[發明專利]蒸鍍裝置、蒸鍍方法以及有機EL顯示裝置的制造方法在審
| 申請號: | 201780093370.6 | 申請日: | 2017-08-21 |
| 公開(公告)號: | CN111032907A | 公開(公告)日: | 2020-04-17 |
| 發明(設計)人: | 岸本克彥;崎尾進 | 申請(專利權)人: | 堺顯示器制品株式會社 |
| 主分類號: | C23C14/50 | 分類號: | C23C14/50;H01L51/50;H05B33/10;H01L27/32 |
| 代理公司: | 深圳市賽恩倍吉知識產權代理有限公司 44334 | 代理人: | 王娟 |
| 地址: | 日本國大*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 裝置 方法 以及 有機 el 顯示裝置 制造 | ||
本發明提供一種在被蒸鍍基板與蒸鍍掩模的對位時不易受到磁場的影響,并且通過在蒸鍍時使用強烈地吸引蒸鍍掩模而使被蒸鍍基板與蒸鍍掩模接近的磁性卡盤,從而可防止磁性卡盤的發熱的蒸鍍裝置、蒸鍍方法以及有機EL顯示裝置的制造方法。在該蒸鍍裝置中,磁性卡盤(3)具備永久磁鐵(3A)和電磁鐵(3B)。
技術領域
本發明涉及一種例如蒸鍍有機EL顯示裝置的有機層的蒸鍍裝置、蒸鍍方法以及有機EL顯示裝置的制造方法。
背景技術
例如,在制造有機EL顯示裝置的情況下,在支承基板上形成TFT等驅動元件、平坦化膜以及電極,有機層按照每像素對應地層疊于該電極上。該有機層不耐水分而無法進行蝕刻。因此,有機層的層疊通過如下方式進行:將支承基板(被蒸鍍基板)與蒸鍍掩模重疊配置,穿過該蒸鍍掩模的開口來進行有機材料的蒸鍍。并且,在所需的像素的電極上僅層疊有所需的有機材料。該被蒸鍍基板與蒸鍍掩模在盡量不接近時不會僅在像素的準確區域形成有機層。當并未僅在準確的像素的區域沉積有機材料時,顯示圖像易于變得不清晰。因此,蒸鍍掩模使用磁性體,并使用通過在永久磁鐵或電磁鐵與蒸鍍掩模之間夾裝被蒸鍍基板,從而使被蒸鍍基板與蒸鍍掩模接近的磁性卡盤(例如參照專利文獻1)。
現有技術文獻
專利文獻
專利文獻1:日本特開2008-024956號公報
發明內容
本發明所要解決的技術問題
作為蒸鍍掩模,以往使用金屬掩模,但是近年來,存在為了形成更精細的開口而使用由樹脂膜形成的,掩模的開口的周圍被金屬支承層支承的混合型的蒸鍍掩模的傾向。像混合掩模那樣,磁性體少的蒸鍍掩模如果不是更強的磁場(magnetic field)則無法進行充分的吸附。
如上所述,作為磁性卡盤,使用永久磁鐵或電磁鐵。但是,由于永久磁鐵會一直產生磁場,因此在蒸鍍前將被蒸鍍基板與蒸鍍掩模對位時磁場也起作用。因此,當磁場較強時,在對位時蒸鍍掩模被被蒸鍍基板吸附,難以僅使被蒸鍍基板與蒸鍍掩模中的一方移動來進行對位。為了幾乎不受到該磁場的影響地進行對位,需要遠離永久磁鐵地進行對位。但是,在遠離永久磁鐵地進行對位之后再次使永久磁鐵靠近被蒸鍍基板時,在其移動過程中存在有蒸鍍掩模橫向偏移地被吸附的可能性。如果在靠近永久磁鐵時蒸鍍掩模產生位置偏移,則無法進行精細的蒸鍍。此外,當存在有永久磁鐵的磁場時,還存在有在裝配或拆卸蒸鍍掩模等時難以進行操作的問題。
另一方面,當使用電磁鐵時,通過斷開對電磁鐵的線圈施加的電流,從而將磁場設為幾乎為0,通過施加電流,可產生磁場來進行吸附。因此,能夠在對位時等不施加磁場,且在對位后施加磁場,因此被蒸鍍基板與蒸鍍掩模的對位、蒸鍍掩模等的裝配、拆卸等變得容易。并且,不用使電磁鐵移動而僅通過施加電流來產生磁場。因此,即使在對位后產生磁場,蒸鍍掩模或被蒸鍍基板中的任一者均不產生移動,可以保持準確的位置。
然而,在使用電磁鐵對蒸鍍掩模進行吸引的情況下,為了產生較大的磁場,需要增大電流或增多線圈的匝數。其原因在于:電磁鐵的磁場強度與電磁鐵的線圈匝數和在該線圈中流通的電流之積成正比。因此,在為了增大磁場而增大電流或者增多線圈匝數的任意情況下,發熱量都會變大。原本在電磁鐵的線圈中流通有大電流,因此針對電磁鐵的線圈使用電阻較小的電線,但從成本的關系考慮,與銅線相比而言更傾向于使用鋁線,從而會因電線的電阻損耗的增加而造成電磁鐵更大程度地發熱。而且,能夠增大當電磁鐵使用芯體(鐵芯)時所產生的磁場,但也會在芯體中產生渦電流而產生渦電流的發熱。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于堺顯示器制品株式會社,未經堺顯示器制品株式會社許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201780093370.6/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 同類專利
- 專利分類





