究機(jī)構(gòu)在學(xué)術(shù)論文等中所報告的數(shù)據(jù)。另外,圖8的曲線圖的橫軸為峰值發(fā)光波長,縱軸為外部量子效率。另外,在圖8中,為了方便附圖的說明,對于非專利文獻(xiàn)1中記載的曲線圖,添加示出了表示點(diǎn)整體的傾向的曲線,其并非是嚴(yán)格的近似曲線。
如圖8所示,峰值發(fā)光波長為300nm以上且350nm以下的氮化物半導(dǎo)體發(fā)光元件與周圍的峰值發(fā)光波長相比,外部量子效率局部地變低。另外,峰值發(fā)光波長為285nm以下的氮化物半導(dǎo)體發(fā)光元件,隨著峰值發(fā)光波長變短而外部量子效率急劇地變低。一般而言,峰值發(fā)光波長為300nm以上且350nm以下的氮化物半導(dǎo)體發(fā)光元件是發(fā)光層由AlGaN系半導(dǎo)體或由GaN系半導(dǎo)體構(gòu)成的氮化物半導(dǎo)體發(fā)光元件,峰值發(fā)光波長為285nm以下的氮化物半導(dǎo)體發(fā)光元件是發(fā)光層由AlGaN系半導(dǎo)體構(gòu)成的氮化物半導(dǎo)體發(fā)光元件。
關(guān)于發(fā)光層由AlGaN系半導(dǎo)體構(gòu)成的氮化物半導(dǎo)體發(fā)光元件,根據(jù)本申請發(fā)明人等的潛心研究得知,可通過利用Ga的偏析來提高發(fā)光強(qiáng)度而提高外部量子效率(參照專利文獻(xiàn)1)。該Ga的偏析是指,在III-V族半導(dǎo)體的AlGaN中,Al與Ga一起進(jìn)入結(jié)晶結(jié)構(gòu)中的III族位點(diǎn)而被配置時,在相對于半導(dǎo)體層的成長方向垂直的平面內(nèi),局部地形成Ga的比例大(Al的比例少)的區(qū)域。
現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)1:日本專利第6194138號公報
非專利文獻(xiàn)
非專利文獻(xiàn)1:Michael?Kneissl,″A?Brief?Review?of?III-Nitride?UV?EmitterTechnologies?and?Their?Applications″,III-Nitride?Ultraviolet?Emitters,Chapter1,2016
發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明所要解決的課題
然而,發(fā)光層由GaN系半導(dǎo)體構(gòu)成的氮化物半導(dǎo)體發(fā)光元件與發(fā)光層由AlGaN系半導(dǎo)體構(gòu)成的氮化物半導(dǎo)體發(fā)光元件不同,由于在III族位點(diǎn)只配置Ga,因此不會發(fā)生偏析,無法利用與專利文獻(xiàn)1同樣的原理來提高外部量子效率,因此成為問題。
因此,本發(fā)明提供一種外部量子效率升高了的氮化物半導(dǎo)體發(fā)光元件,其具有由GaN系半導(dǎo)體構(gòu)成的發(fā)光層。
用于解決課題的手段
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