[發(fā)明專利]介質(zhì)感測

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201780096893.6
• 申請日: 2017-11-20
• 公開（公告）號: CN111356593B
• 公開（公告）日: 2022-06-24
• 發(fā)明（設計）人: 凱文·洛;喬迪·L·克萊伯恩
• 申請（專利權(quán)）人: 惠普發(fā)展公司;有限責任合伙企業(yè)
• 主分類號: B41J29/46
• 分類號: B41J29/46
• 代理公司: 北京德琦知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11018
• 代理人: 翟洪玲;周艷玲

介質(zhì)感測設備可以包括：電磁輻射源；光導，位于介質(zhì)饋送路徑的相對于電磁輻射源的相反側(cè)上；以及光電檢測器，用于檢測來自電磁輻射源并由光導引導的電磁輻射。光電檢測器響應于介質(zhì)阻礙對來自電磁輻射源的電磁輻射的檢測，而檢測加熱壓力輥(HPR)的上游的介質(zhì)的存在。

技術(shù)領域

本公開涉及介質(zhì)感測設備和打印設備。

背景技術(shù)

加熱壓力輥(HPR)可以在打印中以及在打印設備和系統(tǒng)內(nèi)使用，以壓平或熨平可以在其上打印流體的介質(zhì)，并有助于固化打印在介質(zhì)上的流體。介質(zhì)饋送路徑可以在打印設備內(nèi)提供通路，HPR駐留在該通路中，以允許打印設備在其上打印的介質(zhì)移入和移出HPR。以這種方式，HPR協(xié)助打印設備準備或修整打印介質(zhì)。

發(fā)明內(nèi)容

本公開的一個方面提供一種介質(zhì)感測設備，包括：電磁輻射源；光導，位于介質(zhì)饋送路徑的相對于所述電磁輻射源的相反側(cè)上；和光電檢測器，用于檢測來自所述電磁輻射源并由所述光導引導的電磁輻射，其中，所述光電檢測器響應于介質(zhì)阻礙對來自所述電磁輻射源的電磁輻射的檢測，而檢測加熱壓力輥的上游的所述介質(zhì)的存在。

本公開的另一方面提供一種打印設備，包括：加熱壓力輥；介質(zhì)饋送路徑，用于將介質(zhì)饋送到所述加熱壓力輥中，和從所述加熱壓力輥饋送出介質(zhì)；和介質(zhì)感測設備，在所述介質(zhì)饋送路徑內(nèi)位于所述加熱壓力輥的上游，所述介質(zhì)感測設備包括：電磁輻射源；光導，位于所述介質(zhì)饋送路徑的相對于所述電磁輻射源的相反側(cè)上；和光電檢測器，用于檢測來自所述電磁輻射源并從所述光導引導的電磁輻射，其中，所述介質(zhì)感測設備響應于介質(zhì)阻礙對來自所述電磁輻射源的電磁輻射的檢測，而檢測所述加熱壓力輥的上游的所述介質(zhì)的存在。

本公開的又一方面提供一種介質(zhì)感測設備，包括：電磁輻射源；光導，位于介質(zhì)饋送路徑的相對于所述電磁輻射源的相反側(cè)上；光電檢測器，用于檢測來自所述電磁輻射源并由所述光導引導的電磁輻射；第一透明隔熱罩，所述第一透明隔熱罩在所述電磁輻射源的上方，用于保護所述電磁輻射源以免受熱量的影響；和第二透明隔熱罩，所述第二透明隔熱罩在所述光電檢測器的上方，用于保護所述光電檢測器以免受熱量的影響，其中，所述光電檢測器響應于介質(zhì)阻礙對來自所述電磁輻射源的電磁輻射的檢測，而檢測在介質(zhì)饋送路徑之外的所述介質(zhì)的存在。

附圖說明

附圖例示本文描述的原理的各種示例，并且是說明書的一部分。所給出的例示的示例僅用于說明，并不限制權(quán)利要求的范圍。

圖1是根據(jù)本文描述的原理的示例的介質(zhì)感測設備的透視圖。

圖2是根據(jù)本文描述的原理的示例的圖1的介質(zhì)感測設備的透視圖。

圖3是根據(jù)本文描述的原理的示例的打印設備的側(cè)視剖視圖，其包括圖1和圖2的介質(zhì)感測設備。

圖4是根據(jù)本文描述的原理的示例的圖3的打印設備的側(cè)視剖視圖，其包括圖1和圖2的如圖3的框A內(nèi)所描繪的介質(zhì)感測設備。

圖5是根據(jù)本文描述的原理的示例的圖3的打印設備的剖視透視圖，其描繪介質(zhì)感測設備。

圖6是根據(jù)本文描述的原理的示例的打印設備的框圖。

在所有附圖中，相同的附圖標記表示相似但不一定相同的元件。附圖不一定按比例繪制，并且某些部分的尺寸可能被擴大以更清楚地例示所示的示例。此外，附圖提供了與描述一致的示例和/或?qū)嵤├蝗欢枋霾幌抻诟綀D中提供的示例和/或?qū)嵤├?/p>

具體實施方式