[發(fā)明專利]基板搬運(yùn)裝置、曝光裝置、平板顯示器的制造方法、元件制造方法、基板搬運(yùn)方法以及曝光方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201780095223.2
• 申請日: 2017-09-29
• 公開（公告）號: CN111133383A
• 公開（公告）日: 2020-05-08
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 青木保夫
• 申請（專利權(quán)）人: 株式會社尼康
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;H01L21/677
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205
• 代理人: 馬爽;臧建明

本發(fā)明為了縮短基板更換所耗的時間而提供一種基板搬運(yùn)裝置，其將基板搬運(yùn)至保持裝置，且包括：第一保持部，在所述保持裝置的上方保持所述基板；第二保持部，保持經(jīng)所述第一保持部保持的所述基板的一部分；以及驅(qū)動部，以所述第一保持部自所述保持裝置的上方退避的方式，使所述保持裝置及所述第二保持部與所述第一保持部中的一者相對于另一者相對移動；且所述保持裝置、所述第一保持部及所述第二保持部在所述驅(qū)動部進(jìn)行的相對移動中保持所述基板。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種基板搬運(yùn)裝置、曝光裝置、平板顯示器(flat panel display)的制造方法、元件制造方法、基板搬運(yùn)方法以及曝光方法。

背景技術(shù)

在制造液晶顯示器件、半導(dǎo)體器件等電子元件的光刻步驟中，一直使用曝光裝置，所述曝光裝置利用能量束將形成于掩模(或光掩模(reticle))的圖案轉(zhuǎn)印至基板(由玻璃或塑料等構(gòu)成的基板、半導(dǎo)體晶片(wafer)等)上。

此種曝光裝置中，進(jìn)行保持基板的平臺裝置上的經(jīng)曝光基板的搬出、及新基板向平臺裝置上的搬入。關(guān)于基板的搬運(yùn)方法，例如專利文獻(xiàn)1所記載的方法已為人所知。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：國際公開第2013/150787號

發(fā)明內(nèi)容

根據(jù)第一實(shí)施方式，提供一種基板搬運(yùn)裝置，其將基板搬運(yùn)至保持裝置，且包括：第一保持部，在所述保持裝置的上方保持所述基板；第二保持部，保持經(jīng)所述第一保持部保持的所述基板的一部分；以及驅(qū)動部，以所述第一保持部自所述保持裝置的上方退避的方式，使所述保持裝置及所述第二保持部與所述第一保持部中的一者相對于另一者相對移動；且所述保持裝置、所述第一保持部及所述第二保持部在所述驅(qū)動部進(jìn)行的相對移動中保持所述基板。

根據(jù)第二實(shí)施方式，提供一種曝光裝置，其包括：所述基板搬運(yùn)裝置；以及光學(xué)系統(tǒng)，對經(jīng)搬運(yùn)至所述保持裝置的所述基板照射能量束，對所述基板進(jìn)行曝光。

根據(jù)第三實(shí)施方式，提供一種平板顯示器制造方法，其包括：使用所述曝光裝置對基板進(jìn)行曝光；以及對經(jīng)所述曝光的所述基板進(jìn)行顯影。

根據(jù)第四實(shí)施方式，提供一種元件制造方法，其包括：使用所述曝光裝置對基板進(jìn)行曝光；以及對經(jīng)所述曝光的所述基板進(jìn)行顯影。

根據(jù)第五實(shí)施方式，提供一種基板搬運(yùn)方法，其將基板搬運(yùn)至保持裝置，且包括：在所述保持裝置的上方通過第一保持部及第二保持部而保持所述基板；以及以所述第一保持部自所述保持裝置的上方退避的方式，使所述保持裝置及所述第二保持部與所述第一保持部中的一者相對于另一者相對移動；且在相對移動中，所述保持裝置、所述第一保持部及所述第二保持部保持所述基板。

根據(jù)第六實(shí)施方式，提供一種曝光方法，其包括：通過所述基板搬運(yùn)方法向所述保持裝置搬運(yùn)所述基板；以及對所述基板照射能量束，對所述基板進(jìn)行曝光。

根據(jù)第七實(shí)施方式，提供一種平板顯示器制造方法，其包括：使用所述曝光方法對所述基板進(jìn)行曝光；以及對經(jīng)所述曝光的所述基板進(jìn)行顯影。

根據(jù)第八實(shí)施方式，提供一種元件制造方法，其包括：使用所述曝光方法對所述基板進(jìn)行曝光；以及對經(jīng)所述曝光的所述基板進(jìn)行顯影。

再者，也可將下述實(shí)施方式的構(gòu)成適當(dāng)改良，另外，也可將至少一部分代替為其他構(gòu)成物。進(jìn)而，對其配置并無特別限定的構(gòu)成要件不限于實(shí)施方式所公開的配置，可配置于可達(dá)成其功能的位置。

附圖說明

[圖1]圖1為概略性地表示第一實(shí)施方式的曝光裝置的構(gòu)成的圖。

[圖2]圖2為圖1的曝光裝置(局部省略)所具有的平臺裝置及基板搬運(yùn)裝置的平面圖。