[發明專利]真空蒸發源

在審

• 申請號: 201780094759.2
• 申請日: 2017-09-14
• 公開（公告）號: CN111051564A
• 公開（公告）日: 2020-04-21
• 發明（設計）人: 黃道元
• 申請（專利權）人: 艾爾法普拉斯株式會社
• 主分類號: C23C14/26
• 分類號: C23C14/26;C23C14/24
• 代理公司: 北京英賽嘉華知識產權代理有限責任公司 11204
• 代理人: 王達佐;洪欣

1.包括坩堝的真空蒸發源，包括：

第一加熱線，其用于加熱所述坩堝；以及

第一上部固定部分，其用于固定所述第一加熱線的上部部分。

2.如權利要求1所述的真空蒸發源，其中所述第一加熱線包括以向上凸的形狀彎曲的第一向上彎曲部分，以及

其中所述第一上部固定部分包括：

彎曲的下部固定構件，其用于支撐所述第一向上彎曲部分的下部部分；以及

彎曲的上部固定構件，其用于支撐所述第一向上彎曲部分的上部部分。

3.如權利要求2所述的真空蒸發源，其中所述第一加熱線還包括與所述第一向上彎曲部分間隔的以向上凸的形狀彎曲的第二向上彎曲部分，

其中所述彎曲的下部固定構件具有圍繞所述坩堝的環形，以將所述第一向上彎曲部分和所述第二向上彎曲部分的每一個下部部分支撐在一起，以及

其中所述彎曲的上部固定構件具有圍繞所述坩堝的環形，以將所述第一向上彎曲部分和所述第二向上彎曲部分的每一個上部部分支撐在一起。

4.如權利要求2所述的真空蒸發源，其中所述真空蒸發源還包括：

殼體，其具有容納所述坩堝的內部空間，以及

反射板，其設置在所述內部空間的側面與所述第一加熱線之間，以及

其中所述彎曲的下部固定構件和所述彎曲的上部固定構件中的每一個被所述反射板支撐。

5.如權利要求2所述的真空蒸發源，其中所述第一加熱線包括分別在所述第一向上彎曲部分的兩個側面上在向下方向上延伸的第一向下直的部分和第二向下直的部分，以及

其中所述第一向下直的部分和所述第二向下直的部分穿透所述彎曲的下部固定構件。

6.如權利要求2所述的真空蒸發源，其中所述彎曲的下部固定構件和所述彎曲的上部固定構件中的每一個均由絕緣材料制成。

7.如權利要求1所述的真空蒸發源，其中所述真空蒸發源還包括：

第二加熱線，其用于加熱所述坩堝，以及

第二上部固定部分，其用于固定所述第二加熱線的上部部分，以及

其中所述第一加熱線定位成與所述坩堝的上半部分相對應，以及

其中所述第二加熱線定位成與所述坩堝的下半部分相對應。