[發明專利]真空蒸發源在審
| 申請號： | 201780094751.6 | 申請日： | 2017-09-14 |
| 公開（公告）號： | CN111051562A | 公開（公告）日： | 2020-04-21 |
| 發明（設計）人： | 黃道元 | 申請（專利權）人： | 艾爾法普拉斯株式會社 |
| 主分類號： | C23C14/24 | 分類號： | C23C14/24;C23C14/26 |
| 代理公司： | 北京英賽嘉華知識產權代理有限責任公司 11204 | 代理人： | 王達佐;洪欣 |
| 地址： | 韓國忠*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 真空 蒸發 | ||
【權利要求書】：
1.具有在殼體的內部空間中的坩堝的真空蒸發源，包括：
底部反射器，其定位于所述坩堝的底部與所述內部空間的底部表面之間形成的下部空間的上半部分中；
支撐件，其設置在所述內部空間的底部表面上以支撐所述底部反射器；以及
加熱器，其定位于所述內部空間的側面與所述坩堝的外側之間并且延伸至所述底部反射器上表面。
2.如權利要求1所述的真空蒸發源，其中所述底部反射器具有其中多個反射板重疊的模塊形狀。
3.如權利要求2所述的真空蒸發源，其中定位于所述多個反射板的最高位置處的最上反射板由絕緣材料制成，以及
其中所述加熱器的下端支撐在所述最上反射板的上表面上。
4.如權利要求3所述的真空蒸發源，其中所述最上反射板由作為所述絕緣材料的陶瓷制成，并且具有盤型。
5.如權利要求1所述的真空蒸發源，其中所述支撐件包括：
豎直支撐件，其豎直地放置在所述內部空間的底部表面上；以及
水平支撐件，其設置在所述豎直支撐件的上端，被設置成與所述內部空間的底部表面是水平的，并且所述底部反射器安裝在所述水平支撐件上，
其中確定所述豎直支撐件的高度，使得所述底部反射器放置在所述下部空間的上半部分上。
6.如權利要求1所述的真空蒸發源，還包括：
底部反射板，其設置在所述內部空間的底部表面上。
下載完整專利技術內容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于艾爾法普拉斯株式會社，未經艾爾法普拉斯株式會社許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201780094751.6/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 同類專利
- 專利分類
