[發明專利]介質感測有效
| 申請號: | 201780096893.6 | 申請日: | 2017-11-20 |
| 公開(公告)號: | CN111356593B | 公開(公告)日: | 2022-06-24 |
| 發明(設計)人: | 凱文·洛;喬迪·L·克萊伯恩 | 申請(專利權)人: | 惠普發展公司;有限責任合伙企業 |
| 主分類號: | B41J29/46 | 分類號: | B41J29/46 |
| 代理公司: | 北京德琦知識產權代理有限公司 11018 | 代理人: | 翟洪玲;周艷玲 |
| 地址: | 美國得*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 介質 | ||
1.一種介質感測設備,包括:
電磁輻射源;
光導,位于介質饋送路徑的相對于所述電磁輻射源的相反側上;和
光電檢測器,用于檢測來自所述電磁輻射源并由所述光導引導的電磁輻射,
其中,所述光電檢測器響應于介質阻礙對來自所述電磁輻射源的電磁輻射的檢測,而檢測加熱壓力輥的上游的所述介質的存在。
2.根據權利要求1所述的介質感測設備,包括在所述電磁輻射源的上方的第一透明隔熱罩。
3.根據權利要求1所述的介質感測設備,包括在所述光電檢測器的上方的第二透明隔熱罩。
4.根據權利要求3所述的介質感測設備,其中,所述第二透明隔熱罩包括光擴散光學器件。
5.根據權利要求1所述的介質感測設備,其中所述光導包括:
第一光導;和
第二光導,
其中,所述第一光導將來自所述電磁輻射源的電磁輻射引導到所述第二光導,
其中,所述第二光導將從所述第一光導接收的電磁輻射引導到所述光電檢測器,并且
其中,所述電磁輻射源和所述光電檢測器位于分開的軸線上,所述分開的軸線由所述電磁輻射源與所述第一光導之間的第一電磁輻射路徑以及所述第二光導與所述光電檢測器之間的第二電磁輻射路徑形成。
6.根據權利要求1所述的介質感測設備,包括:
電磁輻射發射和檢測設備,
其中,所述電磁輻射發射和檢測設備將電磁輻射穿過所述介質饋送路徑傳輸到一個光導。
7.一種打印設備,包括:
加熱壓力輥;
介質饋送路徑,用于將介質饋送到所述加熱壓力輥中,和從所述加熱壓力輥饋送出介質;和
介質感測設備,在所述介質饋送路徑內位于所述加熱壓力輥的上游,所述介質感測設備包括:
電磁輻射源;
光導,位于所述介質饋送路徑的相對于所述電磁輻射源的相反側上;和
光電檢測器,用于檢測來自所述電磁輻射源并從所述光導引導的電磁輻射,
其中,所述介質感測設備響應于介質阻礙對來自所述電磁輻射源的電磁輻射的檢測,而檢測所述加熱壓力輥的上游的所述介質的存在。
8.根據權利要求7所述的打印設備,包括檢修門,其中所述介質饋送路徑的一部分被限定在所述檢修門內,并且其中所述介質感測設備被定位成用以檢測在所述檢修門的除所述介質饋送路徑之外的一部分內存在的介質。
9.根據權利要求7所述的打印設備,其中,所述電磁輻射源和所述光電檢測器被包括在靠近所述加熱壓力輥的公共印刷電路組件上。
10.根據權利要求7所述的打印設備,包括饋送輥,所述饋送輥在所述介質饋送路徑內位于所述介質感測設備的上游,
其中,所述介質感測設備檢測所述饋送輥內的介質的存在。
11.根據權利要求7所述的打印設備,包括:
電磁輻射發射和檢測設備,
其中,所述電磁輻射發射和檢測設備將電磁輻射穿過所述介質饋送路徑傳輸到一個光導。
12.根據權利要求7所述的打印設備,包括在所述電磁輻射源的上方的第一透明隔熱罩,用于保護所述電磁輻射源以免受來自所述加熱壓力輥的熱量的影響。
13.根據權利要求7所述的打印設備,包括在所述光電檢測器的上方的第二透明隔熱罩,用于保護所述光電檢測器以免受來自所述加熱壓力輥的熱量的影響,其中所述第二透明隔熱罩包括光擴散光學器件。
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