[發明專利]蝕刻裝置以及顯示裝置的制造方法

在審

• 申請號: 201780094363.8
• 申請日: 2017-09-04
• 公開（公告）號: CN111096071A
• 公開（公告）日: 2020-05-01
• 發明（設計）人: 谷山博己;岡部達;齋田信介;市川伸治;郡司遼佑;仲田芳浩;井上彬;神村浩治
• 申請（專利權）人: 夏普株式會社
• 主分類號: H05B33/10
• 分類號: H05B33/10;H01L27/32;H01L51/50;H05B33/02
• 代理公司: 深圳市賽恩倍吉知識產權代理有限公司 44334
• 代理人: 王娟

1.一種蝕刻裝置，其特征在于，具備：

藥液處理槽，其在內部輸送基板；以及

噴射部，其配置在所述藥液處理槽的內部，具有朝向與所述基板的表面不相交的方向的吹出口，并且通過所述吹出口噴射霧狀的蝕刻劑藥液。

2.根據權利要求1所述的蝕刻裝置，其特征在于，

所述吹出口朝向與所述基板的輸送方向平行的方向。

3.根據權利要求1或2所述的蝕刻裝置，其特征在于，

在所述藥液處理槽的內部配置有多個所述噴射部。

4.根據權利要求1至3中任一項所述的蝕刻裝置，其特征在于，

還具備冷卻部，該冷卻部配置在所述藥液處理槽的上游，對搬入到所述藥液處理槽之前的所述基板進行冷卻。

5.根據權利要求4所述的蝕刻裝置，其特征在于，

所述冷卻部將所述基板冷卻至比所述蝕刻裝置的氛圍溫度低5℃以上的溫度。

6.根據權利要求1至5中任一項所述的蝕刻裝置，其特征在于，

在所述藥液處理槽的內部，從所述基板的輸送方向觀察以傾斜的狀態輸送所述基板。

7.根據權利要求1至6中任一項所述的蝕刻裝置，其特征在于，

所述噴射部噴射比所述蝕刻裝置的氛圍溫度高10℃以上的所述蝕刻劑藥液。

8.根據權利要求1至7中任一項所述的蝕刻裝置，其特征在于，

在所述藥液處理槽的內部，使所述基板暫時停止。

9.一種顯示器件的制造方法，其特征在于，具有如下工序：

在藥液處理槽的內部輸送基板的工序；以及

使配置在所述藥液處理槽的內部，具有朝向與所述基板的表面不相交的方向的吹出口的噴射部，通過所述吹出口噴射霧狀的蝕刻劑藥液的工序。